Carl Zeiss SMT
🇩🇪 Deutschland aktiv
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Patente
1.949 gesamt| Patent | |||
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17.06.2026
Verfahren und Vorrichtung zum Spülen einer Abtragsfront
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Zusammenfassung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Spülen einer Abtragsfront (4) an einer durch materialabtragende Bearbeitung gebildeten Hohlstruktur (2) in einem Werkstück, bevorzugt in einem Substrat für einen EUV-Spiegel, umfassend: Zuführen eines Fluids (6) zu der Abtragsfront (4) mittels einer bevorzugt flexiblen Fluidzuführung (7). Bei dem Verfahren weist die Fluidzuführung (7) zum Zuführen des Fluids (6) zu der Abtragsfront (4) und/oder zum Abführen des Fluids (6) von der Abtragsfront (4) mindestens eine in mindestens einer Raumrichtung periodische Außenstruktur, bevorzugt eine helixförmige Außenstruktur (9a,b) auf. Die Erfindung betrifft auch eine zugehörige Vorrichtung zum Spülen einer Abtragsfront (4). |
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10.06.2026
Spiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem Gitterstruktur und Verfahren zur Herstellung eines Spektralfilters
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Status
Angemeldet am 25.11.2019
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
A mirror for an illumination optical unit (4) of a projection exposure apparatus (1) comprises a spectral filter in the form of a grating structure (30), wherein the grating structure (30) has a maximum edge steepness (b) in the range of 15° to 60°. |
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11.03.2026
Pupillenfacettenspiegel, Beleuchtungsoptik und Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2018
Erteilt am 11.03.2026
Vertretung
Zusammenfassung
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11.03.2026
Vorrichtung und Verfahren für ein Rastersondenmikroskop
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2018
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
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11.03.2026
Verfahren zum Auswerten von Messwerten einer Aberration eines Projektionsobjektivs
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
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04.03.2026
Vorrichtung und Verfahren zur Überprüfung eines Bauteils und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
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04.03.2026
Einzelspiegel für einen Facettenspiegel einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.04.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
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04.03.2026
Verfahren zur Nachbearbeitung und zur Handhabung von Mems-Chips
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Zusammenfassung
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11.02.2026
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
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11.02.2026
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
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