ASML Logo

ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

5.380 gesamt
Patent
03.03.2016
Method for controlling a distance between two objects, inspection apparatus and method
WO2016030227
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.03.2016
Metrology method, target and substrate
WO2016030255
Optik & Fototechnik
03.03.2016
Laser-driven photon source and inspection apparatus including such a laser-driven photon source
WO2016030485
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.03.2016
An electrostatic clamp and a method for manufacturing the same
WO2016030069
Optik & Fototechnik
03.03.2016
Method and apparatus for spectrally broadening radiation
WO2016030177
Optik & Fototechnik
02.03.2016
Lithographieverfahren und lithographische Vorrichtung
EP2073063
Optik & Fototechnik
18.02.2016
Lithographic apparatus and method
WO2016023667
Optik & Fototechnik
18.02.2016
Free electron laser radiation source for the euv
WO2016023740
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.02.2016
Stützstruktur, Verfahren zur Temperatursteuerung dafür und Vorrichtungen damit
EP2984524
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.02.2016
Lithography apparatus and method of manufacturing a device
WO2016020121
Optik & Fototechnik
11.02.2016
A lithographic apparatus and an object positioning system
WO2016020170
Optik & Fototechnik
11.02.2016
System and method to reduce oscillations in extreme ultraviolet light generation
WO2016022267
Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik
04.02.2016
Alignment sensor and lithographic apparatus background
WO2016015955
Optik & Fototechnik
04.02.2016
Illumination system, inspection apparatus including such an illumination system, inspection method and manufacturing method
WO2016015987
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
28.01.2016
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016012174
Optik & Fototechnik
28.01.2016
Conditioning system and lithographic apparatus comprising a conditioning system
WO2016012175
Optik & Fototechnik
28.01.2016
Radiation Source
WO2016012192
Elektronik & Schaltungstechnik
28.01.2016
Method for determining a process window for a lithographic process, associated apparatuses and a computer program
WO2016012316
Optik & Fototechnik
21.01.2016
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016008641
Optik & Fototechnik
21.01.2016
Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product
WO2016008647
Optik & Fototechnik
21.01.2016
Lithographic method and apparatus
WO2016008656
Optik & Fototechnik
21.01.2016
Optimization of assist features and source
WO2016008711
Optik & Fototechnik
21.01.2016
Lithography apparatus and method of manufacturing devices
WO2016008754
Optik & Fototechnik
21.01.2016
Calibration Of Photoelectromagnetic Sensor in A Laser Source
WO2016010673
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
20.01.2016
Strahlungsquelle und Verfahren für eine Lithografische Vorrichtung sowie Geräteherstellungsverfahren
EP2745648
Elektronik & Schaltungstechnik
14.01.2016
Lithographic apparatus and method
WO2016005117
Optik & Fototechnik
14.01.2016
Inspection apparatus, inspection method and device manufacturing method
WO2016005167
Optik & Fototechnik
14.01.2016
Actuator, positioning device, lithographic apparatus, and method for manufacturing an actuator
WO2016005568
Optik & Fototechnik
14.01.2016
Extreme Ultraviolet Light Source
WO2016007312
Elektronik & Schaltungstechnik
07.01.2016
A lithographic apparatus and a method of manufacturing a lithographic apparatus
WO2016000903
Optik & Fototechnik
07.01.2016
Lithographic apparatus and a method of manufacturing a device using a lithographic apparatus
WO2016000883
Optik & Fototechnik
07.01.2016
Method of determining dose, inspection apparatus, patterning device, substrate and device manufacturing method
WO2016000914
Optik & Fototechnik
06.01.2016
Beseitigung von durch eine Strahlungsquelle Erzeugten Teilchen
EP1743221
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
30.12.2015
Etch Variation Tolerant Optimization
WO2015197313
Optik & Fototechnik
30.12.2015
Lithographic apparatus and method
WO2015197260
Optik & Fototechnik
23.12.2015
Lithographic apparatus, object positioning system and device manufacturing method
WO2015193053
Optik & Fototechnik
17.12.2015
Computational Wafer Inspection
WO2015189026
Optik & Fototechnik
16.12.2015
Lithographievorrichtung mit einer Wechselbrücke
EP2189849
Optik & Fototechnik
10.12.2015
Object positioning system, control system, lithographic apparatus, object positioning method and device manufacturing method
WO2015185301
Optik & Fototechnik
10.12.2015
Lithographic apparatus
WO2015185320
Optik & Fototechnik

Wer vertritt ASML?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

Zum Anmelder-Profil

Technologiefelder

Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen