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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
23.03.2023
Metrology method and device
WO2023041274
Software & Datenverarbeitung
22.03.2023
System und Verfahren zur Inspektion durch Klassifizierung und Identifizierung von Fehlermechanismen in einem System mit Geladenen Teilchen
EP4152096
Optik & Fototechnik
16.03.2023
Metrology method and associated metrology and lithographic apparatuses
WO2023036521
Optik & Fototechnik
16.03.2023
Patterning parameter determination using a charged particle inspection system
WO2023036539
Optik & Fototechnik
15.03.2023
Bildverbesserung für eine Mehrschichtstruktur bei der Inspektion mit Geladenen Teilchenstrahlen
EP4147195
Software & Datenverarbeitung
15.03.2023
Verbesserung eines Sem-Bildes
EP4148765
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.03.2023
Systeme und Verfahren zur Erkennung von Defekten in einer Strukturierungsvorrichtung
EP4148499
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
09.03.2023
Metrology system, lithographic apparatus, and method
WO2023030832
Optik & Fototechnik
09.03.2023
Method of evaluating selected set of patterns
WO2023030807
Optik & Fototechnik
09.03.2023
Method and system of sample edge detection and sample positioning for image inspection apparatus
WO2023030814
Optik & Fototechnik
02.03.2023
Improved Broadband Radiation Generation in Photonic Crystal Or Highly Non-Linear Fibres
WO2023025578
Optik & Fototechnik
01.03.2023
Pellikelrahmen für Euv-Lithographie
EP4139743
Optik & Fototechnik
01.03.2023
Konfiguration eines Eingebermodells
EP4139749
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
01.03.2023
Verfahren zur Kalibrierung eines Optischen Messsystems und Optisches Messsystem
EP4139628
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.03.2023
Verbesserte Breitbandige Strahlungserzeugung in Photonischen Kristallen oder Hochgradig Nichtlinearen Fasern
EP4141531
Optik & Fototechnik
23.02.2023
Metrology method and apparatus
WO2023020856
Optik & Fototechnik
23.02.2023
Metrology Target Optimization
WO2023021097
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
23.02.2023
Compensating optical system for nonuniform surfaces, a metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof
WO2023020791
Optik & Fototechnik
22.02.2023
Metrologiemessverfahren und -Vorrichtung
EP4137889
Optik & Fototechnik
16.02.2023
Lithographic method to enhance illuminator transmission
WO2023016815
Optik & Fototechnik
16.02.2023
A method for modeling measurement data over a substrate area and associated apparatuses
WO2023016791
Optik & Fototechnik
16.02.2023
Intensity measurements using off-axis illumination
WO2023016773
Optik & Fototechnik
16.02.2023
Match the aberration sensitivity of the metrology mark and the device pattern
WO2023016752
Optik & Fototechnik
16.02.2023
Electrostatic holder, object table and lithographic apparatus
WO2023016738
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.02.2023
Thermal conditioning apparatus and method
WO2023016734
Optik & Fototechnik
16.02.2023
A method for modeling measurement data over a substrate area and associated apparatuses
WO2023016705
Optik & Fototechnik
16.02.2023
A sensor positioning method, a positioning system, a lithographic apparatus, a metrology apparatus, and a device manufacturing method
WO2023016732
Optik & Fototechnik
15.02.2023
Ladungsteilchenbeurteilungswerkzeug, Inspektionsverfahren
EP4133515
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.02.2023
Blendenanordnung, Strahlmanipulatoreinheit, Verfahren zum Manipulieren Geladener Teilchenstrahlen und Geladene Teilchenprojektionsvorrichtung
EP4133514
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.02.2023
Sensorpositionierungsverfahren, Positionierungssystem, Lithografische Vorrichtung, Metrologievorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP4134744
Optik & Fototechnik
15.02.2023
Beleuchtungsquelle und Zugehörige Messvorrichtung
EP4134734
Optik & Fototechnik
15.02.2023
Konditioniervorrichtung und -Verfahren
EP4134747
Optik & Fototechnik
15.02.2023
Verfahren zur Modellierung von Messdaten über eine Substratfläche und Zugehörige Vorrichtungen
EP4134746
Optik & Fototechnik
15.02.2023
Verfahren zur Modellierung von Messdaten über eine Substratfläche und Zugehörige Vorrichtungen
EP4134745
Optik & Fototechnik
15.02.2023
Überlagerungsmessung unter Verwendung von Ausgeglichenen Kapazitätszielen
EP4134749
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
15.02.2023
Elektrostatischer Halter, Objekttisch und Lithografische Vorrichtung
EP4134748
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.02.2023
Seed-Lasersystem für Strahlungsquelle
EP4133557
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.02.2023
Metrology target, patterning device and metrology method
WO2023012338
Optik & Fototechnik
09.02.2023
Optical element for use in metrology systems
WO2023011905
Optik & Fototechnik
09.02.2023
Charged-particle optical device
WO2023011824
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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