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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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6.250 gesamt
Patent
03.03.2004
Apparat zur Verbesserung der Verteilung und Leistung eines Induktiv Gekoppelten Plasmas
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.02.2004
Method for manufacturing nonradiative dielectric waveguide and nonradiative dielectric waveguide
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.02.2004
Method for manufacturing semiconductor device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.02.2004
Plasma processing device
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.02.2004
Method of forming insulation film on semiconductor substrate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.02.2004
Elektrischer Leiter und Kabel mit einer Beschichtung aus einer Polyvinylchloridharzzusammensetzung
Kunststoff- & Polymertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.02.2004
Etching method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.02.2004
Substrate Processing Container
Verpackungs- & Fördertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.02.2004
Method for forming insulating layer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.02.2004
Plasma processing apparatus and plasma processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.02.2004
Reduced Volume, High Conductance Process Chamber
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.01.2004
Plasma processing device and controlling method therefor
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.01.2004
Method and system for electron density measurement
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
28.01.2004
Ionisierte Physikalische Dampfphasenabscheidung mit Aufeinanderfolgender Abscheidung und Ätzung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.01.2004
Film forming apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.01.2004
Method of forming film and film forming apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.01.2004
Film forming method and film forming apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.01.2004
Method for forming oxide film and electronic device material
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2004
Method of cleaning substrate treatment apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2004
Method of cleaning substrate-processing device and substrate-processing device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2004
Processing device and processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2004
Verfahren und Vorrichtung für Nicht-Invasive Messung und Analyse von Plasma Kennwerten
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2004
Method of oxidizing member to be treated
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2004
Plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2004
Method and apparatus for non-invasive measurement and analys of semiconductor plasma parameters
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.01.2004
System zur Nicht-Invasiven Messung und Analyse von Halbleiter-Prozessparametern
14.01.2004
Vorrichtung zur thermischen Behandlung von Chargen und Methode zu deren Regelung
Metallurgie & Oberflächentechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
14.01.2004
Ultraviolettstrahlenunterstützte Verarbeitungseinrichtung für die Halbleiterverarbeitung
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.01.2004
Semiconductor producing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.01.2004
Method and system for predicting process performance using material processing tool and sensor data
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.01.2004
Method and system for arc suppression in a plasma processing system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.01.2004
Plasma processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.01.2004
Anisotropic dry etching of cu-containing layers
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.01.2004
Controlling a material processing tool and performance data
Software & Datenverarbeitung
02.01.2004
Plasmaverarbeitungseinrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
31.12.2003
Method for manufacturing semiconductor device
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.12.2003
Magnetron plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.12.2003
Substrate processing device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.12.2003
Substrate processing device, substrate processing method, and developing device
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.12.2003
Processing device and processing method
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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