Versum Materials US Patente
🇺🇸 USA
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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393 gesamt| Patent | |||
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18.09.2024
Pad-In-Flasche und Chemisch-Mechanische Planarisierung mit einer Einzigen Platte für Backend-Anwendungen
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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18.09.2024
Chemisch-Mechanisches Polierpolieren mit Pad-Ln-A-Flasche mit Kostengünstigen Nichtporösen Festen Polierkissen
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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18.09.2024
Vorläufer zur Abscheidung von Wismuthaltigen Filmen
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2022
Anhängig
Vertretung
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18.09.2024
Stabile Alkenyl oder Alkinyl Enthaltende Organosiliciumvorläuferzusammensetzungen
Organische Chemie
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11.09.2024
Koaxialer Ventilblock mit Begrenztem Volumen
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 03.03.2021
Erteilt am 11.09.2024
Vertretung
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04.09.2024
Verfahren zum Abscheiden eines Films
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2020
Erteilt am 04.09.2024
Vertretung
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28.08.2024
Selektives Thermisches Ätzen von Atomschichten
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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28.08.2024
Zusammensetzungen und Verfahren zur Abscheidung von Siliciumoxidfilmen
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 26.03.2015
Erteilt am 28.08.2024
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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21.08.2024
Zusammensetzungen zur Entfernung von Fotolacken und Ätzresten von einem Substrat mit Kupferkorrosionsinhibitor und Verwendungen davon
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.11.2022
Anhängig
Vertretung
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21.08.2024
Ald-Abscheidung unter Verwendung von STIMMUNGSDO2CL2 und MOO2BR2
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 26.10.2022
Anhängig
Vertretung
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14.08.2024
Chemisch-Mechanisches Planarisierungspolieren zur Flachen Grabenisolation
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.08.2024
Polymere und Copolymere auf Basis von Triazol Und/oder Triazoli um als Additive für Schlämme zur Chemisch-Mechanischen Planarisierung
Kunststoff- & Polymertechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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07.08.2024
Chemisch-Mechanisches Polieren von Wolfram für Reduzierte Oxiderosion
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 22.07.2019
Erteilt am 07.08.2024
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Merck Patent Association · Darmstadt
Zusammenfassung
This invention pertains to slurries, methods and systems that can be used in chemical mechanical planarization (CMP) of tungsten containing semiconductor device. Using the CMP slurries with additives to counter lowering of pH by tungsten polishing byproducts and maintain pH 4 or higher, the erosion of dense metal (such as tungsten) structures can be greatly diminished. |
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24.07.2024
Silanole und Silandiole
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 18.10.2022
Anhängig
Vertretung
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24.07.2024
Alkoxysilane und daraus Hergestellte Dichte Organosilicafilme
Verfahrens- & Trenntechnik
Organische Chemie
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Status
Angemeldet am 11.10.2022
Anhängig
Vertretung
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24.07.2024
Vorläufer und Fliessfähige Cvd-Verfahren zur Herstellung von Filmen mit Niedrigem K-Wert zum Füllen von Oberflächenmerkmalen
Organische Chemie
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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03.07.2024
Oxidpolierzusammensetzung zur Chemisch-Mechanischen Planarisierung
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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26.06.2024
Formulierung zur Entfernung von Fotolack- und Metallhaltigen Rückständen nach dem Trockenätzen
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.09.2022
Anhängig
Vertretung
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20.06.2024
Compositions for selective removal of tin layer over tungsten
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.09.2023
Anhängig
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12.06.2024
Unterdrückung der Sin-Entfernungsraten und Reduzierung des Oxid-Trench-Dishing für Prozess der Flachgrabenisolation (sti)
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.05.2024
Pad-In-A-Flaschen (pib)-Technologie für Kupferbarriereschlämme
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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23.05.2024
Intramolecular stabilized metal complexes with improved thermal stability for vapor phase thin-film deposition techniques
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.11.2023
Anhängig
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23.05.2024
Intramolecular stabilized group 13 metal complexes with improved thermal stability for vapor phase thin-film deposition techniques
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.11.2023
Anhängig
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22.05.2024
Verwendung einer Ätzlösung für Wolfram-Wortleitungsaussparung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.03.2019
Erteilt am 22.05.2024
Vertretung
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15.05.2024
Sperrmaterialien für Anzeigevorrichtungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 08.03.2013
Erteilt am 15.05.2024
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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10.05.2024
High purity alkynyl amines for selective deposition
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 23.10.2023
Anhängig
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01.05.2024
Ätzlösung zur Selektiven Entfernung einer Silicium-Germanium-Legierung aus einem Silicium-Germanium/germanium-Stapel Während der Herstellung eines Halbleiterbauelements
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.03.2019
Erteilt am 01.05.2024
Vertretung
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01.05.2024
Verfahren zur Herstellung von Siliciumhaltigen Schichten mit Hohem Kohlenstoffgehalt
Metallurgie & Oberflächentechnik
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24.04.2024
Zusammensetzungen und Verfahren mit Verwendung davon zur Abscheidung von Siliciumhaltigem Film
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.02.2017
Erteilt am 24.04.2024
Vertretung
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18.04.2024
Low temperature si-containing films deposited from chlorosilane and aminosilane reactions
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.10.2023
Anhängig
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17.04.2024
Polymere und Copolymere auf Phosphoniumbasis als Additive für Aufschlämmungen zur Chemisch-Mechanischen Planarisierung
Kunststoff- & Polymertechnik
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 03.06.2022
Anhängig
Vertretung
Merck Patent Association · Darmstadt
Beck Greener LLP · London
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10.04.2024
Siliciumverbindungen und Verfahren zur Ablagerung von Filmen damit
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.04.2024
Ätzlösung zur Selektiven Entfernung von Tantalnitrid über Titannitrid bei der Herstellung eines Halbleiterbauelements
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.08.2018
Erteilt am 03.04.2024
Vertretung
Zusammenfassung
Described herein is an etching solution comprising water; phosphoric acid solution (aqueous); a fluoride ion source; and a water-miscible organic solvent. Such compositions are useful for the selective removal of tantalum nitride over titanium nitride from a microelectronic device having such material(s) thereon during its manufacture. |
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27.03.2024
Imidazoliumbasierte Poly(ionische Flüssigkeit) und Verwendung davon
Kunststoff- & Polymertechnik
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 16.05.2022
Anhängig
Vertretung
Merck Patent Association · Darmstadt
Beck Greener LLP · London
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27.03.2024
Verwendung von Silylverbrückten Alkylverbindungen für Dichte Osg-Filme
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.03.2024
Multiple substituted cyclopentadienyl rare-earth complexes as precursors for vapor phase thin film deposition processes
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.08.2023
Anhängig
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28.02.2024
Nicht-Sphärische Primäre Siliciumdioxidnanopartikel und Verwendung davon
Organische Chemie
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 14.04.2022
Anhängig
Vertretung
Merck Patent Association · Darmstadt
Beck Greener LLP · London
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21.02.2024
Ätzlösung zum Selektiven Entfernen von Silizium-Germanium-Legierungen von einem Silizium-Germanium-Silizium-Stapel Während der Herstellung einer Halbleitervorrichtung
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.04.2022
Anhängig
Vertretung
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14.02.2024
Neue Vorläufer zur Abscheidung von Filmen mit Hohem Elastizitätsmodul
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.05.2022
Anhängig
Vertretung
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08.02.2024
Liquid molybdenum bis(arene) compositions for deposition of molybdenum-containing films
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 18.07.2023
Anhängig
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Wer vertritt Versum Materials US?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Versum Materials US vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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