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Applied Materials Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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10.783 gesamt
Patent
23.11.2005
Plasmaquelle hoher Dichte für ionisierter Metall Metallabscheidung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.11.2005
Anpassung des Stickstoffprofils in Siliziumoxinitrid mittels Kurzeittemperns mit Ammoniak unter Hochvakuum
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.11.2005
Post treatment of low k dielectric films
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.11.2005
Method and apparatus of depositing low temperature inorganic films on plastic substrates
Metallurgie & Oberflächentechnik
17.11.2005
Adhesion improvement for dielectric layers to conductive materials
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.11.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Festlegung der Formeinkodierung einen Ladungsträgerstrahls in Lithographie Systemen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.11.2005
Verfahren zur Plasma-Ätzung von Silizium-Germanium
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.11.2005
Leitender Polierkörper zum elektrochemisch-mechanischen Polieren
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
09.11.2005
Vorrichtung und Verfahren zu hybriden chemischen Abscheidungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
09.11.2005
Pumpenanschlusstück für Prozesskammer für Einzelne Halbleiterscheiben Frei von Emissivitätsänderungen
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.11.2005
CVD Verfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
03.11.2005
Low Dielectric Constant Porous Films
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.11.2005
Method of controlling the uniformity of pecvd-deposited thin films
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung einer Rechteckigen Lichtstrahlmatrix
Optik & Fototechnik
02.11.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Schichtweisen Ablagerung von Dünnfilmen
Metallurgie & Oberflächentechnik
27.10.2005
Selectable Dual Position Magnetron
Metallurgie & Oberflächentechnik
27.10.2005
Apparatus for controlling gas flow in a semiconductor substrate processing chamber
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.10.2005
Method and apparatus for in-situ film stack processing
Optik & Fototechnik
26.10.2005
Verfahren zur Bearbeitung von Halbleitern
Steuerungs- & Regelungstechnik
26.10.2005
Verfahren zur Stabilitätsverbesserung in Barrierenschicht mit Niedrigem K
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
Deposition of low dielectric constant films by n<sb>2</sb>o/cyclic organosiloxane plasma
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
High Throughput Measurement Of Via Defects in Interconnects
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
Multi-stage curing of low k nano-porous films
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
Techniques promoting adhesion of porous low k film to underlying barrier layer
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
Ruthenium layer formation for copper film deposition
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
Method and system for control of processing conditions in plasma processing systems
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.10.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung Toxischer Gasbestandteile aus dem Ablauf eines Halbleiterherstellungsverfahrens
Verfahrens- & Trenntechnik
12.10.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Hochqualitätsfilmes bei Niedrigtemperatur
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.10.2005
Leistungskopplungsvorrichtung für Sputteranlage.
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.10.2005
Ion Sources
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2005
Vakuumbehandlungsanlage mit variabler Pumpanordnung
Metallurgie & Oberflächentechnik
05.10.2005
Verfahren zum Betrieb von Vakuumanlagen mit Drückänderungen
Metallurgie & Oberflächentechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
29.09.2005
Method of depositing an amorphous carbon film for metal etch hardmask application
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.09.2005
Apparatus and method for directing gas towards a specimen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.09.2005
Plasma treatment to improve adhesion of low k dielectrics
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.09.2005
Refurbishment of sputtering targets
Metallurgie & Oberflächentechnik
28.09.2005
Verfahren zur Planarizierung eines Materials durch das Bilden einer Opferschicht
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.09.2005
Verfahren zur Herstellung eines Substrats
Metallurgie & Oberflächentechnik
22.09.2005
Cvd processes for the deposition of amoprhous carbon films
Metallurgie & Oberflächentechnik
22.09.2005
Hardware Development To Reduce Bevel Deposition
Metallurgie & Oberflächentechnik

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