ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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09.06.2021
Vorrichtung und Verfahren zur Verbindung einer Faservorform mit einem Druckversorgungssystem
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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09.06.2021
Klemmanordnung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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02.06.2021
Bestrahlungsapparat mit mehreren Quellen Geladener Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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02.06.2021
Verfahren und System zur Vorhersage von Bildern von Elektrischen Felder mit einem Parametrisierten Modell
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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19.05.2021
Verfahren zur Bestimmung einer Sichtfeldeinstellung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.05.2021
Verfahren zur Bestimmung der Korrekturen für ein Strukturierungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.09.2017
Erteilt am 19.05.2021
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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12.05.2021
Verfahren zur Herstellung einer Kapillare für eine Photonische Hohlkernkristallfaser
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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12.05.2021
Vorrichtung zum Positionieren und Eingespannten Härten
Verpackungs- & Fördertechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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05.05.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Effizienten Erzeugung von Hohen Oberschwingungen
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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05.05.2021
Vorrichtung zum Berechnen von Variationen der Substratneigung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.08.2005
Erteilt am 05.05.2021
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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28.04.2021
Endfacettenschutz für eine Lichtquelle und Verfahren zur Verwendung in Metrologieanwendungen
Optik & Fototechnik
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28.04.2021
Verfahren zur Bestimmung von Aberrationen in von einem Ladungsteilchenstrahlgerät Erhaltenen Bildern, Verfahren zur Bestimmung einer Einstellung eines Ladungsteilchenstrahlgeräts, und Ladungsteilchenstrahlgerät
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.04.2021
Verfahren zum Entwurf einer Ausrichtungsmarkierung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.04.2021
Euv-Pellikel
Optik & Fototechnik
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21.04.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Kohärenzverschlüsselung in Messtechnischen Anwendungen
Optik & Fototechnik
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21.04.2021
Verfahren zur Anpassung von Messdaten an ein Modell und Modellierung einer Leistungsparameterverteilung und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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21.04.2021
Systeme und Verfahren zur Profilierung von Ladungsteilchenstrahlen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.04.2021
System und Verfahren zur Konditionierung einer Strukturierungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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14.04.2021
Verbesserte Breitbandstrahlungserzeugung in Hohlkernfasern
Optik & Fototechnik
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14.04.2021
Lithographischer Apparat und Positionierungsanordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.01.2010
Erteilt am 14.04.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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14.04.2021
Ladungsträgerteilchen-Halbleiterdetektor für Mikroskopie
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.04.2021
Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung und Steuerung der Leistung eines Tröpfchengenerators
Elektronik & Schaltungstechnik
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07.04.2021
Sensormarkierung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2018
Erteilt am 07.04.2021
Vertretung
Verhoeven, Johannes Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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07.04.2021
Messsystem und Verfahren zur Charakterisierung einer Strukturierungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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07.04.2021
Netzwerkarchitektur und Protokoll für einen Cluster von Lithografiegeräten
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.04.2021
Verfahren zur Bestimmung einer Resistdeformation und Verfahren zur Verbesserung eines Lithographischen Prozesses
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2016
Erteilt am 07.04.2021
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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31.03.2021
Verfahren zum Ableiten eines Verarbeitungsparameters Wie Fokus und Zugehörige Vorrichtungen und Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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31.03.2021
Strahlungsleitung
Optik & Fototechnik
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24.03.2021
Strahlungsquelle
Optik & Fototechnik
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24.03.2021
Bestimmung der Leistung der Lithografischen Anpassung
Optik & Fototechnik
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24.03.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Leistung eines Lithografischen Prozesses
Optik & Fototechnik
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24.03.2021
Verfahren zum Filtern eines Bildes und Zugehörige Messtechnische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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17.03.2021
Anordnung zur Bündelung von Breitbandstrahlung
Optik & Fototechnik
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17.03.2021
Teilfeldsteuerung eines Lithografischen Prozesses und Zugehörige Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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10.03.2021
Verfahren zum Bestimmen der Fehlerhaftigkeit eines Musters basierend auf einem Bild nach der Entwicklung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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10.03.2021
Verbesserte Vorrichtung zur Erzeugung von Hohen Harmonischen
Elektronik & Schaltungstechnik
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10.03.2021
Verfahren zur Erhöhung der Gewissheit in Parametrisierten Modellvorhersagen
Software & Datenverarbeitung
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10.03.2021
Pellikel für die Euv-Lithografie
Optik & Fototechnik
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03.03.2021
System zum Testen eines Spiegels Wie Etwa eines Kollektorspiegels und Verfahren zum Testen eines Spiegels Wie Etwa eines Kollektorspiegels
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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03.03.2021
Lichtquellen und Verfahren zur Steuerung, Vorrichtungen und Verfahren zur Verwendung in Messanwendungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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