ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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03.03.2021
System zum Testen eines Spiegels Wie Etwa eines Kollektorspiegels und Verfahren zum Testen eines Spiegels Wie Etwa eines Kollektorspiegels
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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03.03.2021
Nicht-Korrigierbarer Fehler in der Metrologie
Optik & Fototechnik
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03.03.2021
Endfacettenschutz für eine Lichtquelle und Verfahren zur Verwendung in Metrologieanwendungen
Optik & Fototechnik
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03.03.2021
Modensteuerung von Photonischen Kristallfaserbasierten Breitbandigen Lichtquellen
Optik & Fototechnik
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03.03.2021
Metrologieverfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Komplexwertigen Feldes
Optik & Fototechnik
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03.03.2021
Ausrichtungssensor, Lithografisches System zur Verarbeitung eines Ziels, Wie Etwa eines Wafers, und Verfahren zum Betrieb eines Lithografiesystems zur Verarbeitung eines Ziels Wie Etwa eines Wafers
Optik & Fototechnik
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24.02.2021
Numerische Kompensation Sem-Induzierter Ladung unter Verwendung eines Diffusionsbasierten Modells
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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24.02.2021
Beleuchtungs- und Detektionsvorrichtung für eine Metrologische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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24.02.2021
Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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24.02.2021
Wellenlängenauswahlmodul, Beleuchtungssystem und Metrologiesystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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24.02.2021
Membrane zur Verwendung in einer Lithographievorrichtung und Lithographievorrichtung mit Solch einer Membran
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.07.2015
Erteilt am 24.02.2021
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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24.02.2021
Metrologievorrichtung und Detektionsvorrichtung dafür
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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17.02.2021
Verfahren und Metrologiewerkzeug zur Bestimmung von Informationen über eine Zielstruktur und Freitragende Sonde
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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17.02.2021
Positionsmesssystem, Interferometersystem und Lithografische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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27.01.2021
Verfahren und System zur Bestimmung von Informationen über eine Zielstruktur
Optik & Fototechnik
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20.01.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Berechnung elektromagnetischer Streuungseigenschaften von Strukturen und für die Rekonstruktion von approximativen Strukturen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.03.2012
Erteilt am 20.01.2021
Vertretung
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20.01.2021
Montierte Hohlkernfaseranordnung
Optik & Fototechnik
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20.01.2021
Teilfeldsteuerung eines Lithografischen Prozesses und Zugehörige Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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20.01.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung des Beitrags von Merkmalen zur Leistung
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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20.01.2021
Marke, Überlagerungsziel und Verfahren zur Ausrichtung und Überlagerung
Optik & Fototechnik
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20.01.2021
Lichtquelle und Verfahren zur Verwendung bei Metrologieanwendungen
Optik & Fototechnik
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13.01.2021
Messvorrichtung für Lithographie und Entsprechendes Messverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2006
Erteilt am 13.01.2021
Vertretung
Willekens, Jeroen Pieter Frank · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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13.01.2021
Verfahren zur Steuerung einer Lithografischen Vorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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13.01.2021
Substratformmessvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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13.01.2021
Lithografische Vorrichtung mit Graphenpellikel
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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06.01.2021
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2011
Erteilt am 06.01.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.01.2021
Vorrichtung und Methode zur Beeinflussung der Lokalen Phase eines Geladenen Teilchenstrahls
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.01.2021
Spiegelkalibrierungsverfahren, Positionsmessverfahren, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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06.01.2021
Elektrodenkühlanordnung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.01.2021
Herstellung von Radioisotopen
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 03.11.2016
Erteilt am 06.01.2021
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.01.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Formung einer Strukturierten Materialschicht
Optik & Fototechnik
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06.01.2021
Ausrichtungsmarkierungspositionierung in einem Lithographischen Prozess
Optik & Fototechnik
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30.12.2020
Optische Komponente auf Basis von Photonischen Hohlkernfasern zur Breitbandigen Strahlungserzeugung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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23.12.2020
Metrologieverfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Komplexwertigen Feldes
Optik & Fototechnik
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23.12.2020
Fluidhandhabungsstruktur und Immersionslithografievorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.06.2015
Erteilt am 23.12.2020
Vertretung
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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16.12.2020
Metrologieverfahren und Verfahren zum Trainieren einer Datenstruktur zur Verwendung in der Metrologie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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16.12.2020
Interferometersystem, Verfahren zur Bestimmung eines Modussprungs einer Laserquelle eines Interferometersystems, Verfahren zur Bestimmung einer Position eines Beweglichen Objekts und Lithografische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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09.12.2020
Tragetisch für eine Lithografische Vorrichtung, Verfahren zum Laden eines Substrats, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.10.2015
Erteilt am 09.12.2020
Vertretung
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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09.12.2020
Verfahren zum Kennzeichnen von Substraten basierend auf Prozessparametern
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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02.12.2020
Auf Rechnergestützter Metrologie Basiertes Abtastschema
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20