ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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21.06.2018
An optical device and associated systems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Radiation source apparatus and method, lithographic apparatus and inspection apparatus
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 22.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Method of measuring a structure, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Methods and apparatus for calculating electromagnetic scattering properties of a structure and for reconstruction of approximate structures
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 27.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Method for monitoring a characteristic of illumination from a metrology apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2017
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21.06.2018
Method and apparatus for image analysis
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 29.11.2017
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21.06.2018
Method of measuring a property of a substrate, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 29.11.2017
Anhängig
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20.06.2018
Verfahren zur Messung einer Struktur, Inspektionsvorrichtung, Lithographiesystem und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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20.06.2018
Verfahren zur Überwachung der Eigenschaft von Beleuchtung aus einer Metrologievorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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20.06.2018
Verfahren zur Messung einer Eigenschaft eines Substrats, Inspektionsvorrichtung, Lithografisches System und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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20.06.2018
Verfahren und Vorrichtung für Bildanalyse
Optik & Fototechnik
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14.06.2018
Method of measuring a target, metrology apparatus, polarizer assembly
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2017
Anhängig
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14.06.2018
Methods and apparatus for predicting performance of a measurement method, measurement method and apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.11.2017
Anhängig
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14.06.2018
Metrology apparatus, lithographic system, and method of measuring a structure
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2017
Anhängig
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14.06.2018
Method and apparatus for controlling a computing process
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 24.11.2017
Anhängig
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13.06.2018
Verfahren zur Messung eines Ziels, Metrologievorrichtung, Polarisatoranordnung
Optik & Fototechnik
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13.06.2018
Metrologiesystem
Optik & Fototechnik
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13.06.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Vorhersage der Leistung eines Messverfahrens, Messverfahren und Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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13.06.2018
Positionsmesssystem, Interferometer und Lithografische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.07.2016
Anhängig
Vertretung
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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07.06.2018
A Method To Change an Etch Parameter
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.11.2017
Anhängig
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07.06.2018
Method and system for pattern configuration
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 13.11.2017
Anhängig
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07.06.2018
Model for estimating stochastic variation
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2017
Anhängig
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06.06.2018
Effiziente Dunkelstromsubtraktion in einem Bildsensor
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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06.06.2018
Verfahren zum Wechseln eines Ätzparameters
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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31.05.2018
Metrology using a plurality of metrology target measurement recipes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.11.2017
Anhängig
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30.05.2018
Auf Diffraktion basierendes Verfahren und System zur Bestimmung von einem Überlagerungsfehler, und entsprechender lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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30.05.2018
Verfahren zur Herstellung einer Membrananordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.07.2016
Anhängig
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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24.05.2018
Radiation analysis system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.10.2017
Anhängig
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23.05.2018
Lithographische Vorrichtung, Flüssigkeitssteuerungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.07.2016
Anhängig
Vertretung
Verhoeven, Johannes Theodorus Maria · Veldhoven
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria · Veldhoven
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17.05.2018
Illumination source for an inspection apparatus, inspection apparatus and inspection method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.10.2017
Anhängig
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17.05.2018
Method for determining an optimized set of measurement locations for measurement of a parameter of a lithographic process, metrology system and computer program products for implementing such methods
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.09.2017
Anhängig
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17.05.2018
Method of measuring a parameter of a device manufacturing process, and metrology apparatus.
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.10.2017
Anhängig
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17.05.2018
A fuel collector and associated system
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 24.10.2017
Anhängig
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17.05.2018
Measurement system, lithographic system, and method of measuring a target
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.10.2017
Anhängig
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17.05.2018
Design and correction using stack difference
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.11.2017
Anhängig
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17.05.2018
Compensating For A Physical Effect in an Optical System Technical Field
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 17.10.2017
Anhängig
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16.05.2018
Sensor, Objektpositionierungssystem, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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16.05.2018
Messsystem, Lithographiesystem und Verfahren zur Messung eines Ziels
Optik & Fototechnik
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16.05.2018
Verfahren zur Messung eines Parameters eines Vorrichtungsherstellungsverfahrens, Metrologievorrichtung, Substrat, Ziel, Vorrichtungsherstellungssystem und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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