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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
21.06.2018
An optical device and associated systems
Optik & Fototechnik
21.06.2018
Radiation source apparatus and method, lithographic apparatus and inspection apparatus
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
21.06.2018
Method of measuring a structure, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
21.06.2018
Methods and apparatus for calculating electromagnetic scattering properties of a structure and for reconstruction of approximate structures
Optik & Fototechnik
21.06.2018
Method for monitoring a characteristic of illumination from a metrology apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
21.06.2018
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
21.06.2018
Method and apparatus for image analysis
Optik & Fototechnik
21.06.2018
Method of measuring a property of a substrate, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
20.06.2018
Verfahren zur Messung einer Struktur, Inspektionsvorrichtung, Lithographiesystem und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
20.06.2018
Verfahren zur Überwachung der Eigenschaft von Beleuchtung aus einer Metrologievorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
20.06.2018
Verfahren zur Messung einer Eigenschaft eines Substrats, Inspektionsvorrichtung, Lithografisches System und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
20.06.2018
Verfahren und Vorrichtung für Bildanalyse
Optik & Fototechnik
14.06.2018
Method of measuring a target, metrology apparatus, polarizer assembly
Optik & Fototechnik
14.06.2018
Methods and apparatus for predicting performance of a measurement method, measurement method and apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
14.06.2018
Metrology apparatus, lithographic system, and method of measuring a structure
Optik & Fototechnik
14.06.2018
Method and apparatus for controlling a computing process
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
13.06.2018
Verfahren zur Messung eines Ziels, Metrologievorrichtung, Polarisatoranordnung
Optik & Fototechnik
13.06.2018
Metrologiesystem
Optik & Fototechnik
13.06.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Vorhersage der Leistung eines Messverfahrens, Messverfahren und Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.06.2018
Positionsmesssystem, Interferometer und Lithografische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
07.06.2018
A Method To Change an Etch Parameter
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.06.2018
Method and system for pattern configuration
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
07.06.2018
Model for estimating stochastic variation
Optik & Fototechnik
06.06.2018
Effiziente Dunkelstromsubtraktion in einem Bildsensor
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
06.06.2018
Verfahren zum Wechseln eines Ätzparameters
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.05.2018
Metrology using a plurality of metrology target measurement recipes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
30.05.2018
Auf Diffraktion basierendes Verfahren und System zur Bestimmung von einem Überlagerungsfehler, und entsprechender lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
30.05.2018
Verfahren zur Herstellung einer Membrananordnung
Optik & Fototechnik
24.05.2018
Radiation analysis system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
23.05.2018
Lithographische Vorrichtung, Flüssigkeitssteuerungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
17.05.2018
Illumination source for an inspection apparatus, inspection apparatus and inspection method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.05.2018
Method for determining an optimized set of measurement locations for measurement of a parameter of a lithographic process, metrology system and computer program products for implementing such methods
Optik & Fototechnik
17.05.2018
Method of measuring a parameter of a device manufacturing process, and metrology apparatus.
Optik & Fototechnik
17.05.2018
A fuel collector and associated system
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
17.05.2018
Measurement system, lithographic system, and method of measuring a target
Optik & Fototechnik
17.05.2018
Design and correction using stack difference
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.05.2018
Compensating For A Physical Effect in an Optical System Technical Field
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16.05.2018
Sensor, Objektpositionierungssystem, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
16.05.2018
Messsystem, Lithographiesystem und Verfahren zur Messung eines Ziels
Optik & Fototechnik
16.05.2018
Verfahren zur Messung eines Parameters eines Vorrichtungsherstellungsverfahrens, Metrologievorrichtung, Substrat, Ziel, Vorrichtungsherstellungssystem und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik

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