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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
09.09.2016
Method and apparatus for inspection and metrology
WO2016139057
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.09.2016
Lithographic apparatus, manipulator system and method of controlling curvature of a focal plane
WO2016134862
Optik & Fototechnik
01.09.2016
Radiation beam apparatus
WO2016134892
Optik & Fototechnik
01.09.2016
Device manufacturing method and patterning devices for use in device manufacturing method
WO2016134954
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
01.09.2016
Method and apparatus for inspection and metrology
WO2016135166
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
31.08.2016
Ansteuerungslaser für Euv-Lichtquelle
EP2232330
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.08.2016
Improved Beam Pipe
WO2016131569
Elektronik & Schaltungstechnik
25.08.2016
Radiation Source
WO2016131583
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.08.2016
Radiation Source
WO2016131601
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
24.08.2016
Elektrostatische Klemme
EP2839506
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
18.08.2016
Radiation Sensor
WO2016128152
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
18.08.2016
Method and apparatus for reticle optimization
WO2016128190
Optik & Fototechnik
18.08.2016
Process variability aware adaptive inspection and metrology
WO2016128189
Optik & Fototechnik
18.08.2016
Image Log Slope (ils) Optimization
WO2016128392
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
17.08.2016
Polarisationsunabhängiges Interferometer
EP3055737
Optik & Fototechnik
11.08.2016
An Undulator
WO2016124269
Elektronik & Schaltungstechnik
11.08.2016
Metrology method, metrology apparatus and device manufacturing method
WO2016124345
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
11.08.2016
A method and apparatus for improving measurement accuracy
WO2016124399
Optik & Fototechnik
11.08.2016
Metrology method and apparatus, computer program and lithographic system
WO2016124393
Optik & Fototechnik
13.07.2016
Strahlungsquelle
EP2853139
Elektronik & Schaltungstechnik
07.07.2016
Reticle Cooling By Non-Uniform Gas Flow
WO2016107714
Optik & Fototechnik
30.06.2016
Level sensor, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016102127
Optik & Fototechnik
30.06.2016
Thermal conditionig method
WO2016102131
Optik & Fototechnik
30.06.2016
Lithographic patterning process and resists to use therein
WO2016102157
Optik & Fototechnik
23.06.2016
An Undulator
WO2016096239
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
23.06.2016
Optimization based on machine learning
WO2016096309
Software & Datenverarbeitung
23.06.2016
Feature Search By Machine Learning
WO2016096308
Software & Datenverarbeitung
23.06.2016
Optical encoder system, encoder head and lithographic apparatus
WO2016096322
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
23.06.2016
Method and apparatus for using patterning device topography induced phase
WO2016096346
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Method and apparatus for using patterning device topography induced phase
WO2016096338
Optik & Fototechnik
23.06.2016
A lithography model for 3d features
WO2016096333
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Method and apparatus for using patterning device topography induced phase
WO2016096351
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Method and apparatus for using patterning device topography induced phase
WO2016096361
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Method and apparatus for using patterning device topography induced phase
WO2016096365
Optik & Fototechnik
23.06.2016
A fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method
WO2016096508
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
23.06.2016
Method of measuring asymmetry, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
WO2016096524
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Hotspot Aware Dose Correction
WO2016096668
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Faceted Euv Optical Element
WO2016099714
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Variable radius mirror dichroic beam splitter module for extreme ultraviolet source
WO2016099758
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
16.06.2016
Reflector
WO2016091486
Optik & Fototechnik

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