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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
16.06.2016
Method and apparatus for image analysis
WO2016091534
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
16.06.2016
Methods and apparatus for calculating substrate model parameters and controlling lithographic processing
WO2016091529
Optik & Fototechnik
16.06.2016
Method and apparatus for image analysis
WO2016091536
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
15.06.2016
Deckschicht für optische EUV-Elemente
EP1801658
Optik & Fototechnik
09.06.2016
Methods&apparatus for obtaining diagnostic information relating to a lithographic manufacturing process, lithographic processing system including diagnostic apparatus
WO2016087069
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
09.06.2016
Lithographic method and apparatus
WO2016087142
Optik & Fototechnik
09.06.2016
Projection system
WO2016087177
Optik & Fototechnik
09.06.2016
Lithographic method and apparatus
WO2016087388
Optik & Fototechnik
09.06.2016
System and method for isolating gain elements in a laser system
WO2016089549
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.06.2016
Radiation beam apparatus
WO2016083120
Optik & Fototechnik
26.05.2016
Process based metrology target design
WO2016078861
Optik & Fototechnik
26.05.2016
Metrology method and apparatus
WO2016078862
Optik & Fototechnik
25.05.2016
Flüssigkeitshandhabungsstruktur und Lithographievorrichtung
EP2256553
Optik & Fototechnik
19.05.2016
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016074876
Optik & Fototechnik
12.05.2016
Thermal Conditioning Fluid Pump
WO2016071059
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Optik & Fototechnik
12.05.2016
Apparatus for and method of supplying target material
WO2016073190
Elektrische Energietechnik
04.05.2016
Spektraler Reinigungsfilter
EP2534537
Optik & Fototechnik
04.05.2016
Lpp-Euv-Lichtquellenantriebslasersystem
EP2488002
Elektronik & Schaltungstechnik
21.04.2016
A Radiation Source
WO2016058746
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
21.04.2016
An image sensor, sensing method and lithographic apparatus
WO2016058769
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
21.04.2016
Radiation source-collector and method for manufacture
WO2016058822
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
07.04.2016
Focus monitoring arrangement and inspection apparatus including such an arragnement
WO2016050453
Optik & Fototechnik
07.04.2016
Rule-based deployment of assist features
WO2016050584
Optik & Fototechnik
31.03.2016
Illumination system
WO2016045897
Optik & Fototechnik
31.03.2016
Inspection apparatus and device manufacturing method
WO2016045945
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
31.03.2016
Process Window Identifier
WO2016045901
Optik & Fototechnik
24.03.2016
Positioning device, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016041741
Optik & Fototechnik
24.03.2016
Lithographic apparatus and method
WO2016041733
Optik & Fototechnik
24.03.2016
Object table, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016041731
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
17.03.2016
Device for monitoring a radiation source, radiation source, method of monitoring a radiation source, device manufacturing method
WO2016037786
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
10.03.2016
Method of measuring a property of a target structure, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
WO2016034428
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
03.03.2016
Measuring method, measurement apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016030031
Optik & Fototechnik
03.03.2016
Encoder system calibration method, object positioning system, lithographic apparatus and device device manufacturing method
WO2016030090
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
03.03.2016
Method for controlling a distance between two objects, inspection apparatus and method
WO2016030227
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.03.2016
Metrology method, target and substrate
WO2016030255
Optik & Fototechnik
03.03.2016
Laser-driven photon source and inspection apparatus including such a laser-driven photon source
WO2016030485
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.02.2016
Lithographic apparatus and method
WO2016023667
Optik & Fototechnik
18.02.2016
Free electron laser radiation source for the euv
WO2016023740
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.02.2016
Stützstruktur, Verfahren zur Temperatursteuerung dafür und Vorrichtungen damit
EP2984524
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.02.2016
Lithography apparatus and method of manufacturing a device
WO2016020121
Optik & Fototechnik

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