ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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05.01.2022
Multielektroden-Stapelanordnung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.01.2022
Vorrichtung und Verfahren zur Steuerung der Leistung eines Tröpfchengenerators
Elektronik & Schaltungstechnik
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05.01.2022
Laserbetätigte Lichtquelle
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.09.2014
Erteilt am 05.01.2022
Vertretung
Murgitroyd & Company · Glasgow
Wablat Lange Karthaus · Berlin
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05.01.2022
Detektor für Geladene Teilchen mit Verstärkungselement
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.01.2022
Tischsystem und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.01.2020
Anhängig
Vertretung
Nouwens, Johannes Wilhelmus Henricus · Veldhoven
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30.12.2021
Monolithic particle inspection device
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.06.2021
Anhängig
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30.12.2021
Transmissive Diffraction Grating
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 17.06.2021
Anhängig
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30.12.2021
Systems, methods, and products for determining printing probability of assist feature and its application
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.06.2021
Anhängig
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30.12.2021
Lithographic apparatus, metrology systems, illumination switches and methods thereof
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 04.06.2021
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30.12.2021
Metrology method and associated metrology and lithographic apparatuses
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.05.2021
Anhängig
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30.12.2021
Self-Referencing Integrated Alignment Sensor
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 09.06.2021
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30.12.2021
Sub Micron Particle Detection On Burl Tops By Applying A Variable Voltage To an Oxidized Wafer
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.06.2021
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29.12.2021
Transmissives Beugungsgitter
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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23.12.2021
Lithographic apparatus, metrology systems, and methods thereof
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2021
Anhängig
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23.12.2021
A method for modeling measurement data over a substrate area and associated apparatuses
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.05.2021
Anhängig
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22.12.2021
Verfahren und Lithographievorrichtung zur Messung eines Strahlungsbündels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.01.2020
Anhängig
Vertretung
Pei, Fei · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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16.12.2021
A target for measuring a parameter of a lithographic process
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.06.2021
Anhängig
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16.12.2021
Manipulator, manipulator array, charged particle tool, multi-beam charged particle tool, and method of manipulating a charged particle beam
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.05.2021
Anhängig
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16.12.2021
Apparatus for use in a metrology process or lithographic process
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.05.2021
Anhängig
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16.12.2021
Metrology method, metrology apparatus and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 11.05.2021
Anhängig
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16.12.2021
Fluid purging system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.05.2021
Anhängig
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16.12.2021
Lithographic pre-alignment imaging sensor with build-in coaxial illumination
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2021
Anhängig
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16.12.2021
Height measurement method and height measurement system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.04.2021
Anhängig
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15.12.2021
Verfahren und System zur Messung der Höhe
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
The present invention provides a method for calculating a corrected substrate height map of a first substrate using a height level sensor. The method comprises: sampling the first substrate by means of the height level sensor with the first substrate moving with a first velocity, wherein the first velocity is a first at least partially non-constant velocity of the first substrate with respect to the height level sensor, to generate a first height level data, generating a first height map based on the first height level data, and calculating a corrected substrate height map by subtracting a correction map form the first height map, wherein the correction map is calculated from the difference between a first velocity height map and a second velocity height map. |
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15.12.2021
Komponente zur Verwendung in einem Lithographischen Gerät, Verfahren zum Schützen einer Komponente und Verfahren zum Schützen von Tischen in einem Lithographischen Gerät
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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15.12.2021
Objekthalter, Elektrostatische Platte und Verfahren zur Herstellung einer Elektrostatischen Platte
Optik & Fototechnik
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15.12.2021
Flüssigkeitsspülsystem
Optik & Fototechnik
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15.12.2021
Vorrichtung zur Verwendung in einem Metrologischen oder Lithographischen Prozess
Optik & Fototechnik
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09.12.2021
A fluid purging system, projection system, illumination system, lithographic apparatus, and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.04.2021
Anhängig
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09.12.2021
Cleaning tool and method for cleaning a portion of a lithography apparatus
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 07.05.2021
Anhängig
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09.12.2021
Verifying freeform curvilinear features of a mask design
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Angemeldet am 13.05.2021
Anhängig
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08.12.2021
Verfahren zur Entscheidungsfindung in einem Halbleiterherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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02.12.2021
Alignment of extreme ultraviolet light source
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 26.04.2021
Anhängig
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02.12.2021
Substrate, patterning device and metrology apparatuses
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 10.05.2021
Anhängig
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02.12.2021
Method for optimizing a sampling scheme and associated apparatuses
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.04.2021
Anhängig
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02.12.2021
Alignment method and associated alignment and lithographic apparatuses
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 11.05.2021
Anhängig
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02.12.2021
Lithographic apparatus, multi-wavelength phase-modulated scanning metrology system and method
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 14.05.2021
Anhängig
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02.12.2021
Enhanced architecture for high-performance detection device technical field
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 25.05.2021
Anhängig
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02.12.2021
Conditioning device and corresponding object handler, lithographic apparatus and conditioning method
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 20.05.2021
Anhängig
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01.12.2021
Konditioniervorrichtung und Zugehöriger Objekthandler, Stufeneinrichtung und Lithographieeinrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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