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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
11.03.2009
Lithographischer Apparat mit Spülgaseinrichtung
EP1600819 Optik & Fototechnik erteilt
11.03.2009
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
EP1986051 Optik & Fototechnik
04.03.2009
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1647863 Optik & Fototechnik erteilt
04.03.2009
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung von winkelaufgelöster spektroskopischer Lithografie
EP1870696 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik erteilt
26.02.2009
Synchronizing timing of multiple physically or logically separated system nodes
WO2009024281 Nachrichtentechnik & Telekommunikation
26.02.2009
Module and method for producing extreme ultraviolet radiation
WO2009025557 Elektronik & Schaltungstechnik
25.02.2009
Lithografische Vorrichtung, Baugruppe und Verfahren zur Messung eines Parameters eines Projektionssystems
EP1672430 Optik & Fototechnik erteilt
25.02.2009
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2028547 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.02.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1847877 Optik & Fototechnik
05.02.2009
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2009015838 Optik & Fototechnik
04.02.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1349009 Optik & Fototechnik erteilt
04.02.2009
Optisches metrologisches System und Charakterisierungsverfahren für eine Metrologiemarke
EP1804126 Optik & Fototechnik erteilt
22.01.2009
Debris prevention system, radiation system, and lithographic apparatus
WO2009011579 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
07.01.2009
Lithographieapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1209503 Optik & Fototechnik erteilt
31.12.2008
Bilderzeugungsapparat
EP1449032 Optik & Fototechnik erteilt
24.12.2008
Clamping device and object loading method
WO2008156366 Optik & Fototechnik
24.12.2008
Method of loading a substrate on a substrate table, device manufacturing method, computer program, data carrier and apparatus
WO2008156367 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.12.2008
Lithographic apparatus and method
WO2008151848 Optik & Fototechnik
18.12.2008
Contamination prevention system, lithographic apparatus, radiation source, and method for manufacturing a device
WO2008153389 Optik & Fototechnik
11.12.2008
Reflective optical element and method for operating an euv lithography device
WO2008148516 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
11.12.2008
Extreme ultra-violet lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008150167 Optik & Fototechnik
10.12.2008
Ausrichtgerät, lithographisches Gerät, Ausrichtungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1396761 Optik & Fototechnik
04.12.2008
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008147175 Optik & Fototechnik
27.11.2008
A laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control
WO2008141776 Optik & Fototechnik
26.11.2008
Verfahren zur Parameterbestimmung für lithographische Projektion
EP1429191 Optik & Fototechnik erteilt
20.11.2008
Radiation generating device, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
WO2008140305 Elektronik & Schaltungstechnik
19.11.2008
Kompensation der Doppelbrechung in Kubisch Kristallinen Projektionslinsen und Optischen Systemen
EP1393114 Optik & Fototechnik erteilt
06.11.2008
Extreme Ultraviolet Microscope
WO2008133506 Elektrische Energietechnik
05.11.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1231515 Optik & Fototechnik erteilt
30.10.2008
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008130231 Optik & Fototechnik
29.10.2008
Kontrolle einer Position einer Masse, besonders in einem lithographischen Apparat
EP1455231 Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
29.10.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1475670 Optik & Fototechnik erteilt
29.10.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1530092 Optik & Fototechnik erteilt
29.10.2008
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
EP1677154 Optik & Fototechnik erteilt
22.10.2008
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und damit erzeugte Vorrichtung
EP1517187 Optik & Fototechnik
15.10.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Reflektoranordnung für die Verwendung in diesem Apparat
EP1389747 Optik & Fototechnik erteilt
09.10.2008
Radiation source and method for generating electromagnetic radiation
WO2008119478 Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
08.10.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Reflektoranordnung für die Verwendung in diesem Apparat
EP1394612 Optik & Fototechnik erteilt
08.10.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1429189 Optik & Fototechnik erteilt
02.10.2008
Contamination prevention system, lithographic apparatus, radiation source and device manufacturing method
WO2008118009 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik

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Elektronik & Schaltungstechnik
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132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
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37
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34
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33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
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20

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