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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
06.08.2020
Method and apparatus for layout pattern selection
WO2020156777
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
06.08.2020
Determining Moving Properties Of A Target in an Extreme Ultraviolet Light Source
WO2020156975
Elektronik & Schaltungstechnik
05.08.2020
Mehrzellendetektor für Geladene Teilchen
EP3688786
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.07.2020
Ladungsteilchenstrahlvorrichtung sowie Systeme und Verfahren zum Betreiben der Vorrichtung
EP3685421
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.07.2020
Schaltmatrixdesign für ein Strahlbildsystem
EP3685423
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.07.2020
Feldprogrammierbare Detektoranordnung
EP3685422
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.07.2020
Wellenfrontsensor und Zugehörige Messvorrichtung
EP3686673
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
29.07.2020
Lithographisches Verfahren sowie System und Inline-Elektronenstrahlflutungswerkzeug
EP3686674
Optik & Fototechnik
23.07.2020
Method, substrate and system for estimating stress in a substrate
WO2020147992
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.07.2020
Projection system and lithographic apparatus comprising said projection system
WO2020148038
Optik & Fototechnik
23.07.2020
Euv radiation source and related methods
WO2020148069
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
23.07.2020
Target delivery system
WO2020148155
Elektronik & Schaltungstechnik
22.07.2020
Verfahren zur Erzeugung und Optimierung eines Probenschemas
EP3683626
Optik & Fototechnik
22.07.2020
Substrathalter und Lithografische Vorrichtung
EP3683627
Optik & Fototechnik
16.07.2020
Elastic guiding device, positioning device, blade and lithographic apparatus
WO2020143993
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
15.07.2020
Lithografieverfahren und -Vorrichtung
EP2898370
Optik & Fototechnik
15.07.2020
Verfahren und Vorrichtung zum Konfigurieren der Räumlichen Abmessungen eines Strahls Während einer Abtastung
EP3680714
Optik & Fototechnik
09.07.2020
In-lens wafer pre-charging and inspection with multiple beams
WO2020141030
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.07.2020
Position metrology apparatus and associated optical elements
WO2020141050
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
09.07.2020
Systems and methods for real time stereo imaging using multiple electron beams
WO2020141041
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.07.2020
Methods and patterning devices and apparatuses for measuring focus performance of a lithographic apparatus, device manufacturing method
WO2020141040
Optik & Fototechnik
09.07.2020
Semiconductor detector and method of fabricating same
WO2020141042
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.07.2020
Method for metrology optimization
WO2020141049
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.07.2020
Fully automated sem sampling system for e-beam image enhancement
WO2020141072
Software & Datenverarbeitung
09.07.2020
Method for calibrating a scanning charged particle microscope
WO2020141071
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.07.2020
Improved Imaging Via Zeroth Order Suppression
WO2020141052
Optik & Fototechnik
09.07.2020
Method for overlay metrology and apparatus thereof
WO2020141085
Optik & Fototechnik
09.07.2020
Apparatus for controlling introduction of euv target material into an euv chamber
WO2020141057
Elektronik & Schaltungstechnik
09.07.2020
Method for predicting resist deformation
WO2020141056
Optik & Fototechnik
09.07.2020
Apparatus for obtaining optical measurements in a charged particle apparatus
WO2020141091
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.07.2020
Metrology method
WO2020141140
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
09.07.2020
In-die metrology methods and systems for process control
WO2020141092
Optik & Fototechnik
02.07.2020
Method for generating patterning device pattern at patch boundary
WO2020135946
Optik & Fototechnik
02.07.2020
An apparatus for multiple charged-particle beams
WO2020135963
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.07.2020
System and method for inspecting a wafer
WO2020135997
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.07.2020
Improved scanning efficiency by individual beam steering of multi-beam apparatus
WO2020135996
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.07.2020
Determining pattern ranking based on measurement feedback from printed substrate
WO2020135988
Optik & Fototechnik
02.07.2020
Method of manufacturing an aperture device
WO2020136012
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.07.2020
Systems and methods for focusing charged-particle beams
WO2020136094
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.07.2020
Pulsed charged-particle beam system
WO2020136044
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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Technologiefelder

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Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Elektronik & Schaltungstechnik
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Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
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92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
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55
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39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35

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