ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
3.336 gesamt| Patent | |||
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02.07.2009
Grating for euv-radiation, method for manufacturing the grating and wavefront measurement system
WO2009082224
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2008
Anhängig
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02.07.2009
Lithographic apparatus, method for levelling an object, and lithographic projection method
WO2009082226
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2008
Anhängig
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01.07.2009
System und Verfahren zur Ausrichtung lithographischer Systeme unter Verwendung mindestens zweier Wellenlängen
EP1400859
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2003
Anhängig
Vertretung
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24.06.2009
Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung von Eigenschaften einer lithographischen Struktur auf einem Substrat
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Status
Angemeldet am 24.10.2008
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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17.06.2009
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Projektionsapparats
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Status
Angemeldet am 03.09.2001
Erteilt am 17.06.2009
Vertretung
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11.06.2009
Inspection apparatus for lithography
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Status
Angemeldet am 01.12.2008
Anhängig
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11.06.2009
Marker structure and method of forming the same
WO2009072881
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2008
Anhängig
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11.06.2009
Inspection apparatus, lithographic apparatus and method of measuring a property of a substrate
WO2009071207
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2008
Anhängig
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04.06.2009
A lithographic apparatus, a projection system and a device manufacturing method
WO2009070013
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2008
Anhängig
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03.06.2009
Spiegel und Lithographiegerät mit Spiegel
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Status
Angemeldet am 08.07.2004
Erteilt am 03.06.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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03.06.2009
Korrektur in Abtastrichtung der Verschiebung zwischen Maske und Objekt infolge einer Z-Verschiebung und einer nicht-senkrechten Beleuchtung
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Status
Angemeldet am 05.04.2004
Erteilt am 03.06.2009
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03.06.2009
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 15.12.2005
Erteilt am 03.06.2009
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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14.05.2009
Method for removing a contamination layer from an optical surface, method for generating a cleaning gas, and corresponding cleaning and cleaning...
WO2009059614
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 06.11.2007
Anhängig
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14.05.2009
Method and system for determining a suppression factor of a suppression system and a lithographic apparatus
WO2009061188
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.11.2008
Anhängig
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14.05.2009
Lithographic projection apparatus and method of compensating perturbation factors
WO2009061196
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.11.2008
Anhängig
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14.05.2009
Lithographic apparatus and method
WO2009060294
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 03.11.2008
Anhängig
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14.05.2009
Radiation system and method, and a spectral purity filter
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Status
Angemeldet am 07.11.2008
Anhängig
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13.05.2009
Niveausensor für einen lithographischen Apparat
EP1439428
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.01.2004
Anhängig
Vertretung
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30.04.2009
Cleaning of an optical system using radiation energy
WO2009053476
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.10.2008
Anhängig
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29.04.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 05.08.2005
Erteilt am 29.04.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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22.04.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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Status
Angemeldet am 30.05.2002
Erteilt am 22.04.2009
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22.04.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1455235
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.03.2004
Anhängig
Vertretung
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22.04.2009
Überwachung von Fokuspunkten in einem lithographischen Projektionsapparat
EP1457828
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.03.2004
Anhängig
Vertretung
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22.04.2009
Lithographischer Projektionsapparat mit Höhe- und Neigungsmessanordnung
EP1457839
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2004
Anhängig
Vertretung
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22.04.2009
Eine Anordnung, ein lithographischer Apparat und ein Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1526407
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.10.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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15.04.2009
Lithographisches Gerät mit Ausrichtungsuntersystem, Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen mittels einer Ausrichtung und Ausrichtungsstruktur
EP1434103
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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15.04.2009
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
EP1431833
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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15.04.2009
Vorrichtung und Verfahren zum Ausrichten von Wafern mit verringerter Empfindlichkeit auf Knippneigung
EP1450211
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2004
Anhängig
Vertretung
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15.04.2009
Ausrichtungs-Verfahren und -Gerät, lithographisches Gerät, Metrologiegerät und Herstellungsverfahren einer Vorrichtung
EP2048542
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.10.2008
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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08.04.2009
Lithographischer Apparat, Verfahren zu dessen Kalibrierung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 22.08.2001
Erteilt am 08.04.2009
Vertretung
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08.04.2009
Inspektion eines Artikels
EP1400855
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2003
Anhängig
Vertretung
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08.04.2009
Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 16.10.2003
Erteilt am 08.04.2009
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Hatzmann, Martin · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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01.04.2009
Getter- und Reinigungseinrichtung für eine Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung einer Oberfläche
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Status
Angemeldet am 28.06.2007
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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26.03.2009
Lithographic apparatus and device manufacturing method
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Status
Angemeldet am 17.09.2008
Anhängig
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25.03.2009
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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Status
Angemeldet am 27.12.2002
Erteilt am 25.03.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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25.03.2009
Methode zum Ausrichten eines Substrates, ein Computerprogramm und ein Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1398670
Optik & Fototechnik
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25.03.2009
Beleuchtungsoptimierung für spezifische Maskenmuster
EP1612606
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2002
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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25.03.2009
Binäre sinusförmige Gitter unterhalb der Wellenlänge als Ausrichtungsmarkierungen
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Status
Angemeldet am 17.11.2006
Erteilt am 25.03.2009
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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18.03.2009
Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Apparats
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Status
Angemeldet am 07.05.2004
Erteilt am 18.03.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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11.03.2009
Träger und Verfahren zur Herstellung eines Trägers
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Status
Angemeldet am 20.04.2004
Erteilt am 11.03.2009
Vertretung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20