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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
02.07.2020
Apparatus for and method of in-situ particle removal in a lithography apparatus
WO2020136013
Optik & Fototechnik
02.07.2020
Apparatus and method for cleaning a support structure in a lithographic system
WO2020136048
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
01.07.2020
Elektrostatische Klemmvorrichtung
EP2948818
Optik & Fototechnik
25.06.2020
Metrology sensor, illumination system and method of generating measurement illumination with a configurable illumination spot diameter
WO2020126257
Optik & Fototechnik
25.06.2020
Methods and apparatus for metrology
WO2020126248
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
25.06.2020
Sacrifical device for protecting an optical element in a path of a high-power laser beam
WO2020126387
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
25.06.2020
Method of measuring a parameter of a patterning process, metrology apparatus, target
WO2020126266
Optik & Fototechnik
25.06.2020
Stage apparatus
WO2020126768
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.06.2020
Apparatus for and method of simultaneously acquiring parallel alignment marks
WO2020126810
Optik & Fototechnik
25.06.2020
Direct Drive Reticle Safety Latch
WO2020126813
Optik & Fototechnik
25.06.2020
Noise correction for alignment signal
WO2020126816
Optik & Fototechnik
24.06.2020
Interferometriemodul
EP2691733
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
24.06.2020
Kathodenanordnung, Elektronenkanone und Lithografiesystem mit Solch einer Elektronenkanone
EP3090439
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.06.2020
Verfahren zur Messung eines Parameters eines Strukturierungsprozesses, Metrologievorrichtung, Ziel
EP3671346
Optik & Fototechnik
24.06.2020
Verfahren zur Steuerung eines Herstellungsverfahrens und Zugehörige Vorrichtungen
EP3671347
Optik & Fototechnik
24.06.2020
Positionierungsvorrichtung, Steifigkeitsreduktionsvorrichtung und Elektronenstrahlvorrichtung
EP3670958
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
24.06.2020
Elektronenstrahlbelichtungssystem
EP3671804
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.06.2020
Apparatus and method for grouping image patterns to determine wafer behavior in a patterning process
WO2020120050
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
18.06.2020
Stage apparatus suitable for electron beam inspection apparatus
WO2020120098
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.06.2020
Method of measuring a parameter of a lithographic process
WO2020120082
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.06.2020
Verfahren und Gerät zur Vorhersage der Wachstumsrate Abgeschiedener Verunreinigungen
EP2758981
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.06.2020
Verfahren zur Messung eines Parameters eines Lithografischen Verfahrens, Metrologievorrichtung
EP3667420
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.06.2020
Für Elektronenstrahlinspektionsvorrichtung Geeignete Stufenvorrichtung
EP3667696
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.06.2020
Element zur Blockierung Geladener Teilchen, Belichtungsapparat mit einem Solchen Element und Verfahren zur Verwendung eines Solchen Belichtungsapparates
EP3665716
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.06.2020
Method of manufacturing devices
WO2020114684
Optik & Fototechnik
11.06.2020
Method for adjusting a target feature in a model of a patterning process based on local electric fields
WO2020114729
Optik & Fototechnik
11.06.2020
Sem Fov Fingerprint in Stochastic Epe And Placement Measurements in Large Fov Sem Devices
WO2020114752
Optik & Fototechnik
11.06.2020
High Voltage Vacuum Feedthrough
WO2020114761
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.06.2020
Flow restriction, flow restriction assembly and lithographic apparatus
WO2020114763
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
11.06.2020
A target for measuring a parameter of a lithographic process
WO2020115125
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
11.06.2020
Adaptive Alignment
WO2020114829
Optik & Fototechnik
10.06.2020
Sem-Fov-Fingerabdruck in Stochastischen Epe und Positionsmessungen in Grossen Fov-Sem-Vorrichtungen
EP3663855
Optik & Fototechnik
10.06.2020
Hochspannungsvakuumdurchführung
EP3664121
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.06.2020
Verfahren zur Anpassung eines Zielmerkmals in einem Modell eines Musterungsverfahrens auf Basis von Lokalen Elektrischen Feldern
EP3663856
Optik & Fototechnik
04.06.2020
Determining a mark layout across a patterning device or substrate
WO2020108861
Optik & Fototechnik
04.06.2020
Method for determining root causes of events of a semiconductor manufacturing process and for monitoring a semiconductor manufacturing process
WO2020108862
Steuerungs- & Regelungstechnik
04.06.2020
Method for of measuring a focus parameter relating to a structure formed using a lithographic process
WO2020108846
Optik & Fototechnik
04.06.2020
Method for determining patterning device pattern based on manufacturability
WO2020108902
Optik & Fototechnik
04.06.2020
Systems and methods of cooling objective lens of a charged-particle beam system
WO2020108984
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.06.2020
Method for decreasing uncertainty in machine learning model predictions
WO2020109074
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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