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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
01.10.2008
Verfahren zur Positionierung eines Substrats in einem lithographischen Apparat
EP1124162 Optik & Fototechnik erteilt
01.10.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1626310 Optik & Fototechnik erteilt
01.10.2008
Verfahren zur Chemischen Reduktion eines Oxidierten Verunreinigungsmaterials oder Reduzierende Oxidation eines Verunreinigungsmaterials und Aufbereitungssystem hierfür
EP1974242 Optik & Fototechnik
01.10.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1975721 Optik & Fototechnik
01.10.2008
Lithographische Projektionsvorrichtung und Geräteherstellungsverfahren damit
EP1975723 Optik & Fototechnik
18.09.2008
Optimal rasterization for maskless lithography
WO2008110358 Optik & Fototechnik
18.09.2008
Device manufacturing method, lithographic apparatus and a computer program
WO2008111839 Optik & Fototechnik
17.09.2008
Lithographischer Projektionsapparat
EP1411392 Optik & Fototechnik erteilt
17.09.2008
Lithographische Vorrichtung mit einer Reinigungseinrichtung und Verfahren zum Reinigen eines Optischen Elements
EP1969427 Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
17.09.2008
Kühlvorrichtung
EP1969424 Optik & Fototechnik
12.09.2008
Verfahren zur Messung der Ausgasung sowie Euv-Lithographievorrichtung und Messaufbau
WO2008107136 Optik & Fototechnik
12.09.2008
Removal of deposition on an element of a lithographic apparatus
WO2008108643 Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
10.09.2008
Photoreinigung
EP1312983 Optik & Fototechnik erteilt
10.09.2008
Interferometrisches Lithografiesystem und Verfahren zum Erzeugen von Gleichen Weglängen Interferierender Strahlen
EP1966651 Optik & Fototechnik
03.09.2008
Lithografische Vorrichtung und Verwendungsverfahren davon
EP1956434 Optik & Fototechnik
20.08.2008
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1469355 Optik & Fototechnik erteilt
20.08.2008
Substrat, Substratbelichtungsverfahren und maschinenlesbares Medium
EP1906257 Optik & Fototechnik
20.08.2008
Strahlungssystem und Lithografische Vorrichtung
EP1958027 Optik & Fototechnik
20.08.2008
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
EP1821150 Optik & Fototechnik erteilt
13.08.2008
Polarisierte Strahlung in einem lithographischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1744219 Optik & Fototechnik
06.08.2008
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
EP1465014 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik erteilt
06.08.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Messung der Polarisation
EP1548506 Optik & Fototechnik erteilt
06.08.2008
Verfahren zur Messung der Bindungsqualität gebundener Substrate und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung aus einem gebundenen Substrat
EP1675176 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
06.08.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1574905 Optik & Fototechnik erteilt
30.07.2008
Verfahren zur Vorbereitung eines Substrats, Messverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Lithographischer Apparat, Computerprogramm und Substrat
EP1538485 Optik & Fototechnik erteilt
24.07.2008
Device manufacturing method and lithographic apparatus
WO2008087597 Optik & Fototechnik
23.07.2008
Verfahren zur Herstellung eines Artikels unter Verwendung einer lithographischen Projektionsmaske
EP1431834 Optik & Fototechnik erteilt
16.07.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1424597 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik erteilt
03.07.2008
Assembly for blocking a beam of radiation
WO2008078987 Optik & Fototechnik
03.07.2008
Lithographic apparatus, substrate table, and method for enhancing substrate release properties
WO2008078992 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.07.2008
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
WO2008078993 Optik & Fototechnik
03.07.2008
Patterning device, method of providing a patterning device, photolithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008079007 Optik & Fototechnik
03.07.2008
Illumination system, lithographic apparatus, mirror, method of removing contamination from a mirror and device manufacturing method
WO2008079008 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
02.07.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1223468 Optik & Fototechnik erteilt
02.07.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1333329 Optik & Fototechnik erteilt
02.07.2008
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1434099 Optik & Fototechnik erteilt
02.07.2008
Methode zur Bestimmung einer Beleuchtungseinstellung und Methode zur Übertragung einer Maskenstruktur
EP1647862 Optik & Fototechnik erteilt
02.07.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1939690 Optik & Fototechnik
26.06.2008
Reducing Fast Ions in A Plasma Radiation Source Having A Second Activation Source
WO2008075952 Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
25.06.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1267212 Optik & Fototechnik erteilt

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Technologiefelder

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Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20

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