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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
08.03.2018
Lithographic apparatus
WO2018041491
Optik & Fototechnik
08.03.2018
Method and system to monitor a process apparatus
WO2018041513
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
08.03.2018
Automatic selection of metrology target measurement recipes
WO2018041550
Optik & Fototechnik
08.03.2018
Lithographic apparatus
WO2018041599
Optik & Fototechnik
08.03.2018
System for parallel data processing with multi-layer workload management
WO2018041696
Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.03.2018
Patterning Stack Optimization
WO2018041507
Optik & Fototechnik
08.03.2018
System for dynamically compensating position errors of a sample
WO2018041744
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.03.2018
Optimierung eines Schichtenstapels
EP3291007
Optik & Fototechnik
07.03.2018
Verfahren und System zur Überwachung einer Prozessvorrichtung
EP3290911
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
07.03.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung einer Prozessvorrichtung
EP3291008
Optik & Fototechnik
01.03.2018
Metrology apparatus for measuring a structure formed on a substrate by a lithographic process, lithographic system, and method of measuring a structure formed on a substrate by a lithographic process
WO2018036828
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.02.2018
Substrate Measurement Recipe Design Of, Or For, A Target Including A Latent Image
WO2018033342
Optik & Fototechnik
22.02.2018
Modeling Post-Exposure Processes
WO2018033363
Optik & Fototechnik
22.02.2018
Method for enhancing the semiconductor manufacturing yield
WO2018033511
Steuerungs- & Regelungstechnik
22.02.2018
Alignment method
WO2018033499
Optik & Fototechnik
21.02.2018
Verfahren und -Vorrichtung für Optische Faserverbindung
EP3283912
Optik & Fototechnik
15.02.2018
Alignment mark recovery method and lithographic apparatus
WO2018028880
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.02.2018
Variable corrector of a wave front
WO2018028971
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
15.02.2018
Electron emitter and method of fabricating same
WO2018029018
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.02.2018
A positioning system, method to position, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2018024416
Optik & Fototechnik
08.02.2018
Methods&apparatus for obtaining diagnostic information, methods&apparatus for controlling an industrial process
WO2018024466
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
08.02.2018
Positioning system, control system, method to position, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2018024529
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.02.2018
Metrology method and apparatus, computer program and lithographic system
WO2018024446
Optik & Fototechnik
08.02.2018
Device and method for processing a radiation beam with coherence
WO2018024476
Optik & Fototechnik
07.02.2018
Messverfahren und -Vorrichtung, Computerprogramm und Lithographisches System
EP3279735
Optik & Fototechnik
07.02.2018
Vorrichtung und Verfahren zur Verarbeitung eines Kohärenten Strahlenbündels
EP3279736
Optik & Fototechnik
07.02.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Gewinnung Diagnostischer Informationen, Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung eines Industrieprozesses
EP3279737
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
01.02.2018
Debris mitigation system, radiation source and lithographic apparatus
WO2018019494
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
01.02.2018
Level sensor apparatus, method of measuring topographical variation across a substrate, method of measuring variation of a physical parameter related to a lithographic process, and lithographic apparatus
WO2018019496
Optik & Fototechnik
01.02.2018
A membrane assembly and particle trap
WO2018019626
Optik & Fototechnik
31.01.2018
Messung der Position eines Strahlungsfleckes in der Lithographie
EP2691811
Optik & Fototechnik
31.01.2018
Beleuchtungsquelle für eine Inspektionsvorrichtung, Inspektionsvorrichtung und Inspektionsverfahren
EP3276419
Optik & Fototechnik
25.01.2018
Apparatus for direct write maskless lithography
WO2018015113
Optik & Fototechnik
25.01.2018
Determining the combination of patterns to be applied to a substrate in a lithography step
WO2018015114
Optik & Fototechnik
25.01.2018
Method of measuring a target, substrate, metrology apparatus, and lithographic apparatus
WO2018015179
Optik & Fototechnik
25.01.2018
Method of predicting patterning defects caused by overlay error
WO2018015181
Optik & Fototechnik
18.01.2018
Method and apparatus for determining a fingerprint of a performance parameter
WO2018010928
Optik & Fototechnik
18.01.2018
Cyclic Error Measurements And Calibration Procedures in Interferometers
WO2018010961
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.01.2018
Method and apparatus for design of a metrology target field
WO2018010979
Optik & Fototechnik
18.01.2018
Visualizing performance metrics of computational analyses of design layouts
WO2018010940
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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