Nippon Mining & Metals Patente
🇯🇵 Japan
Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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291 gesamt| Patent | |||
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08.02.2007
High strength copper alloy for electronic parts and electronic parts
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 03.08.2006
Anhängig
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31.01.2007
Halbleiterwafer und Verfahren zu dessen Herstellung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.12.2002
Erteilt am 31.01.2007
Vertretung
Jones, Helen M.M · London
Jones, Helen Marjorie Meredith · London
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25.01.2007
Plating solution for electroless palladium plating
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.07.2006
Anhängig
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17.01.2007
Verbindungshalbleitersubstrat
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.01.2007
Sn-Plated Copper Alloy Bar Having Excellent Fatigue Characteristics
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.06.2006
Anhängig
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21.12.2006
Chromium oxide powder for spattering target and spattering target
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2006
Anhängig
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30.11.2006
Cu-sn mixture powder and process for producing the same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.04.2006
Anhängig
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08.11.2006
Sputtertarget, Optisches Informationsaufzeichnungsmaterial und Herstellungsverfahren dafür
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2005
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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02.11.2006
Sputtertarget, Optisches Informationsaufzeichnungsmaterial und Herstellungsverfahren dafür
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 29.07.2004
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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26.10.2006
Plated Base Material
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 13.03.2006
Anhängig
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25.10.2006
Anordnung aus Kupfer- oder Kupferlegierungstarget und Kupferlegierungsträgerplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.11.2004
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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11.10.2006
Kupfer sowie Kupferlegierung und Verfahren zur Herstellung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 26.03.2002
Erteilt am 11.10.2006
Vertretung
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27.09.2006
Kristallwachstumsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Einkristallen
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2000
Erteilt am 27.09.2006
Vertretung
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14.09.2006
Filler for resin, resin base material containing same and electronic component substrate material
Kunststoff- & Polymertechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 27.02.2006
Anhängig
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14.09.2006
Resin substrate, substrate for electronic component having electroless plating applied thereon, and process for production of substrate for electronic component
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 27.02.2006
Anhängig
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24.08.2006
Barrier film for flexible copper substrate and sputtering target for barrier film formation
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.12.2005
Anhängig
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19.07.2006
Lösung und Verfahren zur Stromlosen Abscheidung von Kupfer
Metallurgie & Oberflächentechnik
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29.06.2006
Tin and tin alloy electroplating solutions
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 16.12.2005
Anhängig
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28.06.2006
Verpackungsvorrichtung und Verpackungsverfahren für Hohlkathoden-Sputtertarget
Verpackungs- & Fördertechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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07.06.2006
Sputtertarget und Verfahren zur Endbearbeitung der Oberfläche eines Derartigen Targets
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 24.08.2004
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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13.04.2006
High purity zrb<sb>2 </sb>powder and method for production thereof
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.09.2005
Anhängig
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12.04.2006
Lösung zur Stromlosen Vergoldung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 18.02.2004
Anhängig
Vertretung
SSM Sandmair · München
Schwabe - Sandmair - Marx · München
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12.04.2006
Epitaxial-Wachstumsprozess
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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16.03.2006
Electroless gold plating pretreatment agent and copper clad laminate for flexible board
Metallurgie & Oberflächentechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 22.08.2005
Anhängig
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22.02.2006
Oberflächenbehandlungsmittel für Zinn- oder Zinnlegierungsmaterial
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2004
Anhängig
Vertretung
Haines, Miles John L.S · München
Leppard, Andrew John · Bath
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21.12.2005
Kupferelektrolytlösung Beinhaltend ein Polymer aus Quarternärer Aminoverbindung mit einem Bestimmten Gerüst und Organische Schwefelverbindung als Zusätze sowie damit Hergestellte Elektrolytische Kupferfolie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.09.2003
Anhängig
Vertretung
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02.11.2005
Sputtertarget aus Ge-Cr-Legierung und dessen Herstellungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
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15.09.2005
Metal Surface Treating Agent
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2005
Anhängig
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09.09.2005
Sputtering target with few surface defects and method for processing surface thereof
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.02.2005
Anhängig
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09.09.2005
Compound semiconductor single crystal manufacturing method and znte single crystal
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.03.2005
Anhängig
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25.08.2005
Copper Foil Having Blackened Surface Or Layer
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik
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Status
Angemeldet am 25.01.2005
Anhängig
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18.08.2005
Surface-treating agent for metal
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.01.2005
Anhängig
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11.08.2005
Sealing agent, method of sealing and printed circuit board treated with the sealing agent
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.01.2005
Anhängig
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11.08.2005
Ultrahigh-purity copper and process for producing the same
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.01.2005
Anhängig
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22.12.2004
Verfahren zur Galvanischen Verkupferung, Phosphorhaltige Anode für die Glavanische Verkupferung und unter deren Verwendung Verkupferter Halbleiterwafer mit Wenig Daran Anhaftenden Partikeln
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.11.2002
Anhängig
Vertretung
Meddle, Alan Leonard · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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24.11.2004
Kristallherstellungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.11.2002
Anhängig
Vertretung
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29.09.2004
Oberflächenbehandlung für Kupferfolie
Metallurgie & Oberflächentechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 17.07.2002
Anhängig
Vertretung
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01.09.2004
Verfahren zur Galvansichen Verkupferung, Reinkupferanode für die Galvanische Verkupferung und Dadurch Verkupferter Halbleiterwafer mit Geringer Partikelanhaftung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.09.2002
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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23.06.2004
Trägeranbringungs-Kupferfolie und Leiterplatte mit der Kupferfolie
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 08.08.2002
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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28.04.2004
Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Nickel, Hochreines Nickel, das Hochreine Nickel Enthaltendes Sputtertarget und unter Verwendung des Sputtertargets Gebildeter Dünner Film
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.10.2001
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Meddle, Alan Leonard · München
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Wer vertritt Nippon Mining & Metals?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Nippon Mining & Metals vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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