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Applied Materials Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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10.783 gesamt
Patent
12.06.2008
Precision Printing Electroplating Through Plating Mask On A Solar Cell Substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
12.06.2008
Determining Copper Concentration in Spectra
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
12.06.2008
Heat exchanger connection plate apparatus
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
12.06.2008
Mid-chamber gas distribution plate, tuned plasma control grid and electrode
Elektronik & Schaltungstechnik
12.06.2008
Pulse plating of a low stress film on a solar cell substrate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.06.2008
Apparat zum Transport von Substrathaltern
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.06.2008
Aluminiumsputtern unter Wafervorspannung
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.06.2008
System and method for depositing a gaseous mixture onto a substrate surface using a showerhead apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
04.06.2008
Ätzverfahren für eine Molybdänschicht zur Herstellung einer Fotomaske
Optik & Fototechnik
04.06.2008
Verfahren zum Heissdrahtschweissen von Kunststoffen
Kunststoff- & Polymertechnik
04.06.2008
Magnetische Einschränkung eines Plasmas
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.06.2008
Einrichtung zum reaktiven Sputtern
Metallurgie & Oberflächentechnik
29.05.2008
Compensation techniques for substrate heating processes
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
29.05.2008
Independent radiant gas preheating for precursor disassociation control and gas reaction kinetics in low temperature cvd systems
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
29.05.2008
Friction sensor for polishing system
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
29.05.2008
Method of clustering sequential processing for a gate stack structure
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.05.2008
Verfahren zur Abscheidung von Hafniumsilikat durch katalysatorunterstützte Atomlagenabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
28.05.2008
Niedertemperatur-Atomlagenabscheidung von SiO2
Metallurgie & Oberflächentechnik
21.05.2008
Stromgeformtes Kammerteil mit einer Strukturierten Fläche
Metallurgie & Oberflächentechnik
21.05.2008
Behandlung eines chlorgashaltigen Abgases
Verfahrens- & Trenntechnik
15.05.2008
System and method for high-energy sputtering using return conductors
Metallurgie & Oberflächentechnik
15.05.2008
Substrate Support Components Having Quartz Contact Tips
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.05.2008
A low temperature process for depositing a high extinction coefficient non-peeling optical absorber for a scanning laser surface anneal of implanted dopants
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.05.2008
Methods and apparatus for cleaning chamber components
Verfahrens- & Trenntechnik
14.05.2008
Verfahren zur Herstellung von Teilen auf der Basis von Yttriumoxid und Plasmareaktorteilen aus Yttriumoxid
Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.05.2008
Zerstäubungskatode für Beschichtungsprozesse
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2008
Shaped Apertures in an Ion Implanter
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2008
Substrate scanner apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2008
Ion Beam Diagnostics
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2008
Mechanical scanner for ion implanter
Maschinenelemente & Fluidtechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2008
Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
08.05.2008
Treatment of effluent in the deposition of carbon-doped silicon
07.05.2008
Verfahren zur Herstellung eines Thermooptischen-Wellenleiterschalters, Routers und Abschwächers
Optik & Fototechnik
07.05.2008
Maskenätz-Plasmareaktor mit optischen Sensoren auf der Rückseite und Mehrfrequenzsteuerung der Ätzverteilung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.05.2008
Maskenätz-Plasmareaktor mit variabler Prozessgasverteilung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.05.2008
Niedrigtemperatur-Aerosolablagerung einer plasmaresistiven Schicht
Metallurgie & Oberflächentechnik
07.05.2008
Verdampfungseinrichtung für sublimierende Materialien
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.05.2008
Multi-Directional Mechanical Scanning in an Ion Implanter
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.05.2008
Removing Residues From Substrate Processing Components
Verfahrens- & Trenntechnik
02.05.2008
Deposition analysis for robot motion correction
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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