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Applied Materials Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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10.783 gesamt
Patent
08.11.2007
WO2007127201
WO2007127201
Verfahrens- & Trenntechnik
08.11.2007
Buffer-layer treatment of mocvd-grown nitride structures
WO2007127670
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.11.2007
Substrate processing chamber with dielectric barrier discharge lamp assembly
WO2007127947
Landwirtschaft & Nahrungsmitteltechnik
07.11.2007
Mehrzweckbehandlungskammer mit ausnehmbarer Kammerauskleidung
EP1170777
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.11.2007
Selektiver Plasma-Neuoxidationsprozess mit Gepulster-Hf-Quellenleistung
EP1851795
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.11.2007
Plasma-Gate-Oxidationsprozess mit Gepulster Hf-Quellenleistung
EP1851788
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.11.2007
Kontrolle der Substratbearbeitung mittels reflektierter Strahlung
EP1852691
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
07.11.2007
Kontrolle der Substratbearbeitung mittels reflektierter Strahlung
EP1852694
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
01.11.2007
Method for forming silicon oxynitride materials
WO2007124197
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.11.2007
Neural network methods and apparatuses for monitoring substrate processing
WO2007124294
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.10.2007
Halbleiterverarbeitungssystem
EP1067586
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.10.2007
Pvd-Kammer mit Drehbarem Substratsockel
EP1848838
Metallurgie & Oberflächentechnik
31.10.2007
Ätzmittelbehandlungsverfahren für Substratflächen und Kammerflächen
EP1848550
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.10.2007
Rohrkathode für die Verwendung bei einem Sputterprozess
EP1752556
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.10.2007
Metallisierung mittels dünner, mit Plasmaunterstützung abgeschiedener Impfschicht
EP1849885
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.10.2007
An apparatus and a method for cleaning a dielectric film
WO2007120276
Verfahrens- & Trenntechnik
25.10.2007
Electrochemical processing with dynamic process control
WO2007120357
Metallurgie & Oberflächentechnik
25.10.2007
Apparatus and methods for chemical vapor deposition
WO2007121202
Metallurgie & Oberflächentechnik
25.10.2007
Process for forming cobalt-containing materials
WO2007121249
Metallurgie & Oberflächentechnik
25.10.2007
Method and apparatus for fabricating a high dielectric constant transistor gate using a low energy plasma system
WO2007121007
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.10.2007
Rf Powered Target For Increasing Deposition Uniformity in Sputtering Systems
WO2007120967
Metallurgie & Oberflächentechnik
25.10.2007
Planarization of substrates at a high polishing rate using electrochemical mechanical polishing
WO2007121177
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.10.2007
A method to improve the ashing/wet etch damage resistance and integration stability of low dielectric constant films
WO2007117320
Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
18.10.2007
Ball contact cover for copper loss reduction and spike reduction
WO2007117301
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
18.10.2007
Cluster tool for epitaxial film formation
WO2007117583
Metallurgie & Oberflächentechnik
18.10.2007
Method to improve the step coverage and pattern loading for dielectric films
WO2007118026
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.10.2007
Silicon oxynitride gate dielectric formation using multiple annealing steps
WO2007118031
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.10.2007
Reactive Sputtering Zinc Oxide Transparent Conductive Oxides Onto Large Area Substrates
WO2007118204
Metallurgie & Oberflächentechnik
18.10.2007
Lichtunterstütztes Testen eines Optoelektronischen Moduls
WO2007115774
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.10.2007
Vorrichtung zur Kalibrierung von Temperaturmessungen und zur Messung von elektrischen Strömen
EP1067371
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
17.10.2007
Infrarotheizelement und Vakuumkammer mit Substratheizung, insbesondere für Vakuumbeschichtungsanlagen
EP1631121
Elektronik & Schaltungstechnik
17.10.2007
Bedampfervorrichtung
EP1752554
Metallurgie & Oberflächentechnik
11.10.2007
A method for adjusting substrate processing times in a substrate polishing system
WO2007114964
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
11.10.2007
Chemical delivery apparatus for cvd or ald
WO2007115000
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
10.10.2007
Cluster-Tool-Architektur zum Verarbeiten eines Substrats
EP1842225
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Method of direct plating of copper on a substrate structure
WO2007111676
Metallurgie & Oberflächentechnik
04.10.2007
Method of selectively depositing a thin film material at a semiconductor interface
WO2007111679
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
04.10.2007
An apparatus and a method for electrochemical mechanical processing with fluid flow assist elements
WO2007111729
Elektronik & Schaltungstechnik
04.10.2007
Carbon precursors for use during silicon epitaxial firm formation
WO2007112058
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Method and apparatus for improving uniformity of large-area substrates
WO2007112179
Metallurgie & Oberflächentechnik

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