ASML Netherlands Patente
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
390 gesamt| Patent | |||
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04.12.2013
Lithografische Vorrichtung mit einer Dämpfungsunteranordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.10.2008
Erteilt am 04.12.2013
Vertretung
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21.11.2013
Light Collector Mirror Cleaning
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 18.04.2013
Anhängig
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06.11.2013
Mehrflutige Optische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.10.2011
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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06.11.2013
Ausrichtungsverfahren, Ausrichtungssystem, Produkt mit Ausrichtungsmarkierung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.12.2008
Erteilt am 06.11.2013
Vertretung
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09.10.2013
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2005
Anhängig
Vertretung
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03.10.2013
A lithography apparatus, a device manufacturing method, a method of manufacturing an attenuator
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.02.2013
Anhängig
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11.09.2013
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.07.2011
Erteilt am 11.09.2013
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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04.09.2013
Lithographischer Apparat mit einer durch einen Flachmotor angetriebenen Trägerplatte
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.07.2007
Erteilt am 04.09.2013
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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29.08.2013
Method for optimizing a protective layer system for an optical element, optical element and optical system for euv lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2013
Anhängig
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28.08.2013
Oszillator-Verstärker-Antriebslaser mit Samenschutz für eine Euv-Lichtquelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 06.09.2011
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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15.08.2013
A lithography apparatus and system, a method of calibrating a lithography apparatus, and device manufacturing methods
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.01.2013
Anhängig
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31.07.2013
Flüssigkeitsleckdetektor für eine Immersionslithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.06.2006
Erteilt am 31.07.2013
Vertretung
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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31.07.2013
Lithografische Vorrichtung und Verfahren für Schwingungsdämpfungsteuerung
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 02.10.2008
Erteilt am 31.07.2013
Vertretung
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25.07.2013
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2012
Anhängig
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25.07.2013
Method of loading a flexible substrate and lithography apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.01.2013
Anhängig
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13.06.2013
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2012
Anhängig
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13.06.2013
A lithography apparatus, an apparatus for providing setpoint data, a device manufacturing method, a method of calculating setpoint data and a computer program
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2012
Anhängig
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13.06.2013
Radiation Source
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.11.2012
Anhängig
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06.06.2013
Inspection method and apparatus, and corresponding lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.10.2012
Anhängig
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06.06.2013
Apparatus and method for converting a vector-based representation of a desired device pattern for a lithography apparatus, apparatus and method for providing data to a programmable patterning device, a lithography apparatus and a device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.11.2012
Anhängig
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06.06.2013
Lithographic apparatus, device manufacturing method and computer program
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.11.2012
Anhängig
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30.05.2013
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.10.2012
Anhängig
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29.05.2013
Ausrichtung eines Lichtquellenfokus
Medizintechnik & Gesundheit
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Status
Angemeldet am 14.07.2011
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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23.05.2013
Radiation source and method for operating the same, lithographic apparatus comprising the radiation source, and device manufacturing method
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.10.2012
Anhängig
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23.05.2013
Radiation source device, lithographic apparatus, and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.10.2012
Anhängig
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23.05.2013
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.10.2012
Anhängig
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16.05.2013
Particle trap for euv source
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.10.2012
Anhängig
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16.05.2013
Particle trap for euv source
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.10.2012
Anhängig
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01.05.2013
Master-Oszillator-Leistungsverstärker-Laser mit Vorimpuls für Euv-Lichtquellen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.05.2011
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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25.04.2013
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.09.2012
Anhängig
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11.04.2013
Radiation Source
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 06.09.2012
Anhängig
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11.04.2013
Method to provide a patterned orientation template for a self-assemblable polymer
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Status
Angemeldet am 02.10.2012
Anhängig
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28.03.2013
Radiation Source
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 23.08.2012
Anhängig
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21.03.2013
Apparatus for monitoring a lithographic patterning device
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.08.2012
Anhängig
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20.03.2013
Spektraler Reinigungsfilter für einen mehrschichtigen Spiegel, lithografische Vorrichtung mit einem derartigen mehrschichtigen Spiegel, Verfahren zur Vergrößerung des Verhältnisses von erwünschter und unerwünschter Strahlung sowie Geräteherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.04.2006
Erteilt am 20.03.2013
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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13.03.2013
Mehrschichtiger Spiegel und Lithographievorrichtung damit
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2009
Erteilt am 13.03.2013
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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13.03.2013
Spektraler Reinheitsfilter, Strahlungsquelle, Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 09.07.2009
Erteilt am 13.03.2013
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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07.03.2013
Lithographic apparatus, method of setting up a lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.07.2012
Anhängig
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07.03.2013
Lithographic system, method of controlling a lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.07.2012
Anhängig
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07.03.2013
Radiation Source
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 01.08.2012
Anhängig
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Wer vertritt ASML Netherlands?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
351
Elektronik & Schaltungstechnik
44
Elektrische Energietechnik
37
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
34
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
33
Medizintechnik & Gesundheit
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Anorganische Chemie & Werkstoffe
4
Kunststoff- & Polymertechnik
3
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
3
Steuerungs- & Regelungstechnik
3
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
2