ASML Netherlands Patente
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
390 gesamt| Patent | |||
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13.07.2016
Strahlungsquelle, Lithographische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 29.07.2009
Erteilt am 13.07.2016
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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04.05.2016
Lpp-Euv-Lichtquellenantriebslasersystem
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 27.06.2006
Erteilt am 04.05.2016
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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14.04.2016
Euv-Lithographiesystem und Betriebsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
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02.03.2016
Lithographieverfahren und lithographische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.12.2008
Erteilt am 02.03.2016
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Roberts, Peter David · Manchester
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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10.02.2016
Prüfverfahren und -vorrichtung, lithographische Vorrichtung und Zelle zur lithographischen Verarbeitung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.07.2008
Erteilt am 10.02.2016
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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10.02.2016
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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20.01.2016
Strahlungsquelle und Verfahren für eine Lithografische Vorrichtung sowie Geräteherstellungsverfahren
Elektronik & Schaltungstechnik
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21.10.2015
Plasma-Euv-Lichtquelle mit Laserproduziertem Plasma
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 04.12.2007
Erteilt am 21.10.2015
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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23.09.2015
Substrathalter, lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Substrathalters
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2012
Erteilt am 23.09.2015
Vertretung
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
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17.06.2015
Strahlungsquelle und lithografischer Apparat
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 17.07.2009
Erteilt am 17.06.2015
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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27.05.2015
Reflektierendes Optisches Element und Verfahren zu Seiner Herstellung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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06.05.2015
Flüssigkeitshandhabungsstruktur und lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.03.2011
Erteilt am 06.05.2015
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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08.04.2015
Anordnung zur Modifizierung der Eigenschaften einer Vielzahl von Strahlenbündeln, Lithografische Vorrichtung, Verfahren zur Modifizierung der Eigenschaften einer Vielzahl von Strahlenbündeln und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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18.03.2015
Quelle-Kollektor-Anordnung, Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.09.2010
Erteilt am 18.03.2015
Vertretung
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
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04.03.2015
Elektrostatische Klemme, Lithografievorrichtung und -Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.03.2013
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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08.01.2015
Inspection apparatus and method, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2014
Anhängig
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31.12.2014
Radiation source for an euv optical lithographic apparatus, and lithographic apparatus comprising such a radiation source
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 05.06.2014
Anhängig
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17.12.2014
Elektrostatische Klammer, Lithografische Vorrichtung und Geräteherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2012
Erteilt am 17.12.2014
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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10.12.2014
Kollektorspiegelanordnung und Verfahren zur Produktion von Euv Strahlung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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12.11.2014
Geräteherstellungsverfahren mit EUV-Strahlung
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.07.2009
Erteilt am 12.11.2014
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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22.10.2014
Lenksystem für einen Tröpfchengenerator
Medizintechnik & Gesundheit
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Status
Angemeldet am 20.11.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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01.10.2014
Lithografische Vorrichtung und Positionierungsvorrichtung
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.11.2009
Erteilt am 01.10.2014
Vertretung
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25.09.2014
Extreme Ultraviolet Light Source
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 25.02.2014
Anhängig
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25.09.2014
Beam Position Control For an Extreme Ultraviolet Light Source
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 25.02.2014
Anhängig
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18.09.2014
Optisches Element und Optisches System zur Euv-Lithografie und Verfahren zur Bearbeitung Solch eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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09.07.2014
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.08.2004
Erteilt am 09.07.2014
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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25.06.2014
Energiesensoren zur Lichtstrahlenausrichtung
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.07.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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17.04.2014
Method of and apparatus for in-situ repair of reflective optic
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.09.2013
Anhängig
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16.04.2014
Systeme und Verfahren zur Puffergasstromstabilisierung in einer Lasererzeugten Plasmalichtquelle
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.05.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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26.03.2014
Filter für eine Materialzufuhrvorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 20.03.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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19.03.2014
Tröpfchengenerator mit durch ein Stellglied Aktivierter Düsenreinigung
Medizintechnik & Gesundheit
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 29.03.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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26.02.2014
Gewundene Lithographiereihenfolge
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.08.2008
Erteilt am 26.02.2014
Vertretung
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12.02.2014
Strahlungsquelle und lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2012
Erteilt am 12.02.2014
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05.02.2014
System und Verfahren zur Kompensation von Wärmeeffekten in einer Euv-Lichtquelle
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 06.03.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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22.01.2014
Antriebslaser-Ausgabesysteme für Euv-Lichtquellen
Medizintechnik & Gesundheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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08.01.2014
Systeme und Verfahren zur Optikreinigung in einer Euv-Lichtquelle
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.02.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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08.01.2014
Lithografische Vorrichtung, Filter für Spektrale Reinheit und Geräteherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2011
Anhängig
Vertretung
Ketting, Alfred · Eindhoven
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
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12.12.2013
Lithography apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.05.2013
Anhängig
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05.12.2013
System and method to optimize extreme ultraviolet light generation
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 01.05.2013
Anhängig
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05.12.2013
System and method for protecting a seed laser in an euv light source with a bragg aom
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.05.2013
Anhängig
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Wer vertritt ASML Netherlands?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
351
Elektronik & Schaltungstechnik
44
Elektrische Energietechnik
37
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
34
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
33
Medizintechnik & Gesundheit
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Anorganische Chemie & Werkstoffe
4
Kunststoff- & Polymertechnik
3
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
3
Steuerungs- & Regelungstechnik
3
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
2