ASML Netherlands Patente
🇳🇱 Niederlande
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390
Patente
2000–2020
Anmeldejahre
16
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
390 gesamt| Patent | |||
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07.03.2013
Radiation source and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.07.2012
Anhängig
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07.03.2013
Lithographic apparatus, method of setting up a lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.07.2012
Anhängig
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07.03.2013
Lithographic system, method of controlling a lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.07.2012
Anhängig
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07.03.2013
Radiation source and method for lithographic apparatus for device manufacture
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 27.07.2012
Anhängig
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07.03.2013
Radiation source and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 31.07.2012
Anhängig
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06.03.2013
Spektraler Reinigungsfilter
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2011
Anhängig
Vertretung
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
Ketting, Alfred · Eindhoven
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28.02.2013
Metrology method and apparatus, and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.06.2012
Anhängig
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21.02.2013
Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.07.2012
Anhängig
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13.02.2013
Euv-Strahlungsquelle und Euv-Strahlungserzeugungsverfahren
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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13.02.2013
Systeme und Verfahren für den Schutz einer Zielmaterialausgabe in einer Laserproduzierten Plasma-Euv-Lichtquelle
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 01.04.2011
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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30.01.2013
Lithographischer Projektionsapparat, Steuervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.03.2007
Erteilt am 30.01.2013
Vertretung
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24.01.2013
Method for providing a template for a self-assemblable polymer for use in device lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.06.2012
Anhängig
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16.01.2013
Spektralreinigungsfilter und Verfahren zur Herstellung eines Spektralreinigungsfilters
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 21.07.2010
Erteilt am 16.01.2013
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16.01.2013
Optisches Element für Lithografische Vorrichtung, Lithografische Vorrichtung mit Solch einem Optischen Element und Verfahren zur Herstellung des Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2009
Erteilt am 16.01.2013
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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27.12.2012
Inspection method and apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2012
Anhängig
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27.12.2012
Self-assemblable polymer and methods for use in lithography
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2012
Anhängig
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27.12.2012
Self-assemblable polymer and method for use in lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2012
Anhängig
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20.12.2012
Multilayer mirror, method of producing a multilayer mirror and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 26.03.2012
Anhängig
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20.12.2012
Inspection for lithography
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.04.2012
Anhängig
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19.12.2012
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.02.2011
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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12.12.2012
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.03.2011
Erteilt am 12.12.2012
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31.10.2012
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.03.2011
Anhängig
Vertretung
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
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31.10.2012
Beleuchtungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2004
Erteilt am 31.10.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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26.10.2012
Lithographic apparatus, method for maintaining a lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.03.2012
Anhängig
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26.10.2012
Arrangement For Actuating an Element in A Microlithographic Projection Exposure Apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.04.2012
Anhängig
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24.10.2012
Optisches Element, Lithografievorrichtung mit derartigem optischen Element, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2009
Anhängig
Vertretung
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11.10.2012
Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2012
Anhängig
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11.10.2012
Mirror, radiation source - collector and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 01.03.2012
Anhängig
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03.10.2012
Verfahren zur Durchführung einer modellbasierten Scannerabstimmung, Computerprogramm und lithografischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.08.2008
Erteilt am 03.10.2012
Vertretung
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27.09.2012
Substrate and patterning device for use in metrology, metrology method and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.02.2012
Anhängig
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27.09.2012
Method and apparatus for determining structure parameters of microstructures
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.03.2012
Anhängig
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20.09.2012
Electrostatic clamp apparatus and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.01.2012
Anhängig
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20.09.2012
Lithographic apparatus, method for measuring radiation beam spot focus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2012
Anhängig
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12.09.2012
Reflektierendes Schleifensystem zur Produktion inkohärenter Strahlung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.05.2007
Erteilt am 12.09.2012
Vertretung
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29.08.2012
Lithographievorrichtung und Reinigungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.05.2007
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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23.08.2012
Lithographic apparatus and device manufacturing method.
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 20.12.2011
Anhängig
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09.08.2012
Substrate table, lithographic apparatus and device manufacturing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.11.2011
Anhängig
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02.08.2012
Conduit for radiation, suitable for use in a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 21.09.2011
Anhängig
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01.08.2012
Lithografische Vorrichtung und deren Fokusbestimmungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2009
Anhängig
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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01.08.2012
Filter für Spektrale Reinheit, Lithografisches Gerät und Geräteherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.08.2010
Anhängig
Vertretung
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
Siem, Max Yoe Shé · Amsterdam
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Wer vertritt ASML Netherlands?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML Netherlands vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
351
Elektronik & Schaltungstechnik
44
Elektrische Energietechnik
37
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
34
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
33
Medizintechnik & Gesundheit
6
Verfahrens- & Trenntechnik
5
Anorganische Chemie & Werkstoffe
4
Kunststoff- & Polymertechnik
3
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
3
Steuerungs- & Regelungstechnik
3
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
2