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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
07.04.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
07.04.2004
Strahlungsquelle, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Optik & Fototechnik
31.03.2004
Hilfsmuster für lithographisches Belichtungsverfahren
Optik & Fototechnik
31.03.2004
System und Verfahren zur Anwendung einer zweiteiligen Abdeckung zum Schutz einer Fotomaske
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.03.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
17.03.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
17.03.2004
Facettenreflektor-Kondensor für die EUV-Lithographie
Optik & Fototechnik
03.03.2004
Beleuchtungssystem mit einer Vielzahl von Einzelgittern
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
25.02.2004
Interferrometrische Bestimmung der Dreidimensionalen Brechungsindexverteilung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
28.01.2004
Belichtungsgerät für die EUV-Lithographie mit einem eine selbstausrichtende Monoschicht enthaltendem optischen Element, optisches Element mit selbstausrichtender Monoschicht, Methode zum Aufbringen einer solchen Schicht und Verfahren zur Erzeugung eines Geräts
Optik & Fototechnik
28.01.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
21.01.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
14.01.2004
Substrathalter und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
07.01.2004
Lithographischer Projektionsapparat mit einer temperaturgeregelten Wärmeabschirmung
Optik & Fototechnik
17.12.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
10.12.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
03.12.2003
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
26.11.2003
Gleichzeitige Abbildung von Zwei Retikeln
Optik & Fototechnik
26.11.2003
Methode zum Gleichmässigen Beschichten eines Substrats
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
26.11.2003
Methode zum Gleichmässigen Beschichten eines Substrats
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
12.11.2003
Ausseraxiale Nivellierung in einem lithographischen Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
05.11.2003
Halter, lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung eines Halters und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.10.2003
Lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
29.10.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
29.10.2003
Lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
15.10.2003
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und dabei hergesteller Artikel
Optik & Fototechnik
15.10.2003
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Rechnerprogramme
Optik & Fototechnik
15.10.2003
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, diese Vorrichtung und Rechnerprogramm
Optik & Fototechnik
01.10.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
17.09.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
10.09.2003
Beleuchtungssystem für Extrem-Ultraviolett-Strahlung und dessen Anwendung in einem lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
03.09.2003
Verfahren zur Übergabe einer Maske oder eines Substrats
Optik & Fototechnik
27.08.2003
Isolierende Stützvorrichtungen zur Verwendung mit Vakuumkammern und deren Anwendung in lithographischen Projektionsapparaten
Optik & Fototechnik
27.08.2003
Fortgeschrittenes Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
20.08.2003
Lithographischer Apparat, Ausrichtverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
13.08.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
13.08.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
06.08.2003
Lithographisches Projektionsverfahren
Optik & Fototechnik
23.07.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
02.07.2003
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik

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