ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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07.04.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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07.04.2004
Strahlungsquelle, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.09.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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31.03.2004
Hilfsmuster für lithographisches Belichtungsverfahren
Optik & Fototechnik
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31.03.2004
System und Verfahren zur Anwendung einer zweiteiligen Abdeckung zum Schutz einer Fotomaske
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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31.03.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.09.2003
Anhängig
Vertretung
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17.03.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.09.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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17.03.2004
Facettenreflektor-Kondensor für die EUV-Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.01.2000
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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03.03.2004
Beleuchtungssystem mit einer Vielzahl von Einzelgittern
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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25.02.2004
Interferrometrische Bestimmung der Dreidimensionalen Brechungsindexverteilung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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28.01.2004
Belichtungsgerät für die EUV-Lithographie mit einem eine selbstausrichtende Monoschicht enthaltendem optischen Element, optisches Element mit selbstausrichtender Monoschicht, Methode zum Aufbringen einer solchen Schicht und Verfahren zur Erzeugung eines Geräts
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.06.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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28.01.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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21.01.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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14.01.2004
Substrathalter und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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07.01.2004
Lithographischer Projektionsapparat mit einer temperaturgeregelten Wärmeabschirmung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.12.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.06.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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10.12.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 04.06.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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03.12.2003
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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26.11.2003
Gleichzeitige Abbildung von Zwei Retikeln
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.02.2002
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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26.11.2003
Methode zum Gleichmässigen Beschichten eines Substrats
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2002
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
W.P. Thompson & Co · Liverpool
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26.11.2003
Methode zum Gleichmässigen Beschichten eines Substrats
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.02.2002
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
W.P. Thompson & Co · Liverpool
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12.11.2003
Ausseraxiale Nivellierung in einem lithographischen Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2000
Anhängig
Vertretung
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05.11.2003
Halter, lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung eines Halters und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.10.2003
Lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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29.10.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.04.2003
Anhängig
Vertretung
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29.10.2003
Lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 22.04.2003
Anhängig
Vertretung
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15.10.2003
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und dabei hergesteller Artikel
Optik & Fototechnik
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15.10.2003
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Rechnerprogramme
Optik & Fototechnik
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15.10.2003
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, diese Vorrichtung und Rechnerprogramm
Optik & Fototechnik
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01.10.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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17.09.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.03.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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10.09.2003
Beleuchtungssystem für Extrem-Ultraviolett-Strahlung und dessen Anwendung in einem lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2000
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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03.09.2003
Verfahren zur Übergabe einer Maske oder eines Substrats
Optik & Fototechnik
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27.08.2003
Isolierende Stützvorrichtungen zur Verwendung mit Vakuumkammern und deren Anwendung in lithographischen Projektionsapparaten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.04.2000
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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27.08.2003
Fortgeschrittenes Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 18.10.2002
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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20.08.2003
Lithographischer Apparat, Ausrichtverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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13.08.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.02.2003
Anhängig
Vertretung
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13.08.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.02.2003
Anhängig
Vertretung
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06.08.2003
Lithographisches Projektionsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2000
Anhängig
Vertretung
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23.07.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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02.07.2003
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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