ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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03.05.2023
Breitbandstrahlungsgenerator mit Hohlkern auf der Basis von Photonischen Kristallfasern
Optik & Fototechnik
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03.05.2023
Verfahren zur Bestimmung einer Leistungsparameterverteilung
Optik & Fototechnik
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26.04.2023
Verfahren zur Korrektur von Out-Of-Band-Lecks und Metrologie-Apparat
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is method of correcting a metrology image for an out-of-band leakage signal contribution resultant from leakage of measurement radiation at suppressed wavelengths. The method comprises: obtaining at least one correction image, said correction image obtained using measurement radiation with all wavelengths or wavelength bands maximally suppressed by a radiation modulation device; obtaining a metrology image using measurement radiation comprising modulated broadband radiation, modulated by the radiation modulation device to obtain a configured spectrum; and using the at least one correction image to correct the metrology image. |
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26.04.2023
Detektoranordnung, Vorrichtung für Geladene Teilchen, Gerät und Verfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
The present application discloses detector assembly for a charged particle assessment apparatus, the detector assembly comprising a plurality of electrode elements, each electrode element having a major surface configured to be exposed to signal particles emitted from a sample, wherein between adjacent electrode elements is a recess that is recessed relative to the major surfaces of the electrode elements, and wherein at least one of the electrode elements is a detection element configured to detect signal particles and the recess extends laterally behind the detection element. Charged particle assessment devices and apparatus, and corresponding methods are also provided. |
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26.04.2023
Endfacettenschutz für eine Lichtquelle und Verfahren zur Verwendung in Metrologieanwendungen
Optik & Fototechnik
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26.04.2023
Metrologische Vorrichtung und Metrologische Verfahren basierend auf der Erzeugung Hoher Oberschwingungen aus einer Diffraktiven Struktur
Optik & Fototechnik
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26.04.2023
Reinigungsverfahren und Zugehöriges Beleuchtungsquellenmetrologiegerät
Optik & Fototechnik
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19.04.2023
Substrathalter und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.04.2023
Objekthalter, Elektrostatische Folie und Verfahren zur Herstellung einer Elektrostatischen Folie
Optik & Fototechnik
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19.04.2023
Austauschbares Modul für eine Vorrichtung mit Geladenen Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.04.2023
Aberrations-Aufprallsysteme, Modelle und Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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19.04.2023
Verfahren und System zur Vorhersage von Aberrationen in einem Projektionssystem
Optik & Fototechnik
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19.04.2023
Elektrischer Verbinder für Hohe Leistung in einer Vakuumumgebung und Verfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.04.2023
Fluidextraktionssystem, Verfahren und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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19.04.2023
Verfahren zur Bestimmung einer Messrezeptur in einem Metrologischen Verfahren
Optik & Fototechnik
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12.04.2023
Verfahren und Vorrichtung zur Detektion Geladener Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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12.04.2023
Substrathalter zur Verwendung in einem Lithographischen Gerät und Verfahren zur Herstellung eines Substrathalters
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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12.04.2023
Systeme, Produkte und Verfahren zur Erzeugung von Musterungsvorrichtungen und Muster dafür
Optik & Fototechnik
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12.04.2023
Verbesserte Breitbandige Strahlungserzeugung in Photonischen Kristallen oder Hochgradig Nichtlinearen Fasern
Optik & Fototechnik
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12.04.2023
Werkzeug zur Überwachung der Faserausrichtung und Zugehöriges Verfahren zur Faserausrichtung
Optik & Fototechnik
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12.04.2023
Kammer für ein Projektionssystem einer Lithographischen Vorrichtung, Projektionssystem und Lithographisches Gerät
Optik & Fototechnik
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12.04.2023
Ausrichtung eines Sem-Bildes
Software & Datenverarbeitung
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05.04.2023
Maske und Maskenanordnung
Optik & Fototechnik
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05.04.2023
Hochdruck- und Vakuumfüllstandssensor in Metrologiestrahlungssystemen
Elektronik & Schaltungstechnik
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05.04.2023
Optisches Element und Membran für einen Lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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05.04.2023
Verfahren zum Messen von mindestens einem Ziel auf einem Substrat
Optik & Fototechnik
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29.03.2023
Lithografische Vorrichtung mit einem Objekt mit einer Oberen Schicht mit Verbesserter Beständigkeit gegen Abschälen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2017
Erteilt am 29.03.2023
Vertretung
Verhoeven, Johannes Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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29.03.2023
Positionsmesssystem und Gitter für ein Positionsmesssystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.11.2013
Erteilt am 29.03.2023
Vertretung
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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29.03.2023
Ladungsteilchenvorrichtung und -Verfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.03.2023
Verfahren für Fokusmetrologie und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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29.03.2023
Metrologieverfahren und -System und Lithografisches System
Optik & Fototechnik
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29.03.2023
Hybrider Tröpfchengenerator für Extrem-Ultraviolett-Lichtquellen in Lithographischen Strahlungssystemen
Elektronik & Schaltungstechnik
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22.03.2023
System und Verfahren zur Inspektion durch Klassifizierung und Identifizierung von Fehlermechanismen in einem System mit Geladenen Teilchen
Optik & Fototechnik
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15.03.2023
Systeme und Verfahren zur Erkennung von Defekten in einer Strukturierungsvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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15.03.2023
Verbesserung eines Sem-Bildes
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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15.03.2023
Bildverbesserung für eine Mehrschichtstruktur bei der Inspektion mit Geladenen Teilchenstrahlen
Software & Datenverarbeitung
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01.03.2023
Verfahren zur Kalibrierung eines Optischen Messsystems und Optisches Messsystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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01.03.2023
Konfiguration eines Eingebermodells
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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01.03.2023
Verbesserte Breitbandige Strahlungserzeugung in Photonischen Kristallen oder Hochgradig Nichtlinearen Fasern
Optik & Fototechnik
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01.03.2023
Pellikelrahmen für Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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