ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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23.02.2022
Metrologieverfahren zur Messung eines Belichteten Musters und Zugehörige Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
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23.02.2022
Bildsensor für Immersionslithographie
Optik & Fototechnik
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16.02.2022
Für Teilchenstrahlvorrichtung Geeignete Stufenvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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16.02.2022
Verfahren zur Herstellung einer Membrananordnung für Euv-Lithographie, Membrananordnung, Lithographievorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2016
Erteilt am 16.02.2022
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16.02.2022
Pellikel und Pellikelanordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2016
Erteilt am 16.02.2022
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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16.02.2022
Mems-Bildformungselement mit Eingebautem Spannungsgenerator
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.02.2022
System und Verfahren zur Ausrichtung von Sekundärstrahlen in einer Mehrstrahl-Inspektionsvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.02.2022
Lithografische Vorrichtung und Zugehörige Verfahren
Optik & Fototechnik
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09.02.2022
Blendenanordnung mit Integrierter Strommessung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.02.2022
Glasfaser
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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09.02.2022
Mehrstrahliges Inspektionsgerät mit Einstrahligem Modus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.02.2022
Verfahren zur Bestimmung eines Satzes an Metrologiepunkten auf einem Substrat, Zugehörige Vorrichtung und Computerprogramm
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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09.02.2022
Verfahren zur Bestimmung der Abweichung eines Herstellungsverfahrens, Kalibrierungsverfahren, Prüfwerkzeug, Herstellungssystem und Muster
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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09.02.2022
Vorrichtung und Verfahren zur Auswahl von Informationsmustern zum Trainieren von Maschinenlernmodellen
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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09.02.2022
Laserfokussierungsmodul
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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09.02.2022
Steuerung der Konversionseffizienz in einer Extremen Ultraviolettlichtquelle
Elektronik & Schaltungstechnik
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02.02.2022
Verfahren zum Klassifizieren von Halbleiterwafern
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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02.02.2022
Verfahren zur Steuerung eines Herstellungsverfahrens und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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26.01.2022
Verfahren zur Anpassung eines Strukturierungsverfahrens
Optik & Fototechnik
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19.01.2022
Zielmaterialsteuerung in einer Euv-Lichtquelle
Elektronik & Schaltungstechnik
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19.01.2022
Emitter zum Emittieren Geladener Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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12.01.2022
Inspektionsvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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12.01.2022
Ladungsteilchenmehrstrahlsäule, Ladungsteilchenmehrstrahlsäulenanordnung, Inspektionsverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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12.01.2022
Auf Photonischer Hohlkernkristallfaser Basierender Breitbandstrahlungsgenerator mit Verlängerter Faserlebensdauer
Optik & Fototechnik
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05.01.2022
Multielektroden-Stapelanordnung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.01.2022
Vorrichtung und Verfahren zur Steuerung der Leistung eines Tröpfchengenerators
Elektronik & Schaltungstechnik
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05.01.2022
Laserbetätigte Lichtquelle
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.09.2014
Erteilt am 05.01.2022
Vertretung
Murgitroyd & Company · Glasgow
Wablat Lange Karthaus · Berlin
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05.01.2022
Detektor für Geladene Teilchen mit Verstärkungselement
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.01.2022
Tischsystem und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.01.2020
Anhängig
Vertretung
Nouwens, Johannes Wilhelmus Henricus · Veldhoven
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29.12.2021
Transmissives Beugungsgitter
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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22.12.2021
Verfahren und Lithographievorrichtung zur Messung eines Strahlungsbündels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.01.2020
Anhängig
Vertretung
Pei, Fei · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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15.12.2021
Objekthalter, Elektrostatische Platte und Verfahren zur Herstellung einer Elektrostatischen Platte
Optik & Fototechnik
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15.12.2021
Komponente zur Verwendung in einem Lithographischen Gerät, Verfahren zum Schützen einer Komponente und Verfahren zum Schützen von Tischen in einem Lithographischen Gerät
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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15.12.2021
Flüssigkeitsspülsystem
Optik & Fototechnik
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15.12.2021
Vorrichtung zur Verwendung in einem Metrologischen oder Lithographischen Prozess
Optik & Fototechnik
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15.12.2021
Verfahren und System zur Messung der Höhe
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
The present invention provides a method for calculating a corrected substrate height map of a first substrate using a height level sensor. The method comprises: sampling the first substrate by means of the height level sensor with the first substrate moving with a first velocity, wherein the first velocity is a first at least partially non-constant velocity of the first substrate with respect to the height level sensor, to generate a first height level data, generating a first height map based on the first height level data, and calculating a corrected substrate height map by subtracting a correction map form the first height map, wherein the correction map is calculated from the difference between a first velocity height map and a second velocity height map. |
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08.12.2021
Verfahren zur Entscheidungsfindung in einem Halbleiterherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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01.12.2021
Wellenfrontsensor und Zugehörige Messvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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01.12.2021
Substrathalter zur Verwendung in einem Lithografischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.12.2021
Konditioniervorrichtung und Zugehöriger Objekthandler, Stufeneinrichtung und Lithographieeinrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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