ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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04.09.2024
Klemme zum Halten eines Objekts und Verfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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04.09.2024
Verfahren zur Herstellung einer Elektrostatischen Objektklemme, Elektrostatische Objektklemme und Halbleiterverarbeitungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.08.2024
Lithographic apparatus, inspection system, and method of implementing parallel sensor-heads with a common radiation source
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2024
Anhängig
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29.08.2024
Method and system for selecting patterns based on similarity metric
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.01.2024
Anhängig
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29.08.2024
Decoupling system for an optical component
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.01.2024
Anhängig
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29.08.2024
Patterning device loading method
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.01.2024
Anhängig
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29.08.2024
Enabling More Marks in Alignment Sensor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2024
Anhängig
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29.08.2024
Lithographic apparatus, method of increasing plasma concentration, and method of manufacturing devices
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2024
Anhängig
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28.08.2024
Membran für die Membran einer Lithographischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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28.08.2024
Lithographische Vorrichtung und Zugehörige Verfahren
Optik & Fototechnik
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28.08.2024
Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.08.2024
Detektoranordnung, Vorrichtung, Gerät und Verfahren für Geladene Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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22.08.2024
Method for determining an optical property
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.01.2024
Anhängig
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22.08.2024
System and method for position control
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 09.02.2024
Anhängig
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22.08.2024
Method and system for identifying a center of a pattern using automatic thresholding
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.01.2024
Anhängig
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22.08.2024
Charged particle-optical element, charged particle-optical module, assessment apparatus, chip assembly, method of manufacturing
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.01.2024
Anhängig
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22.08.2024
Metrology method and associated metrology tool
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.01.2024
Anhängig
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22.08.2024
Metrology method and associated metrology device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2024
Anhängig
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22.08.2024
Metrology method and associated metrology device
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2024
Anhängig
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22.08.2024
Method and system for predicting process information from image data
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 18.01.2024
Anhängig
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21.08.2024
Verfahren und System zur Vorhersage von Prozessinformationen aus Bilddaten
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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21.08.2024
Verfahren zum Laden einer Musterungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.08.2024
Optisches Element für Geladene Teilchen, Optisches Modul für Geladene Teilchen, Beurteilungsvorrichtung, Chipanordnung, Verfahren zur Herstellung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
A charged particle-optical element is disclosed. The element is for a charged particle-optical module configured to direct charged particles along at least one beam path towards a sample. In one arrangement, the element comprises a chip comprising an integrated circuit 64 formed in a semiconductor substrate 61. The substrate defines at least one aperture 63 for passage therethrough of the at least one beam path. A size of the substrate exceeds a die-size of a lithographic imaging system used during manufacturing of the integrated circuit. |
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21.08.2024
Energiebandpassfilterung für Verbesserte Bildauflösung Rückgestreuter Geladener Teilchen mit Hoher Landungsenergie
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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15.08.2024
Method for nonlinear optical measurement of parameter
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2023
Anhängig
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15.08.2024
Lithographic apparatus and method to calibrate a position measurement system of a lithographic apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.01.2024
Anhängig
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15.08.2024
Measurement device, method of measurement, and method of manufacturing devices
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.01.2024
Anhängig
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15.08.2024
Lithographic apparatus and method of controlling substrate support
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.01.2024
Anhängig
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15.08.2024
Fluid nozzle for a patterning device environment of a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.01.2024
Anhängig
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15.08.2024
System for changing the shape of a substrate
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.01.2024
Anhängig
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15.08.2024
Lithographic apparatus, detection system with parallel sensors, and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.01.2024
Anhängig
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15.08.2024
Topology Optimized Alignment Marks
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.01.2024
Anhängig
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14.08.2024
Kammer für ein Projektionssystem einer Lithographischen Vorrichtung, Projektionssystem und Lithographisches Gerät
Optik & Fototechnik
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14.08.2024
Metrologieverfahren mit auf ein Ziel unter mehreren Unterschiedlichen Einfallswinkeln Einfallenden Strahlen und Zugehöriges Metrologiewerkzeug
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a metrology method and metrology tool comprising a first dispersive element (810) operable to receive and scatter source radiation (e.g., hard X-ray, soft X-ray (SXR) or extreme ultraviolet radiation (EUV)) so as to generate first scattered radiation; a final focusing element (815) (e.g., a first grating) being configured to: collect at least a portion of the first scattered radiation, the collected first scattered radiation comprising a plurality of first scattered beams (e.g., of different diffraction orders (m=-1, m=0, m=+1)), each having been scattered in a respective different direction; and focus the collected first scattered radiation on a second dispersive element (e.g., a target being measured, such as a second (target) grating) (820) such that each of the first scattered beams is incident on the second dispersive element (820) at a respective different angle of incidence; and at least one detector (825) operable to detect second scattered radiation (e.g., of different diffraction orders (-1,+1; -1,0; 0,0; +1,-1; +1,0)) having been scattered by the second dispersive element (820). At least one pair of second scattered beams comprised within the second scattered radiation may overlap on the detector (825) to form interference fringes, wherein the metrology tool may be configured to determine a phase difference between the beams of each pair of second scattered beams from the position of respective interference fringes on the detector (825) for each pair of second scattered beams. The metrology tool may comprise a first focusing element (805) being operable to focus the source radiation at an intermediate field plane, wherein the first dispersive element (810) is located at the intermediate field plane or wherein the first dispersive element (810) is located at a defocus distance (dZ) from the intermediate field plane (IFP). Alternatively, the first dispersive element may comprise a virtual first dispersive element (1010) located at a source plane, wherein a radiation source for generating the source radiation may comprise a laser source arrangement operable to generate a pair of radiation beams (laser pulses) (1000a, 1000b) towards a gas target such that the pair of radiation beams (1000a, 1000b) overlaps temporally and spatially and at respective different angles in the gas target so as to generate an interference pattern forming the virtual first dispersive element (1010), wherein a rotatable waveplate (1050) may be provided in the path of at least one radiation beam (1000b) of the pair of radiation beams to control polarization and interference of the radiation beams (1000a, 1000b). The final focusing element (815) may comprise a final focusing mirror element, wherein the final focusing mirror element may comprise a hollow prolate spheroid portion (1100), having a reflective internal surface (1110). The metrology tool is configured to measure a parameter of interest during manufacturing process at multiple angles of incidence simultaneously. |
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14.08.2024
Fluiddüse für die Umgebung einer Strukturierungsvorrichtung in einem Lithographischen Gerät
Optik & Fototechnik
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14.08.2024
Verfahren zur Nichtlinearen Optischen Messung von Parametern
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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08.08.2024
Object holder and method for manufacturing the object holder
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.12.2023
Anhängig
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08.08.2024
Apparatus for contamination reduction in charged particle beam systems
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.12.2023
Anhängig
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08.08.2024
Method of performing a maintenance action on a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.01.2024
Anhängig
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08.08.2024
Method and apparatus for measuring a topography of a surface of an object
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 18.01.2024
Anhängig
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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