ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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04.07.2024
Masking device and controlling method thereof
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2023
Anhängig
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03.07.2024
Verfahren zur Bestimmung eines Messrezepts und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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03.07.2024
Membran für Pellikel
Optik & Fototechnik
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03.07.2024
Objektgreifer, Verfahren zum Halten eines Objekts und Lithographische Vorrichtung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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03.07.2024
Multiplex-Ausleseverfahren für Parallele Elektronendetektoren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.07.2024
Objekthalter
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.07.2024
Maskierungsvorrichtung und Steuerungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
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03.07.2024
Verfahren zur Erzeugung eines Beschleunigungssollwertprofils für ein Bewegliches Objekt, Sollwertgenerator und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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03.07.2024
Quellenmaskenoptimierung auf der Basis Systematischer Effekte auf einen Lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Source mask optimization (SMO) is described. The SMO comprises determining a source configuration (e.g., an illumination pupil) of the lithographic apparatus for first features in a first layer of a pattern based on systematic effects on the lithographic apparatus components that cause feature dependent imaging performance changes for second features in a second layer of the pattern. The systematic effects on the lithographic apparatus components comprise mirror heating, for example. Mirror heating based SMO is performed for a first layer's illumination pupil with a cost function for second layer's performance. For example, mirror heating based SMO may be performed to generate a metal layer illumination pupil that creates less mirror heating impact to a subsequent via layer exposure, and/or mirror heating based SMO may be performed to generate a via layer illumination pupil that is less sensitive to mirror heating caused by a prior metal layer exposure, as representative examples. |
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03.07.2024
Pick And Place mit Chipaktuatoren zur Heterogenen Integration
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
A method for die placement is provided, comprising obtaining a plurality of target locations for a plurality of donor dies, measuring locations of the plurality of donor dies, the plurality of donor dies supported by a plurality of die actuators, adjusting the locations of the plurality of donors dies to correspond substantially to the plurality of target locations using the plurality of die actuators, and placing the plurality of donor dies on the plurality of target locations |
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03.07.2024
Aufnahme und Platzierung auf Aussparungsbasis für Heterogene Integration
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
An apparatus for die placement comprising a first stage comprising a plurality of recesses, the plurality of recesses configured to accept a plurality of donor dies; a second stage comprising a support for one or more targets; and a measurement system, functionally coupled to the first stage, and configured to: obtain locations of the plurality of donor dies in the plurality of recesses of the first stage, and based at least on the obtained locations, provide output signals to adjust the locations of the plurality of donor dies supported by the first stage to correspond to locations of the one or more targets, and based at least in part on the adjusted locations, provide output signals to place the plurality of donor dies on the one or more targets supported by the second stage by relative movement between the first stage and the second stage. |
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27.06.2024
Methods and systems for determining reticle deformations
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.11.2023
Anhängig
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27.06.2024
Optical system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2023
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27.06.2024
A new design concept of scanning electron microscope with charged particle source
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.12.2023
Anhängig
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27.06.2024
Object Table
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.11.2023
Anhängig
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27.06.2024
Object Table
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.11.2023
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27.06.2024
Euv utilization system and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.11.2023
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27.06.2024
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.11.2023
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27.06.2024
Method to infer and estimate reticle temperature based on reticle shape measurements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.11.2023
Anhängig
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27.06.2024
A pod for a patterning device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2023
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27.06.2024
Reticle Handler Isolation Damper Element
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2023
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27.06.2024
Methods and systems for determining reticle deformations
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2023
Anhängig
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27.06.2024
An actuation stage, an electromagnet apparatus, and method of fabrication
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 28.11.2023
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27.06.2024
Lithographic apparatus, metrology systems, adaptable phase array illumination and collector devices, and method thereof
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2023
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27.06.2024
Methods and systems for determining reticle deformations
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 30.11.2023
Anhängig
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27.06.2024
Methods and systems for determining reticle deformations
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.11.2023
Anhängig
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27.06.2024
Methods and systems for determining reticle deformations
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.11.2023
Anhängig
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27.06.2024
High-Throughput Load Lock Chamber
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 06.12.2023
Anhängig
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27.06.2024
Charged particle apparatus, method of projecting charged particles, method of assessing a sample
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 20.12.2023
Anhängig
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26.06.2024
Vorrichtung mit Geladenen Teilchen und Vorrichtung mit Geladenen Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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26.06.2024
Vorrichtung für Geladene Teilchen, Verfahren zur Projektion Geladener Teilchen, Verfahren zur Beurteilung einer Probe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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26.06.2024
Lithographisches System und Verfahren
Optik & Fototechnik
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26.06.2024
Optisches system
Optik & Fototechnik
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26.06.2024
Detektor zur Detektion von Strahlung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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26.06.2024
Objekttisch
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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26.06.2024
Objekttisch
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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20.06.2024
Projection system control
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.11.2023
Anhängig
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20.06.2024
Pellicle membrane and method of manufacture
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 01.11.2023
Anhängig
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20.06.2024
Vacuum table and method for clamping warped substrates
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 07.11.2023
Anhängig
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20.06.2024
Apparatus and method for electrostatically clamping a substrate
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.11.2023
Anhängig
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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