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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
28.03.2019
Radiation Source
WO2019057409
Elektronik & Schaltungstechnik
28.03.2019
Control system for a lithographic apparatus
WO2019057583
Optik & Fototechnik
28.03.2019
Radiation Source
WO2019057584
Elektronik & Schaltungstechnik
28.03.2019
Methods and apparatuses for protecting a seal in a pressure vessel of a photolithography system
WO2019057514
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
28.03.2019
Method to determine a patterning process parameter
WO2019057578
Optik & Fototechnik
27.03.2019
Verfahren zur Bestimmung eines Strukturierungsverfahrensparameters
EP3460574
Optik & Fototechnik
27.03.2019
Strukturierungsvorrichtung, Verfahren zur Herstellung einer Strukturierungsvorrichtung, System zur Strukturierung eines Retikels und Lithographische Vorrichtung
EP3460572
Optik & Fototechnik
21.03.2019
A method of aligning a pair of complementary diffraction patterns and associated metrology method and apparatus
WO2019052741
Optik & Fototechnik
21.03.2019
Methods and apparatus for use in a device manufacturing method
WO2019052746
Optik & Fototechnik
21.03.2019
Method of controlling a patterning process, device manufacturing method
WO2019052747
Optik & Fototechnik
21.03.2019
Abrasion tool and method for removing contamination from an object holder
WO2019052757
Optik & Fototechnik
21.03.2019
Beam pointing monitor and compensation system
WO2019052843
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
20.03.2019
Verfahren zum Ausrichten eines Paares Komplementärer Diffraktionsmuster und Zugehörige Metrologievorrichtung und Verfahren
EP3457211
Optik & Fototechnik
20.03.2019
Verfahren zur Steuerung eines Strukturierungsverfahrens, Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3457212
Optik & Fototechnik
20.03.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Verwendung in einem Vorrichtungsherstellungsverfahrens
EP3457213
Optik & Fototechnik
20.03.2019
Extraktionskörper für Lithographievorrichtung
EP3455677
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Methods and patterning devices and apparatuses for measuring focus performance of a lithographic apparatus, device manufacturing method
WO2019048147
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
14.03.2019
Metrology in Lithographic Processes
WO2019048145
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Method for determining a control parameter for an apparatus utilized in a semiconductor manufacturing process
WO2019048137
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.03.2019
Lithographic method and apparatus
WO2019048295
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Beat patterns for alignment on small metrology targets
WO2019048216
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Lithographic apparatus and method
WO2019048198
Optik & Fototechnik
14.03.2019
A method of measuring a parameter and apparatus
WO2019048215
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Methods of inspecting samples with multiple beams of charged particles
WO2019048293
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.03.2019
Method for estimating overlay
WO2019048225
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Metrology method and apparatus
WO2019048214
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Method and metrology apparatus to determine a patterning process parameter
WO2019048342
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Training methods for machine learning assisted optical proximity error correction
WO2019048506
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
14.03.2019
Methods and systems for clamping a substrate
WO2019049588
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Lithografisches Verfahren und System
EP3011645
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.03.2019
Metrologieverfahren und -Vorrichtung
EP3454123
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Schlagmuster zur Ausrichtung auf Kleine Metrologieziele
EP3454129
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Verfahren zur Bestimmung eines Strukturierungsverfahrensparameters
EP3454124
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Verfahren zum Messen eines Parameters und Vorrichtung
EP3454125
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Verfahren zur Schätzung von Überlagerung
EP3454126
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Verfahren und Strukturierungsvorrichtungen sowie Vorrichtungen zur Messung der Fokusleistung einer Lithografievorrichtung, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
EP3454127
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
07.03.2019
Heating system for an optical component of a lithographic apparatus
WO2019042656
Optik & Fototechnik
07.03.2019
Lithographic apparatus adjustment method
WO2019042757
Optik & Fototechnik
07.03.2019
Substrate, metrology apparatus and associated methods for a lithographic process
WO2019042726
Optik & Fototechnik
07.03.2019
Electron Beam Inspection Tool
WO2019042905
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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