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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
01.05.2019
Inspektionswerkzeug, Lithographische Vorrichtung, Elektronenstrahlquelle und Inspektionsverfahren
EP3477390
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.05.2019
Verfahren zur Bestimmung eines Wertes eines Interessierenden Parameters, Verfahren zur Reinigung eines Signals mit Informationen über einen Interessierenden Parameter
EP3477391
Optik & Fototechnik
01.05.2019
Metrologievorrichtung, Verfahren zur Messung einer Struktur, Vorrichtungherstellungsverfahren
EP3477392
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
25.04.2019
Motor, dual stroke stage and lithographic apparatus
WO2019076525
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
25.04.2019
Metrology apparatus, lithographic system, and method of measuring a structure
WO2019076690
Optik & Fototechnik
25.04.2019
Scatterometer and method of scatterometry using acoustic radiation
WO2019076697
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
24.04.2019
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Lithografischen Vorrichtung
EP3155481
Optik & Fototechnik
24.04.2019
Scatterometer und Verfahren zur Scatterometrie mittels Akustischer Strahlung
EP3474074
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.04.2019
Positioning device, magnetic support system and lithographic apparatus
WO2019072529
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
18.04.2019
Method of optimizing the position and/or size of a measurement illumination spot relative to a target on a substrate, and associated apparatus
WO2019072510
Optik & Fototechnik
18.04.2019
Low dose charged particle metrology system
WO2019072704
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.04.2019
Flows of optimization for patterning processes
WO2019072703
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Lithografisches Immersionsgerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1498781
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP3084525
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Messverfahren
EP3470923
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Verfahren zur Optimierung der Position Und/oder Grösse eines Messbeleuchtungspunkts in Bezug auf ein Ziel auf einem Substrat sowie Zugehörige Vorrichtung
EP3470924
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Positionierungsvorrichtung, Magnetisches Trägersystem und Lithographische Vorrichtung
EP3470925
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
17.04.2019
Metrologiesystem, Lithographiesystem und Verfahren zur Messung einer Struktur
EP3470926
Optik & Fototechnik
11.04.2019
Method and apparatus for determining alignment properties of a beam of radiation
WO2019068386
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
11.04.2019
Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate
WO2019068459
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
11.04.2019
Interferometric stage positioning apparatus
WO2019068601
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.04.2019
Überwachungsvorrichtung, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Veränderung einer Eigenschaft
EP3304205
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
10.04.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung von Ausrichtungseigenschaften eines Strahlungsstrahls
EP3467588
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
10.04.2019
Bestimmung von Kantenrauheitsparametern
EP3467589
Optik & Fototechnik
10.04.2019
Stufensystem, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3465347
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
04.04.2019
Calibration method of an inspection tool, and lithographic apparatus
WO2019063180
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.04.2019
Metrology method and device
WO2019063313
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Detection of buried features by backscattered particles
WO2019063432
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Optical height detection system
WO2019063433
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Methods and apparatuses for adjusting beam condition of charged particles
WO2019063530
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Method and apparatus for an advanced charged controller for wafer inspection
WO2019063531
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Optical system with compensation lens
WO2019063529
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Dynamic determination of a sample inspection recipe of charged particle beam inspection
WO2019063559
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Optical Objective Lens
WO2019063528
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Image Contrast Enhancement in Sample Inspection
WO2019063558
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Sample pre-charging methods and apparatuses for charged particle beam inspection
WO2019063561
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Methods of inspecting samples with multiple beams of charged particles
WO2019063532
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Optical arrangement for an inspection apparatus
WO2019063314
Optik & Fototechnik
03.04.2019
Verfahren zur Bestimmung von Kontrollparametern eines Herstellungsverfahrens für Bauelemente
EP3462240
Optik & Fototechnik
03.04.2019
Metrologie in Lithographischen Verfahren
EP3462239
Optik & Fototechnik

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