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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
25
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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2.414 gesamt
Patent
27.05.2010
Interface apparatus
WO2010058656
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.05.2010
Plasma processing device and plasma processing method
WO2010058642
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.05.2010
Plasma processing apparatus
WO2010058771
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.05.2010
Substrate processing apparatus
WO2010058812
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.05.2010
Substrate processing method and substrate processing apparatus
WO2010058813
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.05.2010
Verfahren und System zur Reinigung eines Substrats und Programmspeichermedium
EP1834708
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Treatment liquid ejection inspecting method, treatment liquid ejection inspecting apparatus and computer readable recording medium
WO2010055551
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Suck bag height test method, suck bag height test device and computer readable recording medium
WO2010055552
Verfahrens- & Trenntechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.05.2010
Cable inspection method, cable inspection d device, jig device inspection method, and computer-readable recording medium
WO2010055574
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.05.2010
Bonding apparatus and bonding method
WO2010055730
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Substrate processing system
WO2010055851
Verpackungs- & Fördertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Plasma etching method and plasma etching device
WO2010055862
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Processing device
WO2010055946
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Film forming apparatus
WO2010055926
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.05.2010
Substrate processing apparatus
WO2010053149
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.05.2010
Film zur Isolation zwischen Schichten und Verdrahtungsstruktur und Herstellungsverfahren dafür
EP2184771
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.05.2010
Halbleiteranordnung und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP2184775
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.05.2010
Mechanismus zum Verändern der Endlage eines Zylinders und Substratverarbeitungsvorrichtung damit
EP2028378
Maschinenelemente & Fluidtechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.05.2010
Chromatographische Detektionsvorrichtung
EP2182353
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
29.04.2010
Heat treatment apparatus
WO2010047155
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.04.2010
Plasma etching method and plasma etching device
WO2010047308
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Gas supply device
WO2010038344
Maschinenelemente & Fluidtechnik
08.04.2010
Vaporizer and deposition system using the same
WO2010038515
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Method and apparatus for forming silicon oxide film
WO2010038654
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
08.04.2010
Method for detecting abnormal placement state of substrate, substrate processing method, computer-readable storage medium and substrate processing apparatus
WO2010038674
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Deposition apparatus, deposition method, and storage medium having program stored therein
WO2010038631
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.04.2010
Plasma processing apparatus
WO2010038729
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
08.04.2010
Film forming apparatus
WO2010038734
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Silicon oxynitride film and process for production thereof, computer-readable storage medium, and plasma cvd device
WO2010038888
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Silicon oxide film, method for forming silicon oxide film, and plasma cvd apparatus
WO2010038900
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Silicon dioxide film and process for production thereof, computer-readable storage medium, and plasma cvd device
WO2010038887
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Silicon nitride film and process for production thereof, computer-readable storage medium, and plasma cvd device
WO2010038885
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Method for depositing silicon nitride film, computer-readable storage medium, and plasma cvd device
WO2010038886
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Vacuum processing apparatus and vacuum transfer apparatus
WO2010035385
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method, and control program
WO2010035404
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Film forming method and film forming apparatus
WO2010035647
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Film formation device and substrate processing apparatus
WO2010035773
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Method for forming ruthenium metal cap layers
WO2010037074
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.03.2010
Method and apparatus for forming polymerized film
WO2010032547
Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
25.03.2010
Substrate processing apparatus and substrate placing table
WO2010032750
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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Technologiefelder

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
2.007
Metallurgie & Oberflächentechnik
651
Elektronik & Schaltungstechnik
322
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
211
Optik & Fototechnik
172
Verfahrens- & Trenntechnik
139
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
54
Software & Datenverarbeitung
50
Steuerungs- & Regelungstechnik
48
Verpackungs- & Fördertechnik
44
Pharma & Biotechnologie
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
28

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