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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
25
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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2.414 gesamt
Patent
25.03.2010
Method for reducing temperature of substrate placing table, computer-readable storage medium, and substrate processing system
WO2010032708
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.03.2010
Temperature adjustment mechanism, and plasma treatment apparatus
WO2010032745
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.03.2010
Dielectric material treatment saystem and method of operating
WO2010033469
Elektrische Energietechnik
25.03.2010
Dual Tone Development Processes
WO2010033720
Optik & Fototechnik
11.03.2010
Variable-Ratio Double-Deflection Beam Blanker
WO2010027368
Elektrische Energietechnik
11.03.2010
Heat treatment apparatus
WO2010026815
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.03.2010
Gas supply member and plasma processing device
WO2010026879
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.03.2010
Method for forming aluminum-doped metal carbonitride gate electrodes
WO2010027715
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.03.2010
Plasma processing device and method for cleaning plasma processing device
WO2010024036
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.03.2010
Method for forming amorphous carbon nitride film, amorphous carbon nitride film, multilayer resist film, method for manufacturing semiconductor device, and storage medium in which control program is stored
WO2010024037
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
04.03.2010
Plasma processing apparatus, plasma processing method, method for cleaning plasma processing apparatus and pressure control valve for plasma processing apparatus
WO2010024334
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.03.2010
Method of patterning a substrate using dual tone development
WO2010025198
Optik & Fototechnik
25.02.2010
Microwave introduction mechanism, microwave plasma source and microwave plasma processing device
WO2010021382
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
24.02.2010
Einrichtung und Steuerverfahren für die Mikrowellen-Plasmaverarbeitung
EP1377138
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
18.02.2010
Metal recovery method, metal recovery apparatus, exhaust system, and film forming device using same
WO2010018768
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
11.02.2010
Microwave plasma generation device and microwave plasma processing device
WO2010016414
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.02.2010
Dielectric window, dielectric window manufacturing method, and plasma treatment apparatus
WO2010016423
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
11.02.2010
Raw material recovery method and trapping mechanism for recovering raw material
WO2010016500
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
11.02.2010
Placing Table Structure
WO2010016499
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.02.2010
Plasma processing apparatus
WO2010016417
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.02.2010
Dünnfilm des Verbundtyps, Verfahren zur Bildung eines Dünnfilms des Verbundtyps und Elektronische Vorrichtung mit dem Dünnfilm
EP2151853
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.02.2010
Method and device for cleaning a substrate, and storage medium
WO2010013661
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.02.2010
High throughput processing system for chemical treatment and thermal treatment and method of operating
WO2010014384
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
28.01.2010
Semiconductor device and manufacturing method therefor
WO2010010668
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.01.2010
Method and apparatus for modifying titanium nitride film
WO2010010816
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.01.2010
High Temperature Electrostatic Chuck
WO2010011519
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
21.01.2010
Probe
WO2010007816
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.01.2010
Microwave plasma processing apparatus and method for producing cooling jacket
WO2010007863
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
21.01.2010
Film-forming apparatus and powder evaporation apparatus
WO2010007981
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.01.2010
Method for semiconductor element isolation
WO2010004619
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.01.2010
Device and method for removing nitride film
WO2010004620
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.01.2010
Plasma processing device
WO2010004836
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.01.2010
Resist processing apparatus, resist applying/developing apparatus and resist processing method
WO2010004827
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.01.2010
Film forming method and processing system
WO2010004998
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.01.2010
Plasma processing apparatus
WO2010004997
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
13.01.2010
Vorrichtung und Verfahren zur Substratreinigung sowie Speichermedium
EP1952899
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.01.2010
Temperature adjusting mechanism and semiconductor manufacturing apparatus using temperature adjusting mechanism
WO2010001890
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
07.01.2010
Method for thin-film formation and apparatus for thin-film formation
WO2010001931
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.01.2010
Plasma processing device, plasma processing method, and mechanism for regulating temperature of dielectric window
WO2010001938
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
30.12.2009
Annealing apparatus
WO2009157484
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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Technologiefelder

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
2.007
Metallurgie & Oberflächentechnik
651
Elektronik & Schaltungstechnik
322
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
211
Optik & Fototechnik
172
Verfahrens- & Trenntechnik
139
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
54
Software & Datenverarbeitung
50
Steuerungs- & Regelungstechnik
48
Verpackungs- & Fördertechnik
44
Pharma & Biotechnologie
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
28

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