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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
25
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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2.414 gesamt
Patent
13.11.2008
Processing device, processing method, method of recognizing processing target body, and storage medium
WO2008136503
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.11.2008
Valve open/close operation check method, gas treatment device, and storage medium
WO2008136502
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.11.2008
Verfahren und System zur Reinigung eines Substrats und Programmspeichermedium
EP1848023
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.11.2008
Planar-Heizvorrichtung
EP1988750
Elektronik & Schaltungstechnik
29.10.2008
Leuchtbauelement, Verfahren zur Herstellung eines Leuchtbauelements und Substratverarbeitungsvorrichtung
EP1986471
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
23.10.2008
Sputtering system and method for using sputtering system
WO2008126489
Metallurgie & Oberflächentechnik
23.10.2008
Plasma treatment apparatus and method of plasma treatment
WO2008126595
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.10.2008
Method for film formation, apparatus for film formation, and recording medium
WO2008126622
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.10.2008
Fabrication method of a semiconductor device and a semiconductor device
WO2008126776
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.10.2008
Magnetron sputtering apparatus
WO2008126811
Metallurgie & Oberflächentechnik
16.10.2008
Placing table structure and processing apparatus using the same
WO2008123133
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
16.10.2008
Silicon nitride film and nonvolatile semiconductor memory device
WO2008123289
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.10.2008
Trap apparatus, exhaust system, and treating system using the same
WO2008123288
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
16.10.2008
Gas supply method and gas supply device
WO2008123309
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.10.2008
Plasma oxidation method, plasma processing apparatus and recording medium
WO2008123431
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.10.2008
Rotating magnetron sputtering apparatus
WO2008123434
Metallurgie & Oberflächentechnik
16.10.2008
Plasma process apparatus
WO2008123605
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
09.10.2008
Vaporizer, vaporization module, and film forming device
WO2008120531
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2008
Vacuum treating apparatus, method of operating the same and recording medium
WO2008120628
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2008
Method for forming strained silicon nitride films and a device containing such films
WO2008121463
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2008
Vapor deposition system and method of operating
WO2008121601
Metallurgie & Oberflächentechnik
09.10.2008
Deposition source unit, deposition apparatus and temperature control apparatus for deposition source unit
WO2008120610
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2008
Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer readable storage medium
WO2008120716
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2008
Substrate processing apparatus and method for stabilizing status in processing chamber of the substrate processing apparatus
WO2008120715
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2008
Method of cleaning powdery source supply system, storage medium, substrate treating system and method of substrate treatment
WO2008120794
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2008
In-line lithography and etch system
WO2008121955
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
02.10.2008
Method for forming metal film using carbonyl material, method for forming multilayered wiring structure, method for manufacturing semiconductor device, and film forming apparatus
WO2008117582
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2008
Filming apparatus, filming method, and storage medium
WO2008117675
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2008
Semiconductor manufacturing apparatus, method for managing apparatus operation parameter, and program
WO2008117697
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2008
Substrate transfer apparatus, substrate transfer module, substrate transfer method and computer readable storage medium
WO2008117727
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2008
Cvd film-forming apparatus
WO2008117781
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2008
Method for forming silicon nitride film, method for manufacturing nonvolatile semiconductor memory device, nonvolatile semiconductor memory device and plasma processing apparatus
WO2008117798
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2008
Apparatus and methods of forming a gas cluster ion beam using a low-pressure source
WO2008118738
01.10.2008
Plasmaverarbeitungsgerät
EP1975986
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.09.2008
Magnetron sputtering apparatus
WO2008114718
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.09.2008
Substrate placing table, substrate processing apparatus and method for machining surface of substrate placing table
WO2008114753
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.09.2008
Plasma treating apparatus, and plasma treating method
WO2008114799
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.09.2008
Plasma processing apparatus
WO2008114862
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.09.2008
Spintronic Transistor
WO2008111991
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.09.2008
Apparatus for controlling deposition apparatus and method for controlling deposition apparatus
WO2008111398
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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Technologiefelder

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
2.007
Metallurgie & Oberflächentechnik
651
Elektronik & Schaltungstechnik
322
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
211
Optik & Fototechnik
172
Verfahrens- & Trenntechnik
139
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
54
Software & Datenverarbeitung
50
Steuerungs- & Regelungstechnik
48
Verpackungs- & Fördertechnik
44
Pharma & Biotechnologie
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
28

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