ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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26.02.2025
Vorrichtung zur Steuerung der Strahlungsintensität für Belichtungen mit nicht Konstanter Geschwindigkeit
EP4513267
Optik & Fototechnik
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20.02.2025
Lasergesteuertes Brennstoffbetanken durch Thermonukleare Fusion
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Status
Angemeldet am 17.07.2024
Anhängig
Vertretung
ASML Netherlands B.V.
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20.02.2025
Bildverzerrungskorrektur für Prozessmodellbasierte Rasterelektronenmikroskopie (sem)
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Status
Angemeldet am 11.07.2024
Anhängig
Vertretung
ASML Netherlands B.V.
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20.02.2025
Systeme und Verfahren zur Hybriden Abtastplanerzeugung und Genauen Chipverlustprojektion
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20.02.2025
Lasergesteuertes Brennstoffbetanken durch Thermonukleare Fusion
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20.02.2025
Bildverzerrungskorrektur für Prozessmodellbasierte Rasterelektronenmikroskopie (sem)
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20.02.2025
Verfahren und System zur Erzeugung eines Overlay-Toleranten Maskenmusterentwurfs
WO2025036637
Optik & Fototechnik
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19.02.2025
Waferhalter zur Reduzierung der Elektrischen Feldverzerrung in der Nähe des Waferrandes
EP4508673
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.02.2025
Verfahren zur Räumlichen Ausrichtung einer Musterungsvorrichtung und eines Substrats
EP4508496
Optik & Fototechnik
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13.02.2025
Detektionssystem für Geladene Teilchen
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Status
Angemeldet am 24.07.2024
Anhängig
Vertretung
ASML Netherlands B.V.
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13.02.2025
Maskenmusteroptimierung
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Status
Angemeldet am 10.07.2024
Anhängig
Vertretung
ASML Netherlands B.V.
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13.02.2025
Charged particle detection system
WO2025031808
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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13.02.2025
Maskenmusteroptimierung
WO2025031711
Optik & Fototechnik
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12.02.2025
Hohlkern-Lichtleitfaserbasierte Strahlungsquelle
EP4505244
Optik & Fototechnik
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12.02.2025
Sensorsubstrat, Vorrichtung und Verfahren
EP4505503
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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12.02.2025
Lasergesteuertes Brennstoffbetanken durch Thermonukleare Fusion
EP4506958
Elektrische Energietechnik
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06.02.2025
Hebestiftanordnung zum Laden/entladen eines Substrats, Objekttisch, Lithografische Vorrichtung
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06.02.2025
Datenverarbeitungsverfahren, Verfahren und System zur Beurteilung Geladener Teilchen
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06.02.2025
Hebestiftanordnung zum Laden/entladen eines Substrats, Objekttisch, Lithografische Vorrichtung
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06.02.2025
Datenverarbeitungsverfahren, Verfahren und System zur Beurteilung Geladener Teilchen
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05.02.2025
Verfahren zur Wafererdung unter Verwendung eines Waferrand-Rückseitenbeschichtungsausschlussbereichs
EP4500573
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.02.2025
Endeffektor und Verfahren zur Handhabung eines Substrats
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05.02.2025
Datenwiederauffindung
EP4500356
Software & Datenverarbeitung
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05.02.2025
Verfahren zur Bestimmung einer Räumlichen Verteilung eines Interessierenden Parameters über mindestens ein Substrat oder einen Teil davon
EP4500277
Optik & Fototechnik
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05.02.2025
Datenverarbeitungsverfahren, Verfahren und System zur Beurteilung Geladener Teilchen
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30.01.2025
Substrathalter
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30.01.2025
Verfahren zur Optimierung einer Gewichtung für Parameter von Interessensdaten und Zugehörige Metrologie- und Lithografische Vorrichtungen
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30.01.2025
Masken-3D (M3D)-Modellierung zur Lithografiesimulation
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30.01.2025
Modulierendes Flüssigkeitshandhabungssystem
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30.01.2025
Substrathalter
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30.01.2025
Verfahren zur Optimierung einer Gewichtung für Parameter von Interessensdaten und Zugehörige Metrologie- und Lithografische Vorrichtungen
WO2025021420
Optik & Fototechnik
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30.01.2025
Modulierendes Flüssigkeitshandhabungssystem
WO2025021607
Optik & Fototechnik
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30.01.2025
Masken-3D (M3D)-Modellierung zur Lithografiesimulation
WO2025021417
Optik & Fototechnik
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29.01.2025
Vorrichtung und Verfahren zur Verbindung einer Faservorform mit einem Druckversorgungssystem
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29.01.2025
Positionierungssystem, Lithographische Vorrichtung, Absolutpositionsbestimmungsverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren
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29.01.2025
System und Verfahren zur Substratausrichtung mit Bildstitching mit Positionierungsfehlerbestimmung und -Korrektur
EP4498164
Optik & Fototechnik
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29.01.2025
System und Verfahren zur In-Situ-Reinigung einer Klemme einer Lithographievorrichtung durch Oszillationsbewegung eines Reinigungskörpers
EP4498161
Optik & Fototechnik
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29.01.2025
Verfahren zur Optimierung der Maschinenkonstante und Zugehörige Vorrichtungen
EP4498162
Optik & Fototechnik
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29.01.2025
Verfahren zur Herstellung einer Vorform einer Photonischen Hohlkernkristallfaser
EP4497730
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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29.01.2025
Lithographische Musterdarstellung mit Gekrümmten Elementen
EP4497035
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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