ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336

Patente

2000–2026

Anmeldejahre

Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt

Anmeldejahr

Veröffentlicht	Patent	Land
16.04.2025	16.04.2025 Vertraulichkeitsbewahrendes Kollaboratives Modell zur Ableitung von Informationen in einem Produktionssystem EP4538938 Software & Datenverarbeitung	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 10.10.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
16.04.2025	16.04.2025 Vertikal Föderiertes Training eines von Verschiedenen Teilnehmern Verwendeten Maschinenlernmodells zur Konfiguration eines Halbleiterherstellungsprozesses EP4538796 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 10.10.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
16.04.2025	16.04.2025 Elektronenstrahl-Bilderzeugungssystem EP4539091 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 10.10.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
16.04.2025	16.04.2025 Verfahren zum Entwurf eines Fokusziels für Fokusmetrologie EP4538793 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.10.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
09.04.2025	09.04.2025 Reflektor und Verfahren zur Herstellung eines Reflektors EP3807718 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 23.05.2019 Erteilt am 09.04.2025 Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
09.04.2025	09.04.2025 Manipulatorvorrichtung zum Manipulieren eines oder mehrerer Bündel Geladener Teilchen und System für Geladene Teilchen Dieselbe enthaltend EP3648114 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2012 Erteilt am 09.04.2025 Vertretung Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
09.04.2025	09.04.2025 Verfahren zur Verarbeitung von Daten aus einer Probe EP4533075 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 17.05.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
09.04.2025	09.04.2025 Verfahren zur Erneuerung eines Substratträgers EP4535083 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 06.10.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung A method of refurbishing a substrate support, the substrate support comprising: a first surface, configured to support a substrate; and a second surface, opposite to the first surface. The method comprises: depositing a material on the second surface to form a coating layer which increases a thickness of the substrate support; and removing material from the first surface. Alle Patent-Informationen
09.04.2025	09.04.2025 System zur Strahlungserweiterung EP4535071 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 02.10.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
02.04.2025	02.04.2025 Verfahren zur Spektralen Konfiguration der Messbeleuchtung eines Messwerkzeugs und Zugehörige Vorrichtungen EP4530717 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Disclosed is a method of spectrally configuring measurement illumination of a metrology tool, the method comprising: projecting measurement radiation using a projection optical system to obtain projected measurement radiation; measuring a signal amplitude metric of said projected measurement radiation at a detector; determining a spectral shape of the projected measurement radiation from the signal amplitude metric; and spectrally configuring the measurement illumination before the projection optical system to adjust said spectral shape to match a desired spectral shape. Alle Patent-Informationen
02.04.2025	02.04.2025 Verfahren zur Optimierung der Emission Elektromagnetischer Strahlung eines Plasmas eines Beleuchtungssystems, Quellenmodul, Beleuchtungssystem, Projektionsbelichtungsvorrichtung EP4530719 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.03.2024 Anhängig Vertretung Raunecker, Klaus Peter · Ulm Raunecker Patent Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
02.04.2025	02.04.2025 Verfahren zur Beurteilung eines Geladenen Teilchenstrahls und Verfahren zur Beurteilung einer Matrix von Strahlen EP4531072 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 28.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
02.04.2025	02.04.2025 Beschleunigung von Elektromagnetischen Vorwärtsberechnungen für Sxr-Rekonstruktion EP4530718 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 29.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
26.03.2025	26.03.2025 Überwachung von Lichtemissionen EP3871473 Elektronik & Schaltungstechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.10.2019 Erteilt am 26.03.2025 Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
26.03.2025	26.03.2025 Bestimmung einer Korrektur an einem Prozess EP3974906 Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.10.2019 Erteilt am 26.03.2025 Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
26.03.2025	26.03.2025 Diffraktionsbasierte Pupillenbestimmung zur Optimierung von Lithographischen Prozessen EP4526731 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 01.05.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
26.03.2025	26.03.2025 Verfahren zur Optimierung der Wartung eines Lithographischen Apparates EP4526735 Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 12.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
26.03.2025	26.03.2025 Optisches Element für die Euv-Lithographie EP4528376 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 19.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
19.03.2025	19.03.2025 Verfahren zur Bestimmung eines Abmessungsparameters einer Mikrostrukturierten Optischen Faser EP4524625 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 13.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
19.03.2025	19.03.2025 Bewegliche Trägerplatte für einen Lithographischen Apparat EP4523045 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 28.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
19.03.2025	19.03.2025 Substratkopplungssysteme EP4525029 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 18.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
13.03.2025	13.03.2025 Retikelkonditionierungsdüse EP4774589 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 14.08.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
13.03.2025	13.03.2025 Verstopfungsresistente Tröpfchengeneratoren für Euv-Lichtquellen EP4774990 Elektronik & Schaltungstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 28.08.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
12.03.2025	12.03.2025 Substratparametermessung EP4521101 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 05.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
12.03.2025	12.03.2025 Wellenlängenverfolgungssystem, Verfahren zur Kalibrierung eines Wellenlängenverfolgungssystems, Lithografischer Apparat, Verfahren zur Bestimmung der Absoluten Position eines Beweglichen Objekts und Interferometersystem EP3746738 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 15.01.2019 Erteilt am 12.03.2025 Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
12.03.2025	12.03.2025 Verfahren und System zur Überlagerungsmessung unter Verwendung einer Inspektionsvorrichtung für Geladene Teilchen EP4519735 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
12.03.2025	12.03.2025 Verfahren zur Bestimmung einer Positionierungskorrektur für einen Lithographischen Prozess EP4521168 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 05.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
12.03.2025	12.03.2025 Verfahren zum Betreiben einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage EP4521169 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 07.09.2023 Anhängig Vertretung Zeuner Summerer Stütz · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
12.03.2025	12.03.2025 Verfahren zur Bestimmung der Grundursachen von Ereignissen eines Halbleiterherstellungsprozesses und zur Überwachung eines Halbleiterherstellungsprozesses EP4521181 Steuerungs- & Regelungstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.09.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.03.2025	05.03.2025 Verfahren zur Bestimmung einer Belichtungsstrategie, Lithographieverfahren und -Vorrichtung sowie Computerprogramm EP4517424 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 28.08.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.03.2025	05.03.2025 Thermisch Betätigtes Kühlsystem EP4515331 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 20.03.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.03.2025	05.03.2025 Verbesserte Dichtung EP4517137 Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 28.08.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.02.2025	27.02.2025 Optisches System und Verfahren WO2025040304 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.07.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.02.2025	27.02.2025 Optisches System und Verfahren EP4767122	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.07.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.02.2025	27.02.2025 Verfahren und System zur Optimierung von Quelle, Maske und Wellenfront auf Basis eines Diffraktionsmusters zur Reduzierung von M3D-Fading EP4767120	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 31.07.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.02.2025	27.02.2025 Lernbasierte Lokale Ausrichtung für Kantenplatzierungsmetrologie EP4767299	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.07.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.02.2025	27.02.2025 Verfahren und System zur Optimierung von Quelle, Maske und Wellenfront auf Basis eines Diffraktionsmusters zur Reduzierung von M3D-Fading WO2025040387 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 31.07.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.02.2025	27.02.2025 Lernbasierte Lokale Ausrichtung für Kantenplatzierungsmetrologie WO2025040361 Software & Datenverarbeitung	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.07.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
26.02.2025	26.02.2025 Optische Vorrichtung und Verfahren für Geladene Teilchen EP4511860 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 15.03.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
26.02.2025	26.02.2025 Membran für die Membran einer Lithographischen Vorrichtung EP4511698 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 17.03.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen