ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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29.01.2025
Einstellungs- und Steuerungsverfahren für ein Lithografisches Verfahren und Zugehörige Vorrichtungen
EP4497038
Optik & Fototechnik
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29.01.2025
Verfahren zur Optimierung einer Gewichtung für Parameter von Interessensdaten und Zugehörige Metrologie- und Lithografische Vorrichtungen
EP4498163
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a method of optimizing a weighting for parameter of interest data. The method comprises obtaining parameter of interest data and reference data relating to a lithographic process, optimizing the weighting such that application of the weighting to said parameter of interest data improves performance of said lithographic process in terms of the reference parameter; and constraining the optimization so as to penalize changes in an average of reference data. |
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29.01.2025
Lithographische Musterdarstellung mit Gekrümmten Elementen
EP4497035
Optik & Fototechnik
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23.01.2025
System und Verfahren zum Laden einer Probe in eine Probenposition
WO2025016670
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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22.01.2025
System und Verfahren zum Laden einer Probe in eine Probenposition
EP4495983
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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22.01.2025
Optische Anordnung zur Verwendung in einer Belichtungsvorrichtung mit in Entgegengesetzte Richtungen Beweglichen Teil einer Optischen Scananordnung und Maskentischanordnung sowie Entsprechendes Verfahren zum Belichten eines Schaltungsmusters auf einem Substrat
EP4495692
Optik & Fototechnik
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16.01.2025
Spurschnittstelle und Substratverarbeitungsvorrichtung
WO2025011830
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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16.01.2025
Polierwerkzeug und Zugehörige Verfahren
WO2025011845
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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16.01.2025
Trägerplatte und Werkzeug zur Heterogenen Integration von Matrizen mit Unterschiedlicher Grösse
WO2025011842
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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16.01.2025
Polierwerkzeug und Zugehörige Verfahren
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15.01.2025
Metrologieverfahren und Datenverarbeitungsverfahren für Metrologie
EP4492141
Optik & Fototechnik
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15.01.2025
Beleuchtungskonfigurationsmodul für eine Metrologievorrichtung
EP4492145
Optik & Fototechnik
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15.01.2025
Polierwerkzeug und Zugehörige Verfahren
EP4491327
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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15.01.2025
Vorrichtung zur Wellenlängenaufgelösten Strahlüberwachung
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System an apparatus for wavelength resolved beam profiling. The apparatus comprises a beam monitoring assembly configured to receive a radiation beam comprising a plurality of wavelengths, and to provide a diffracted radiation of the plurality of wavelengths, wherein each of the plurality of wavelengths is spatially separated in the diffracted radiation. The apparatus comprises a color selector configured to select a portion of the diffracted radiation. The apparatus comprises a detector configured to detect the selected diffracted radiation and to generate beam profile data of the selected radiation. The color selector is movable to select each of the plurality of diffracted wavelengths of the diffracted radiation such that the plurality of wavelengths do not overlap when incident on the detector. |
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09.01.2025
Objekthalter, Objekttisch, Optisches Element und Verfahren zur Steuerung der Flachheit einer Oberfläche und deren Verwendung in einem Lithographischen Verfahren oder Gerät
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09.01.2025
Objekthalter, Objekttisch, Optisches Element und Verfahren zur Steuerung der Flachheit einer Oberfläche und deren Verwendung in einem Lithographischen Verfahren oder Gerät
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08.01.2025
Trägerplatte und Werkzeug zur Heterogenen Integration von Matrizen mit Unterschiedlicher Grösse
EP4489060
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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08.01.2025
Elektrostatische Klemmvorrichtung
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08.01.2025
Elektrostatische Klemmvorrichtung
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08.01.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Verbesserung der Genauigkeit von Weicher Röntgenmetrologie
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08.01.2025
Objektträger mit einer Mehrere Stützelemente Aufweisenden Auflagefläche oder Optisches Element für eine Lithographische Vorrichtung, mit einer Metall-Si-Mehrschicht, einer Metall-Ge-Mehrschicht Und/oder einer Chromnitridschicht zu Selektiver Veränderung der Höhe Individueller Stützelemente oder der Gestalt des Optischen Elements in einer Thermischen Behandlung und Verfahren zur Korrektur der Flachheit einer Oberfläche des Objektträgers oder des Optischen Elements
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08.01.2025
Verfahren der Metrologie im Zusammenhang mit Überlagerung
EP4488757
Optik & Fototechnik
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08.01.2025
Objektträger mit Reversibel Veränderbarem Kristallinem/amorphem Phasenmaterial zu Selektiver Veränderung der Höhe Individueller Stützelemente, Entsprechendes Herstellungsverfahren und Entsprechende Verwendung
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Zusammenfassung
There is provided an object holder configured to support an object, the object holder comprising a support surface having a plurality of support elements, wherein the plurality of support elements comprise a reversibly changeable crystalline/amorphous phase material configured to provide a selectively changeable height of individual support elements. Also provided is an object table comprising such an object holder, An apparatus for controlling the flatness of a surface comprising such an object holder, a lithographic apparatus or tool comprising such an object holder, a method of controlling the shape of a surface, a method of manufacturing an object holder, and the use of such apparatuses or method in a lithographic apparatus or process. |
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02.01.2025
Reluktanzaktuator, Positionierungsvorrichtung, Bühnenvorrichtung, Lithografische Vorrichtung
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02.01.2025
Verfahren und Vorrichtung zur In-Situ-Messung der Temperatur eines Wafers im Vakuum
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02.01.2025
Verfahren und Vorrichtung zur In-Situ-Messung der Temperatur eines Wafers im Vakuum
WO2025002699
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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02.01.2025
Reluktanzaktuator, Positionierungsvorrichtung, Bühnenvorrichtung, Lithografische Vorrichtung
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01.01.2025
System für Geladene Teilchen, Verfahren zur Bearbeitung einer Probe unter Verwendung eines Mehrfachstrahls von Geladenen Teilchen
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01.01.2025
Pellikel und Membranen zur Verwendung in einem Lithographischen Gerät
EP4483242
Optik & Fototechnik
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01.01.2025
Dichtungssystem und System zum Abdichten einer Öffnung in einem Vakuumsystem
EP4485511
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.01.2025
Strukturierungsvorrichtung und Verfahren zur Verwendung davon
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26.12.2024
Substrathalter
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26.12.2024
Substrathalter
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25.12.2024
Verfahren zur Herstellung eines Verschleissfesten Materials auf einem Körper und Verbundkörper
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25.12.2024
Verfahren zur Vorhersage einer Reaktion eines Elektromagnetischen Systems auf die Beleuchtung Elektromagnetischer Strahlung
EP4481492
Optik & Fototechnik
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25.12.2024
Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für einen Objekthalter
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18.12.2024
Strahlungsquelle
EP4428610
Optik & Fototechnik
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12.12.2024
Heizungsanordnung, Substratträger und Lithografische Vorrichtung
WO2024251452
Optik & Fototechnik
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11.12.2024
Fokusmetrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4474908
Optik & Fototechnik
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11.12.2024
Anordnung für einen Lithographischen Apparat
EP4473359
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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