ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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16.12.2009
Beleuchtungssystem zur Beleuchtung einer Musterungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Beleuchtungssystems
EP2132601
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2008
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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09.12.2009
Substrattisch, lithografischer Apparat und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP2131242
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.05.2009
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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02.12.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 16.12.2004
Erteilt am 02.12.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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25.11.2009
Verfahren zum emittieren von Strahlung für lithographische Projektionsvorrichtungen
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Status
Angemeldet am 14.12.2000
Erteilt am 25.11.2009
Vertretung
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11.11.2009
Lithografische Vorrichtung, Beleuchtungssystem und Filtersystem
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Status
Angemeldet am 27.12.2005
Erteilt am 11.11.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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29.10.2009
Method and apparatus for measuring line end shortening, substrate and patterning device
WO2009130010
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.04.2009
Anhängig
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29.10.2009
Lithographic apparatus, device manufacturing method, cleaning system and method for cleaning a patterning device
WO2009129960
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.04.2009
Anhängig
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29.10.2009
Apparatus and method of measuring a property of a substrate
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Status
Angemeldet am 20.04.2009
Anhängig
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29.10.2009
Robot for in-vacuum use
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Status
Angemeldet am 22.04.2009
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22.10.2009
Focus sensor, inspection apparatus, lithographic apparatus and control system
WO2009127322
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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22.10.2009
Lithographic apparatus comprising an internal sensor and a mini-reactor, and method for treating a sensing surface of the internal sensor
WO2009128717
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.04.2009
Anhängig
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22.10.2009
Rapid exchange device for lithography reticles
WO2009127391
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.04.2009
Anhängig
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15.10.2009
A method of assessing a model of a substrate, an inspection apparatus and a lithographic apparatus
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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15.10.2009
Lithographic apparatus comprising a closing device and device manufacturing method using the same
WO2009124660
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.03.2009
Anhängig
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14.10.2009
Optisches Element, lithographische Vorrichtung mit einem solchen und Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
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Status
Angemeldet am 05.11.2004
Erteilt am 14.10.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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14.10.2009
Strahlungssystem und lithografische Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 20.11.2006
Erteilt am 14.10.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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08.10.2009
Lithographic apparatus and contamination detection method
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Status
Angemeldet am 27.03.2009
Anhängig
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01.10.2009
Inspection apparatus, lithographic apparatus and method of measuring a property of a substrate
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Status
Angemeldet am 16.03.2009
Anhängig
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01.10.2009
Inspection apparatus for lithography
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Status
Angemeldet am 24.03.2009
Anhängig
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30.09.2009
Lithografisches Gerät mit zweidimensionaler Ausrichtungsmessanordnung und zweidimensionales Ausrichtungsmessverfahren
EP1674937
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2005
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Vermeulen, Martijn · Rijswijk
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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24.09.2009
Inspection apparatus for lithography
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Status
Angemeldet am 20.03.2009
Anhängig
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24.09.2009
Actuator system, lithographic apparatus, and device manufacturing method
WO2009115205
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.03.2009
Anhängig
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23.09.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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Status
Angemeldet am 19.12.2002
Erteilt am 23.09.2009
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16.09.2009
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 26.04.2006
Erteilt am 16.09.2009
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.09.2009
Lithographic apparatus and method
WO2009110787
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.03.2009
Anhängig
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11.09.2009
Lithographic apparatus, plasma source, and reflecting method
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Status
Angemeldet am 03.03.2009
Anhängig
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03.09.2009
Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method
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Status
Angemeldet am 18.02.2009
Anhängig
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03.09.2009
Metrology method and apparatus, lithographic apparatus, and device manufacturing method
WO2009106279
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2009
Anhängig
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02.09.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Feststellung der korrekten Festklemmung eines Objekts
EP1447715
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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02.09.2009
Lithographische Vorrichtung, Substrattisch und Verfahren zum Ablösen eines Wafers
EP2095190
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.12.2007
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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27.08.2009
Lithographic apparatus comprising a magnet, method for the protection of a magnet in a lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2009104962
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.02.2009
Anhängig
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26.08.2009
Strahlungssystem und Lithografische Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 27.11.2007
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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20.08.2009
Method and appartus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization
WO2009100867
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.02.2009
Anhängig
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19.08.2009
Verfahren zur Herstellung einer Mikrobearbeiteten Vorrichtung
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12.08.2009
Strahlungsquelle, Lithographieapparat, Geräteherstellungsmethode und damit hergestelltes Gerät
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Status
Angemeldet am 29.06.2001
Erteilt am 12.08.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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12.08.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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Status
Angemeldet am 26.02.2004
Erteilt am 12.08.2009
Vertretung
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29.07.2009
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und damit erzeugte Vorrichtung
EP1510869
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.08.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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29.07.2009
Strahlungssystem und Lithographische Vorrichtung damit
EP2082289
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.09.2007
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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08.07.2009
Systeme und Verfahren zum Ausrichten für Lithographische Systeme
EP1400854
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2003
Anhängig
Vertretung
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08.07.2009
Imprint-Lithographie
EP1801649
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2006
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20