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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
05.01.2011
Lithographischer Apparat mit Immersion und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1420299 Optik & Fototechnik erteilt
05.01.2011
Lithografische Vorrichtung
EP1955114 Optik & Fototechnik erteilt
29.12.2010
Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung von Dunkelfeld-Doppeldipollithografie
EP2267530 Optik & Fototechnik
22.12.2010
Sensor und Lithografievorrichtung
EP2264528 Optik & Fototechnik
24.11.2010
Verfahren zur Abbildung der Strahlung eines Objekts auf einer Detektorvorrichtung und Inspektionsvorrichtung zur Inspektion eines Objekts
EP2130030 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik erteilt
10.11.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1510872 Optik & Fototechnik erteilt
03.11.2010
Für die Erzeugung von Strahlung Konstruiertes und Konfiguriertes Gerät, Lithographie-Vorrichtung und Geräteherstellungsverfahren
EP2245910 Elektronik & Schaltungstechnik
06.10.2010
Halter, lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1391786 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
06.10.2010
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Lithographie mittels winkelaufgelöster Spektroskopie
EP1628164 Optik & Fototechnik erteilt
06.10.2010
Verfahren und Apparat zur Erzeugung überlagerter Strukturen auf einem Substrat
EP2132599 Optik & Fototechnik erteilt
06.10.2010
Extreme UV-Strahlungslichtquelle und Verfahren für die Erzeugung von extremer UV-Strahlung
EP2236014 Elektronik & Schaltungstechnik
06.10.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zum Kalibrieren desselben
EP2204696 Optik & Fototechnik
29.09.2010
Euv-Lichtquellenkomponenten und Verfahren zu Ihrer Herstellung, Verwendung und Überholung
EP2232210 Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
18.08.2010
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1580603 Optik & Fototechnik erteilt
07.07.2010
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
EP1970764 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.06.2010
Lithographische Projektionsapparat mit einer Teilchenbarriere
EP1391785 Optik & Fototechnik erteilt
26.05.2010
Lithographischer Apparat und eine Messeinrichtung
EP1403714 Optik & Fototechnik erteilt
19.05.2010
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP2186386 Elektronik & Schaltungstechnik
14.05.2010
Scatterometer and lithographic apparatus
WO2010052098 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
12.05.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1582929 Optik & Fototechnik erteilt
06.05.2010
Inspection method and apparatus
WO2010049348 Optik & Fototechnik
05.05.2010
Strahlungsquelle und lithografische Vorrichtung
EP2182412 Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
28.04.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1666973 Optik & Fototechnik erteilt
28.04.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1672432 Optik & Fototechnik erteilt
22.04.2010
Collector assembly, radiation source, lithographic appparatus and device manufacturing method
WO2010043288 Optik & Fototechnik
21.04.2010
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP2177091 Elektronik & Schaltungstechnik
14.04.2010
Unterdrucksystem für die Immersionsfotolithographie
EP1756672 Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik erteilt
07.04.2010
Lithografische Vorrichtung und Feuchtigkeitsmesssystem
EP2172766 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
31.03.2010
Schmutzverhinderungssystem und Lithographische Vorrichtung
EP2168010 Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
25.03.2010
Inspection method for lithography
WO2010031510 Optik & Fototechnik
11.03.2010
A substrate, an inspection apparatus, and a lithographic apparatus
WO2010025950 Optik & Fototechnik
10.03.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1528432 Optik & Fototechnik erteilt
10.03.2010
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
EP1681597 Optik & Fototechnik erteilt
03.03.2010
Lithographischer Immersionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2159639 Optik & Fototechnik
11.02.2010
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2010015511 Optik & Fototechnik
27.01.2010
Trägervorrichtung, lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1744216 Optik & Fototechnik
13.01.2010
Lithografischer Apparat und Herstellungsverfahren einer Vorrichtung
EP1736830 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
30.12.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1923743 Optik & Fototechnik
23.12.2009
Vorrichtung mit einer Rotierenden Verunreinigungsfalle
EP2076818 Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik erteilt
23.12.2009
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
EP2136250 Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
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Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20

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