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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
12.11.2020
Apparatus for and method of controlling droplet formation
WO2020225015
Elektronik & Schaltungstechnik
12.11.2020
Protection system for an extreme ultraviolet light source
WO2020225347
Elektronik & Schaltungstechnik
12.11.2020
Reticle cage actuator with shape memory alloy and magnetic coupling mechanisms
WO2020225017
Optik & Fototechnik
12.11.2020
Lithographic apparatus, substrate table, and non-uniform coating method
WO2020224953
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.11.2020
Bumper apparatus
WO2020225151
Optik & Fototechnik
11.11.2020
Objekthalter, Lithographischer Apparat und Lithographisches Verfahren
EP2856261
Optik & Fototechnik
05.11.2020
Metrology apparatus and method using mechanical filter
WO2020221709
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
04.11.2020
Vorrichtung mit mehreren Geladenen Teilchenstrahlen
EP3325950
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.11.2020
Bestimmung eines Layouts von Markierungen auf einer Strukturierungsvorrichtung oder einem Substrat
EP3734363
Optik & Fototechnik
04.11.2020
Verfahren zur Erzeugung eines Steuerschemas und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP3734364
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
04.11.2020
Verfahren und Vorrichtung zur Photolithografischen Bildgebung
EP3734365
Optik & Fototechnik
04.11.2020
Teilfeldsteuerung eines Lithografischen Prozesses und Zugehörige Vorrichtung
EP3734366
Optik & Fototechnik
29.10.2020
Object table, a stage apparatus, a lithographic apparatus and a method of loading an object onto an object table or stage apparatus
WO2020216555
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.10.2020
A substrate holder for use in a lithographic apparatus
WO2020216571
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.10.2020
Method of determining characteristic of patterning process based on defect for reducing hotspot
WO2020216572
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
29.10.2020
Lithographic apparatus and illumination uniformity correction system
WO2020216643
Optik & Fototechnik
28.10.2020
Auf Rechnerischer Metrologie Basierende Korrektur und Steuerung
EP3729197
Optik & Fototechnik
28.10.2020
Verfahren zur Erneuten Bildgebung eines Bildes und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP3731018
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
28.10.2020
Verfahren zur Bestimmung einer Messteilmenge von Messpunkten auf einem Substrat, Zugehörige Vorrichtung und Computerprogramm
EP3731019
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
28.10.2020
Metrologieverfahren und -Vorrichtung, Computerprogramm und Lithografisches System
EP3731020
Optik & Fototechnik
22.10.2020
Device manufacturing method and computer program
WO2020212001
Optik & Fototechnik
22.10.2020
Method for providing a pulsed radiation beam
WO2020212000
Optik & Fototechnik
22.10.2020
Method for determining corrections for lithographic apparatus
WO2020212057
Optik & Fototechnik
22.10.2020
Method for a device manufacturing process
WO2020212068
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
22.10.2020
Method for determining corrections to features of a mask
WO2020212107
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.10.2020
Current source apparatus and method
WO2020212170
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.10.2020
Fluidhandhabungsstruktur, Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Verwendung einer Fluidhandhabungsstruktur
EP3724722
Optik & Fototechnik
21.10.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung eines Zustands im Zusammenhang mit einer Pellikel
EP3724721
Optik & Fototechnik
15.10.2020
A method and system for determining overlay
WO2020207632
Optik & Fototechnik
15.10.2020
An object positioning system, diagnostic and calibration methods, positioning control method, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2020207684
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
15.10.2020
Method and apparatus for forming a patterned layer of material
WO2020207759
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
15.10.2020
Pellicle for euv lithography
WO2020207774
Optik & Fototechnik
15.10.2020
Sensor apparatus and method for lithographic measurements
WO2020207794
Optik & Fototechnik
14.10.2020
Verfahren und Vorrichtung zur Formung einer Strukturierten Materialschicht
EP3722457
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
08.10.2020
Radiation system
WO2020200610
Elektronik & Schaltungstechnik
08.10.2020
Sub-field control of a lithographic process and associated apparatus
WO2020200635
Optik & Fototechnik
08.10.2020
Systems and methods for image enhancement for a multi-beam charged-particle inspection system
WO2020200958
Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.10.2020
Method and apparatus for predicting substrate image
WO2020200993
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
07.10.2020
Optische Faser
EP3719551
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.10.2020
Herstellung eines Reflektierenden Beugungsgitters
EP3719545
Optik & Fototechnik

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Elektrische Energietechnik
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67
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60
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55
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39
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35

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