ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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29.08.2007
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 09.10.2003
Erteilt am 29.08.2007
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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29.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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08.08.2007
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Substrathalter
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08.08.2007
Lithographischer Apparat
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Status
Angemeldet am 25.10.2004
Erteilt am 08.08.2007
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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08.08.2007
Flüssige Perfluoropolyether Maskendeckschicht
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08.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit vorwärtsgekoppelter Fokussteuerung.
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08.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung einer interferometrischen Belichtungseinheit und einer maskenlosen Belichtungseinheit
EP1801655
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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01.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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01.08.2007
Lithographische Projektionsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1813989
Optik & Fototechnik
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25.07.2007
Lithographischer Apparat mit Spülgassystem
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18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat mit System zur Positionierung eines Reflektors
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18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat mit einer Stützanordnung
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18.07.2007
Lithographischer Apparat
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18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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05.07.2007
Inspection apparatus, lithographic system provided with the inspection apparatus and a method for inspecting a sample
WO2007075082
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2006
Anhängig
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04.07.2007
Verfahren zum Verbinden mindestens zweier Glieder
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04.07.2007
System und Verfahren zur Fehlermarkierung auf einem Substrat bei maskenlosen Anwendungen
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27.06.2007
Verwaltung von Reaktionskräften in einem lithographischen System
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Status
Angemeldet am 11.03.2003
Erteilt am 27.06.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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27.06.2007
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
EP1674933
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2005
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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27.06.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1801653
Optik & Fototechnik
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27.06.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1801654
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Vermeulen, Martijn · Rijswijk
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27.06.2007
Herstellungsverfahren für Bauelemente und Computerprogramm
EP1801657
Optik & Fototechnik
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20.06.2007
Mikrolithographischer Projektionsapparat
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20.06.2007
Untersuchungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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20.06.2007
Eingebettete Ätzstoppschicht für Phasenschiebermasken sowie ebene Phasenschiebermasken zur Reduktion von Wellenleitereffekten und topografiebedingten Effekten
EP1720061
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.01.2004
Anhängig
Vertretung
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13.06.2007
Lithografisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 27.10.2006
Anhängig
Vertretung
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30.05.2007
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1783555
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.11.2006
Anhängig
Vertretung
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09.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1434097
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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02.05.2007
Verfahren zur Übernahme einer lithographischen Maske
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02.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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02.05.2007
Methode zur Bestimmung der Aberration eines Projektionssystems eines Lithographieapparats
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02.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1739494
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.06.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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18.04.2007
Methode zur Naheffekt-Korrektur mit teilweise strahlungsdurchlässigen, nicht aufgelösten Hilfsstrukturen
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04.04.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1770445
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.09.2006
Anhängig
Vertretung
Raukema, Age · Veldhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
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28.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1762898
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.04.2004
Anhängig
Vertretung
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14.03.2007
Lithographischer Projektionsapparat
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14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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14.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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07.03.2007
Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
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Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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