ASML Logo

ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

3.336 gesamt
Patent
29.08.2007
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1522892 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik erteilt
29.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1562080 Optik & Fototechnik erteilt
08.08.2007
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Substrathalter
EP1431831 Optik & Fototechnik erteilt
08.08.2007
Lithographischer Apparat
EP1530088 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
08.08.2007
Flüssige Perfluoropolyether Maskendeckschicht
EP1439421 Optik & Fototechnik erteilt
08.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit vorwärtsgekoppelter Fokussteuerung.
EP1566696 Optik & Fototechnik erteilt
08.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung einer interferometrischen Belichtungseinheit und einer maskenlosen Belichtungseinheit
EP1801655 Optik & Fototechnik
01.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1669807 Optik & Fototechnik erteilt
01.08.2007
Lithographische Projektionsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1813989 Optik & Fototechnik
25.07.2007
Lithographischer Apparat mit Spülgassystem
EP1256847 Optik & Fototechnik erteilt
18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat mit System zur Positionierung eines Reflektors
EP1107068 Optik & Fototechnik erteilt
18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat mit einer Stützanordnung
EP1160628 Optik & Fototechnik erteilt
18.07.2007
Lithographischer Apparat
EP1255164 Optik & Fototechnik erteilt
18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1548505 Optik & Fototechnik erteilt
05.07.2007
Inspection apparatus, lithographic system provided with the inspection apparatus and a method for inspecting a sample
WO2007075082 Optik & Fototechnik
04.07.2007
Verfahren zum Verbinden mindestens zweier Glieder
EP1697800 Optik & Fototechnik erteilt
04.07.2007
System und Verfahren zur Fehlermarkierung auf einem Substrat bei maskenlosen Anwendungen
EP1677155 Optik & Fototechnik erteilt
27.06.2007
Verwaltung von Reaktionskräften in einem lithographischen System
EP1345083 Optik & Fototechnik erteilt
27.06.2007
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
EP1674933 Optik & Fototechnik
27.06.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1801653 Optik & Fototechnik
27.06.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1801654 Optik & Fototechnik
27.06.2007
Herstellungsverfahren für Bauelemente und Computerprogramm
EP1801657 Optik & Fototechnik
20.06.2007
Mikrolithographischer Projektionsapparat
EP1118910 Optik & Fototechnik erteilt
20.06.2007
Untersuchungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1416327 Optik & Fototechnik erteilt
20.06.2007
Eingebettete Ätzstoppschicht für Phasenschiebermasken sowie ebene Phasenschiebermasken zur Reduktion von Wellenleitereffekten und topografiebedingten Effekten
EP1720061 Optik & Fototechnik
13.06.2007
Lithografisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1780601 Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
30.05.2007
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1783555 Optik & Fototechnik
09.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1434097 Optik & Fototechnik
02.05.2007
Verfahren zur Übernahme einer lithographischen Maske
EP1237045 Optik & Fototechnik erteilt
02.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1310829 Optik & Fototechnik erteilt
02.05.2007
Methode zur Bestimmung der Aberration eines Projektionssystems eines Lithographieapparats
EP1580605 Optik & Fototechnik erteilt
02.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1739494 Optik & Fototechnik
18.04.2007
Methode zur Naheffekt-Korrektur mit teilweise strahlungsdurchlässigen, nicht aufgelösten Hilfsstrukturen
EP1235103 Optik & Fototechnik erteilt
04.04.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1770445 Optik & Fototechnik
28.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1762898 Optik & Fototechnik
14.03.2007
Lithographischer Projektionsapparat
EP1186958 Optik & Fototechnik erteilt
14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1220038 Optik & Fototechnik erteilt
14.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1312984 Optik & Fototechnik erteilt
14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1586948 Optik & Fototechnik erteilt
07.03.2007
Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
EP1111470 Optik & Fototechnik erteilt

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen