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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
29.04.2020
Vorrichtung aus mehreren Geladenen Teilchenstrahlen mit einer Mehrachsigen Magnetischen Linse
EP2652486
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.04.2020
Transmissive Diffusor
WO2020078625
Optik & Fototechnik
23.04.2020
Methods and apparatus for inspection of a structure and associated apparatuses
WO2020078677
Optik & Fototechnik
23.04.2020
System and method for facilitating chemical mechanical polishing
WO2020078729
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.04.2020
Methods for generating characteristic pattern and training machine learning model
WO2020078762
Optik & Fototechnik
23.04.2020
Method to create the ideal source spectra with source and mask optimization
WO2020078844
Optik & Fototechnik
23.04.2020
Control of optical modulator
WO2020081734
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.04.2020
Durchlässiger Diffusor
EP3640734
Optik & Fototechnik
22.04.2020
System und Verfahren zum Erleichtern des Chemisch-Mechanischen Polierens
EP3640972
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.04.2020
Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion einer Struktur und Zugehörige Vorrichtungen
EP3640735
Optik & Fototechnik
22.04.2020
Pellikel und Pellikelanordnung
EP3639091
Optik & Fototechnik
16.04.2020
Method of calibrating a plurality of metrology apparatuses, method of determining a parameter of interest, and metrology apparatus
WO2020074162
Optik & Fototechnik
16.04.2020
Lithographic method
WO2020074198
Optik & Fototechnik
16.04.2020
Multi-source illumination unit and method of operating the same
WO2020074238
Optik & Fototechnik
16.04.2020
Detection system for an alignment sensor
WO2020074250
Optik & Fototechnik
16.04.2020
Method for measuring focus performance of a lithographic apparatus
WO2020074261
Optik & Fototechnik
16.04.2020
Metrology method, patterning device, apparatus and computer program
WO2020074412
Optik & Fototechnik
16.04.2020
Method for high numerical aperture thru-slit source mask optimization
WO2020074356
Optik & Fototechnik
15.04.2020
Verfahren zur Kalibrierung einer Vielzahl von Metrologievorrichtungen, Verfahren zur Bestimmung eines Parameters von Interesse und Metrologievorrichtung
EP3637186
Optik & Fototechnik
15.04.2020
Verfahren zur Messung der Fokusleistung einer Lithografievorrichtung
EP3637187
Optik & Fototechnik
15.04.2020
Anreicherung und Radioisotopproduktion
EP3637436
Verfahrens- & Trenntechnik Elektrische Energietechnik
09.04.2020
Method for internal heating of epoxy bonds
WO2020069829
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
02.04.2020
Method and apparatus for measuring pupil shape
WO2020064196
Optik & Fototechnik
02.04.2020
Apparatus for and method of providing high precision delays in a lithography system
WO2020064194
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.04.2020
Laser system for target metrology and alteration in an euv light source
WO2020064195
Elektronik & Schaltungstechnik
02.04.2020
Providing a trained neural network and determining a characteristic of a physical system
WO2020064212
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
02.04.2020
Lithographic system and method
WO2020064217
Optik & Fototechnik
02.04.2020
A process tool and an inspection method
WO2020064265
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.04.2020
A level sensor and a lithographic apparatus incorporating a level sensor
WO2020064240
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.04.2020
Apparatus and method for measuring a position of a mark
WO2020064290
Optik & Fototechnik
02.04.2020
Method for determining candidate patterns from set of patterns of a patterning process
WO2020064542
Optik & Fototechnik
02.04.2020
Determining hot spot ranking based on wafer measurement
WO2020064544
Optik & Fototechnik
01.04.2020
Verfahren zur Bestimmung der Entfernung zwischen Zwei Teilstrahlen bei einer Multi-Beamlet-Belichtungsvorrichtung
EP2638562
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2020
Lithographiesystem, Klemmverfahren und Wafertisch
EP2660655
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2020
Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Pupillenform
EP3629085
Optik & Fototechnik
01.04.2020
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen eines Strahlungsintensitätsprofils
EP3629086
Optik & Fototechnik
01.04.2020
Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen
EP3629087
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2020
Bereitstellung eines Trainierten Neuronalen Netzwerks und Bestimmung einer Eigenschaft eines Physikalischen Systems
EP3629088
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
26.03.2020
Optical system, metrology apparatus and associated method
WO2020057870
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
26.03.2020
Particle beam apparatus, defect repair method, lithographic exposure process and lithographic system
WO2020057894
Optik & Fototechnik

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60
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