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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
02.01.2008
Kompensation der Doppelbrechung in kubisch kristallinen Projektionslinsen und optischen Systemen
EP1780570 Optik & Fototechnik
27.12.2007
Optical apparatus
WO2007147498 Optik & Fototechnik
27.12.2007
Lithographic apparatus, device manufacturing method and radiation collector
WO2007148968 Optik & Fototechnik
26.12.2007
Imprint-Lithografie
EP1724639 Optik & Fototechnik
19.12.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1324138 Optik & Fototechnik
19.12.2007
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
EP1837705 Optik & Fototechnik
19.12.2007
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
EP1852746 Optik & Fototechnik
12.12.2007
Lithographievorrichtung und Bauelementeherstellungsverfahren
EP1864188 Optik & Fototechnik
12.12.2007
Gekühltes Spiegelarray für die Lithographie
EP1865359 Optik & Fototechnik
05.12.2007
Beleuchtungssystem
EP1793278 Optik & Fototechnik
28.11.2007
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren unter Verwendung mehrerer Belichtungsarten und mehrere Belichtungsarten
EP1860505 Optik & Fototechnik
22.11.2007
Contamination barrier and lithographic apparatus
WO2007133072 Optik & Fototechnik
21.11.2007
Lithographisches Gerät und zugehöriges Herstellungsverfahren
EP1278089 Optik & Fototechnik erteilt
21.11.2007
Kennzeichnungsverfahren für ein Substrat, Verfahren zur Kennzeichnung eines Arbeitsganges, Geräteherstellungsverfahren und Computerprogramm
EP1731968 Optik & Fototechnik erteilt
21.11.2007
Lithographische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
EP1857881 Optik & Fototechnik
15.11.2007
Anti-reflection coating for euv mask
WO2007129890 Optik & Fototechnik
14.11.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1372039 Optik & Fototechnik erteilt
14.11.2007
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren unter Verwendung mehrerer Belichtungsarten und mehrere Belichtungsarten
EP1855161 Optik & Fototechnik
31.10.2007
Lithographischer Apparat
EP1566695 Optik & Fototechnik erteilt
31.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1610183 Optik & Fototechnik
31.10.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1637931 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
31.10.2007
Immersionsflüssigkeit, Belichtungsvorrichtung und Belichtungsprozess
EP1849040 Optik & Fototechnik
24.10.2007
Lithographischer Apparat mit einer Maskenklemmvorrichtung
EP1107066 Optik & Fototechnik erteilt
24.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1251402 Optik & Fototechnik erteilt
17.10.2007
Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
EP1111469 Optik & Fototechnik erteilt
17.10.2007
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung von Datenfilterung
EP1708030 Optik & Fototechnik
17.10.2007
Lithographische Projektionsvorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
EP1818977 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.10.2007
Rotatable contamination barrier and lithographic apparatus comprising same
WO2007114695 Optik & Fototechnik
04.10.2007
Lithographic apparatus and patterning device
WO2007110777 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Contamination barrier and lithographic apparatus comprising same
WO2007111504 Optik & Fototechnik
03.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1353233 Optik & Fototechnik
03.10.2007
Lithographischer Apparat und Methode zur Kompensation von thermischer Deformation in einem lithographischen Apparat
EP1513021 Optik & Fototechnik erteilt
03.10.2007
Haltestruktur und Lithographische Vorrichtung
EP1839091 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2007
Verfahren zur Vermeidung oder Verringerung der Verschmutzung eines Immersionsprojektors und ein lithografisches Immersionsgerät
EP1793276 Optik & Fototechnik
26.09.2007
EUV-lithographische Projektionsvorrichtung mit einem optischen Element mit Deckschicht
EP1065568 Optik & Fototechnik erteilt
26.09.2007
Schutzkappe für eine Lampe und Verfahren zum Einbau einer Lichtquelle in einem lithographischen Apparat
EP1602980 Verpackungs- & Fördertechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
19.09.2007
Prisma zur Benutzung in einer lithografischen Vorrichtung
EP1764655 Optik & Fototechnik
05.09.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltungsanordnung
EP1321824 Optik & Fototechnik erteilt
29.08.2007
Lithographischer Apparat mit Filter
EP1107065 Optik & Fototechnik erteilt
29.08.2007
Verfahren zur Aberrationsmessung in einem optischen Abbildungssystem
EP1128217 Optik & Fototechnik erteilt

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