ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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07.03.2007
Lithographischer Apparat mit einem System zur Positionsdetektion
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07.03.2007
Lithographischer Projektionsapparat
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07.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Maske und Vorrichtung
EP1760525
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.08.2006
Anhängig
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07.03.2007
Lithografisches Verfahren
EP1760531
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.09.2006
Anhängig
Vertretung
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28.02.2007
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und Computerprogramm dafür
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28.02.2007
Verfahren zur Herstellung eines Artikels, dabei hergestellter Artikel und lithographischer Apparat dafür
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28.02.2007
Verfahren und System zur 3D Ausrichtung für Ganzscheibenintegration
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Status
Angemeldet am 23.12.2005
Anhängig
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22.02.2007
Immersion Lithography Objective
WO2007020067
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.08.2006
Anhängig
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24.01.2007
Gehäuse mit einer Struktur zum Anbringen Optischer Elemente
EP1745317
Optik & Fototechnik
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03.01.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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03.01.2007
Lithografische Vorrichtung, Herstellungsverfahren und damit hergestellte Vorrichtung
EP1708032
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.03.2006
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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27.12.2006
Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat
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27.12.2006
Lithografischer Apparat und steuerbare Mustererzeugungsvorrichtung unter Verwendung eines räumlichen Lichtmodulators mit verteilter Digital-Analog Umwandlung
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Status
Angemeldet am 09.06.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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27.12.2006
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1736831
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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20.12.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1426826
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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20.12.2006
Verfahren zur Reinigung durch Entfernung von Teilchen von Oberflächen, Reinigungsvorrichtung und lithographischer Projektionsapparat
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13.12.2006
Lithographischer Projektionsapparat und lithographisches Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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29.11.2006
Strahlungsbelichtungsgerät mit Gasspülsystem
EP1669809
Optik & Fototechnik
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22.11.2006
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
EP1674935
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2005
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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15.11.2006
Inspektionsmethode und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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Status
Angemeldet am 30.10.2003
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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08.11.2006
Bestimmung der Position einer Substrat-Ausrichtungsmarke
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08.11.2006
Verfahren zur Ausrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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08.11.2006
Bauelementeherstellungsverfahren und Substrat mit Strahlungsempfindlichem Material
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Status
Angemeldet am 22.02.2005
Anhängig
Vertretung
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02.11.2006
Verfahren und Gerät zur Herstellung einer Schutzschicht auf einem Spiegel
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Status
Angemeldet am 29.09.2004
Erteilt am 02.11.2006
Vertretung
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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25.10.2006
Lithographische Maske, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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25.10.2006
Lithographischer Immersionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1710630
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2006
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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11.10.2006
Lithographievorrichtung, Bauelementeherstellungsverfahren und Dadurch Hergestelltes Bauelement
EP1709489
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.12.2004
Anhängig
Vertretung
van Loon, C.J.J · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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27.09.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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20.09.2006
Lithographischer Projektionsapparat
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20.09.2006
Einspannvorrichtungssystem, Lithographische Vorrichtung damit und Bauelementeherstellungsverfahren
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Status
Angemeldet am 20.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
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13.09.2006
Lithographische Vorrichtung und Messverfahren
EP1700170
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2004
Anhängig
Vertretung
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13.09.2006
Lithographische Vorrichtung und Messverfahren
EP1700165
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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13.09.2006
Substrattisch, Verfahren zur Messung der Position eines Substrats und lithographisches Gerät
EP1662327
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2005
Anhängig
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06.09.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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06.09.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Optimierung einer Beleuchtungsquelle unter Verwendung photolithographischer Simulationen
EP1473596
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2004
Anhängig
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06.09.2006
Beleuchtungsanlagenbedingte kontrastumkehrende Abbildung
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Status
Angemeldet am 15.04.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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06.09.2006
Lithographievorrichtung und Bauelementeherstellungsverfahren
EP1697799
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2004
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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30.08.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Reinigung des Apparats und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1329773
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.01.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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30.08.2006
Sensoranordnung
EP1695149
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2004
Anhängig
Vertretung
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30.08.2006
Lithografische Messungen mittels Scatterometrie
EP1696271
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20