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Aixtron Patente

🇩🇪 Deutschland

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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303 gesamt
Patent
16.05.2019
Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes durch die Verwendung von in einem Regelmodus Gewonnenen Steuerdaten
WO2019091804
Metallurgie & Oberflächentechnik
15.05.2019
Verfahren zur Abscheidung von Hochleistungsbeschichtungen und Verkapselte Elektronische Vorrichtungen
EP3014675
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.05.2019
Beschichtetes Bauteil eines Cvd-Reaktors und Verfahren zu dessen Herstellung
EP2918702
Metallurgie & Oberflächentechnik
11.04.2019
Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines in einem Trägergas Transportierten Dampfes
WO2019068609
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
11.04.2019
Verfahren zur Herstellung einer Leuchtenden Pixelanordnung
WO2019068607
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
20.03.2019
Verfahren zum Einrichten eines Epitaxie-Reaktors
EP2443274
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.03.2019
Vorrichtung zum Abscheiden einer Strukturierten Schicht auf einem Substrat unter Verwendung einer Maske
WO2019048367
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.03.2019
Gaseinlassorgan für einen Cvd- oder Pvd-Reaktor
WO2019048670
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.03.2019
Method for etching a silicon containing surface
WO2019048693
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.01.2019
Vorrichtung zur Kontrollierten Abgabe eines Pulvers
WO2019007955
Verfahrens- & Trenntechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
03.01.2019
Verfahren zur Bestimmung der Dampfkonzentration unter Verwendung der Magnetischen Eigenschaften des Dampfes
WO2019002280
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
13.12.2018
Verfahren zum Abscheiden von Oleds
WO2018224454
Metallurgie & Oberflächentechnik
12.12.2018
Cvd-Reaktor und Verfahren zum Abscheiden einer Schicht
EP2470685
Metallurgie & Oberflächentechnik
05.12.2018
Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden von dotierten Schichten mittels OVPD oder dergleichen
EP2009714
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
05.12.2018
Temperierte Gaszuleitung mit an mehreren Stellen Eingespeisten Verdünnungsgasströmen
EP3209809
Metallurgie & Oberflächentechnik
24.10.2018
Vorrichtung zum Abscheiden einer Schicht auf einem Substrat
EP3224385
Metallurgie & Oberflächentechnik
04.10.2018
Pulverdosierer
WO2018177974
Verfahrens- & Trenntechnik
04.10.2018
Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes
WO2018177853
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
04.10.2018
Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes
WO2018177852
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
04.10.2018
Verfahren zur Bestimmung des Partialdrucks oder einer Konzentration eines Dampfes
WO2018178036
Metallurgie & Oberflächentechnik
27.09.2018
WO2018172211
WO2018172211
Metallurgie & Oberflächentechnik
26.09.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Aufdampfung
EP2723914
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.09.2018
Substrathalteranordnung mit Maskenträger
WO2018166954
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.09.2018
Vorrichtung zum Abscheiden einer Strukturierten Schicht auf einem Substrat sowie Verfahren zum Einrichten der Vorrichtung
WO2018166953
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.09.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Thermischen Behandlung eines Substrates
WO2018166955
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.09.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Übertragung von Folien zwischen Substraten
EP2928700
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
29.08.2018
Vorrichtung zur Plasmaverarbeitung
EP3020850
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
23.08.2018
Vorrichtung und Verfahren zur Thermischen Behandlung eines Substrates mit einer Gekühlten Schirmplatte
WO2018149840
Metallurgie & Oberflächentechnik
22.08.2018
Aufdampfungssystem und Zuführungskopf
EP2723913
Metallurgie & Oberflächentechnik
07.06.2018
Aerosolverdampfer
WO2018099718
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
30.05.2018
Aufdampfungsmaterialquelle und Herstellungsverfahren dafür
EP2723912
Metallurgie & Oberflächentechnik
17.05.2018
Vorrichtung und Verfahren zur Halterung einer Maske in einer Planlage
WO2018087029
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
17.05.2018
Maskenhalterung mit Geregelter Justiereinrichtung
WO2018086981
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
26.04.2018
Beschichtungsvorrichtung mit in Schwerkraftrichtung unter dem Substrat Angeordnetem Gaseinlassorgan
WO2018073309
Metallurgie & Oberflächentechnik
21.03.2018
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden Dünner Schichten aus Polymeren Para-Xylylene oder Substituiertem Para-Xylylene
EP2293883
Verfahrens- & Trenntechnik
28.02.2018
Verfahren zum Abscheiden eines Dünnschichtigen Polymers in einer Niederdruckgasphase
EP2294246
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
08.02.2018
Konditionierverfahren für einen Cvd-Reaktor
WO2018024698
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.12.2017
Vorrichtung und Verfahren zum Sequentiellen Abscheiden einer Vielzahl von Schichten auf Substraten, sowie Aufnahmeeinheit zur Verwendung in einer Abscheidungsvorrichtung
WO2017216065
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.12.2017
Beschichtungsvorrichtung sowie Beschichtungsverfahren
WO2017216014
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.12.2017
Beschichteter Kohlenstoffkörper in einem Cvd-Reaktor
WO2017211724
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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Technologiefelder

Metallurgie & Oberflächentechnik
261
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
109
Verfahrens- & Trenntechnik
29
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
25
Anorganische Chemie & Werkstoffe
7
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
6
Steuerungs- & Regelungstechnik
6
Elektronik & Schaltungstechnik
6
Maschinenelemente & Fluidtechnik
5
Verpackungs- & Fördertechnik
2
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
1
Optik & Fototechnik
1

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