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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
06.02.2014
Method and apparatus for generating radiation
WO2014019803
Elektronik & Schaltungstechnik
06.02.2014
Position measuring apparatus, position measuring method, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2014019846
Optik & Fototechnik
06.02.2014
Lithographic apparatus and method of manufacturing a device
WO2014020003
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
05.02.2014
System und Verfahren zur Kompensation von Wärmeeffekten in einer Euv-Lichtquelle
EP2692213
Elektronik & Schaltungstechnik
30.01.2014
Inspection method and apparatus, lithographic system and device manufacturing method
WO2014016056
Optik & Fototechnik
30.01.2014
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2014016163
Optik & Fototechnik
23.01.2014
Magnetic device and lithographic apparatus
WO2014012729
Optik & Fototechnik
22.01.2014
Strahlungsquelle, lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP2175701
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
22.01.2014
Antriebslaser-Ausgabesysteme für Euv-Lichtquellen
EP2686649
Medizintechnik & Gesundheit Optik & Fototechnik
16.01.2014
Support for a movable element and lithography apparatus
WO2014009042
Optik & Fototechnik
16.01.2014
Lithographic cluster system, method for calibrating a positioning device of a lithographic apparatus
WO2014009100
Optik & Fototechnik
09.01.2014
Metrology for lithography
WO2014005828
Optik & Fototechnik
09.01.2014
A lithographic apparatus
WO2014005780
Optik & Fototechnik
08.01.2014
Systeme und Verfahren zur Optikreinigung in einer Euv-Lichtquelle
EP2681164
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
03.01.2014
Lithographic apparatus
WO2014001071
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.01.2014
Klemmvorrichtung, Anordnung und lithografische Projektionsvorrichtung
EP2535770
Optik & Fototechnik
27.12.2013
Radiation source and lithographic apparatus.
WO2013189827
Optik & Fototechnik
27.12.2013
Method of determining focus, inspection apparatus, patterning device, substrate and device manufacturing method
WO2013189724
Optik & Fototechnik
19.12.2013
Positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013186307
Optik & Fototechnik
19.12.2013
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013186136
Optik & Fototechnik
18.12.2013
Korrektur einer Räumlichen Instabilität einer Euv-Quelle durch Laserstrahlsteuerung
EP2041624
Optik & Fototechnik
05.12.2013
A method to determine the usefulness of alignment marks to correct overlay, and a combination of a lithographic apparatus and an overlay measurement system
WO2013178404
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Metrology method and apparatus, substrate, lithographic system and device manufacturing method
WO2013178422
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Gradient-based pattern and evaluation point selection
WO2013178459
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Determining position and curvature information directly from a surface of a patterning device.
WO2013178775
Optik & Fototechnik
04.12.2013
Lithografische Vorrichtung mit einer Dämpfungsunteranordnung
EP2053461
Optik & Fototechnik
04.12.2013
Optischer Fokussensor, Prüfvorrichtung und lithografische Vorrichtung
EP2048543
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Sensor, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013174539
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013174646
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Lithographic apparatus
WO2013174656
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
21.11.2013
Thermal conditioning unit, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013171013
Optik & Fototechnik
14.11.2013
Lithographic apparatus
WO2013167463
Optik & Fototechnik
07.11.2013
Design rule and lithographic process co-optimization
WO2013164187
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
07.11.2013
Active torsion mode control for stage
WO2013164145
Optik & Fototechnik
06.11.2013
Lithographische Markierungsstruktur, lithographischer Projektionsapparat mit einer solchen Markierungsstruktur und Verfahren zur Ausrichtung eines Substrates unter Verwendung einer solchen Markierungsstruktur
EP1400860
Optik & Fototechnik
06.11.2013
Mehrflutige Optische Vorrichtung
EP2659297
Optik & Fototechnik
31.10.2013
Methods and compositions for providing spaced lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers
WO2013160027
Optik & Fototechnik
31.10.2013
Flexible conduit for fluid, lithographic apparatus, and method for manufacturing a device
WO2013160021
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
31.10.2013
Lithography apparatus and device manufacturing method
WO2013160016
Optik & Fototechnik
31.10.2013
Lithographic apparatus comprising an actuator, and method for protecting such actuator
WO2013160123
Optik & Fototechnik

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67
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