ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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10.09.2008
Interferometrisches Lithografiesystem und Verfahren zum Erzeugen von Gleichen Weglängen Interferierender Strahlen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2006
Anhängig
Vertretung
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03.09.2008
Lithografische Vorrichtung und Verwendungsverfahren davon
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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03.09.2008
Laserstrahlaufweitung mit unveränderter räumlicher Kohärenz
Optik & Fototechnik
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20.08.2008
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2003
Erteilt am 20.08.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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20.08.2008
Substrat, Substratbelichtungsverfahren und maschinenlesbares Medium
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.09.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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20.08.2008
Strahlungssystem und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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20.08.2008
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2005
Erteilt am 20.08.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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13.08.2008
Polarisierte Strahlung in einem lithographischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.07.2006
Anhängig
Vertretung
Roberts, Peter David · Manchester
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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13.08.2008
Wärmeverwaltung für EUV-Retikel
Optik & Fototechnik
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06.08.2008
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2004
Erteilt am 06.08.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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06.08.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Messung der Polarisation
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.12.2004
Erteilt am 06.08.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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06.08.2008
Verfahren zur Messung der Bindungsqualität gebundener Substrate und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung aus einem gebundenen Substrat
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.12.2005
Erteilt am 06.08.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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06.08.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2005
Erteilt am 06.08.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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30.07.2008
Verfahren zur Vorbereitung eines Substrats, Messverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Lithographischer Apparat, Computerprogramm und Substrat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2004
Erteilt am 30.07.2008
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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24.07.2008
Device manufacturing method and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.01.2008
Anhängig
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23.07.2008
Verfahren zur Herstellung eines Artikels unter Verwendung einer lithographischen Projektionsmaske
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.12.2003
Erteilt am 23.07.2008
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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23.07.2008
Shearing-Interferometer mit dynamischem pupillenfüllen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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16.07.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.11.2003
Erteilt am 16.07.2008
Vertretung
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03.07.2008
Assembly for blocking a beam of radiation
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.11.2007
Anhängig
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03.07.2008
Lithographic apparatus, substrate table, and method for enhancing substrate release properties
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.12.2007
Anhängig
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03.07.2008
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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03.07.2008
Patterning device, method of providing a patterning device, photolithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2007
Anhängig
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03.07.2008
Illumination system, lithographic apparatus, mirror, method of removing contamination from a mirror and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2007
Anhängig
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02.07.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.01.2002
Erteilt am 02.07.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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02.07.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.01.2003
Erteilt am 02.07.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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02.07.2008
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.11.2003
Erteilt am 02.07.2008
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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02.07.2008
Methode zur Bestimmung einer Beleuchtungseinstellung und Methode zur Übertragung einer Maskenstruktur
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.09.2005
Erteilt am 02.07.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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02.07.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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26.06.2008
Reducing Fast Ions in A Plasma Radiation Source Having A Second Activation Source
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2007
Anhängig
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25.06.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2002
Erteilt am 25.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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25.06.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.06.2003
Erteilt am 25.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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19.06.2008
Radiation system and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2007
Anhängig
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19.06.2008
Plasma radiation source with axial magnetic field
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2007
Anhängig
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18.06.2008
Bilderzeugungsapparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.07.2002
Erteilt am 18.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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18.06.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2006
Erteilt am 18.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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12.06.2008
Shadowing Electrodes For Debris Suppression in an Euv Source
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2007
Anhängig
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12.06.2008
Plasma radiation source with rotating electrodes and liquid metal provider
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2007
Anhängig
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11.06.2008
Verfahren, Inspektionssystem, Rechnerprogramm und Referenzsubstrat zum Erkennen von Maskenfehlern
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2003
Erteilt am 11.06.2008
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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11.06.2008
Lithographischer Apparat mit einem radialen Polarisator
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.03.2004
Erteilt am 11.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.06.2008
Lithographischer Apparat. Beleuchtungssystem und optisches Element zur Rotation einer Intensitätsverteilung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.03.2005
Erteilt am 11.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
Zusammenfassung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35