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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
29.05.2008
Gas analyzing system, lithographic apparatus and method of improving a sensitivity of a gas analyzing system
WO2008063056
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
29.05.2008
Verfahren zum Entfernen von Kontaminationen auf Optischen Oberflächen und Optische Anordnung
WO2008061690
Optik & Fototechnik
28.05.2008
Lithographievorrichtung, Herstellungsverfahren für eine Vorrichtung und Computerprogrammprodukt
EP1925981
Optik & Fototechnik
17.04.2008
Lithographic apparatus, and device manufacturing method
WO2008044925
Optik & Fototechnik
17.04.2008
Cleaning method, apparatus and cleaning system
WO2008044924
Optik & Fototechnik
09.04.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1424598
Optik & Fototechnik
03.04.2008
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008039060
Optik & Fototechnik
02.04.2008
Aktiv-Retikelwerkzeug und Lithographische Vorrichtung
EP1904896
Optik & Fototechnik
02.04.2008
Lithographisches Projektionssystem und Projektionslinsen-Polarisationssensor
EP1904895
Optik & Fototechnik
02.04.2008
Passiv-Retikel-Werkzeug, Lithographische Vorrichtung und Verfahren zum Strukturieren eines Bauelements in einem Lithographiewerkzeug
EP1904897
Optik & Fototechnik
26.03.2008
Optisches Reduktionssystem für die Fotolithografie
EP1903370
Optik & Fototechnik
19.03.2008
Optisches System zur Erzeugung von Strahlung im EUV-Wellenlängenbereich und Verfahren zur Messung des Kontaminationsstatus von EUV-reflektierenden Elementen
EP1901125
Optik & Fototechnik
19.03.2008
Systeme und Verfahren zum Ablenken von Plasmaerzeugten Ionen, um zu Verhindern, Dass die Ionen eine Innere Komponente einer Euv-Lichtquelle Erreichen
EP1899115
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
12.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1380897
Optik & Fototechnik
12.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1424599
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
05.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1372040
Optik & Fototechnik
05.03.2008
Methode zur Belichtung eines Substrats und lithographischer Projektionsapparat
EP1515189
Optik & Fototechnik
27.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1148389
Optik & Fototechnik
27.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1291721
Optik & Fototechnik
27.02.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1319986
Optik & Fototechnik
27.02.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1582928
Optik & Fototechnik
27.02.2008
Lithographische Vorrichtung und Reinigungsverfahren dafür
EP1891480
Optik & Fototechnik
27.02.2008
Modulation der Belichtungsdauer und/oder -leistung zur Erzeugung von Grauwerten in der maskenlosen Photolithographie
EP1503245
Optik & Fototechnik
27.02.2008
Drucksensor
EP1582852
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1647866
Optik & Fototechnik
13.02.2008
Lithographische Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1524555
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.02.2008
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und damit erzeugte Vorrichtung
EP1491962
Optik & Fototechnik
13.02.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1530090
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
30.01.2008
Lithografische Vorrichtung, Beleuchtungssystem und Debrisauffangsystem
EP1674932
Optik & Fototechnik
23.01.2008
Substratverarbeitungsverfahren
EP1548507
Optik & Fototechnik
23.01.2008
Interferometriches Lithographie-System mit einstellbarer Auflösung
EP1630615
Optik & Fototechnik
23.01.2008
Vorrichtung zur Korrektur einer ungleichmässigen Beleuchtung in einem lithographischen Apparat
EP1677148
Optik & Fototechnik
16.01.2008
Prozesskammer mit einer Reflektierenden Heizplatte
EP1186007
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2008
Verfahren, System und Vorrichtung zur Präzisen Positionierung und Ausrichtung einer Linse in einem Optischen System
EP1277071
Optik & Fototechnik
09.01.2008
Maskenloses System zur Erzeugung eines Musters
EP1555574
Optik & Fototechnik
03.01.2008
Lithographic apparatus comprising a cleaning arrangement, cleaning arrangement and method for cleaning a surface to be cleaned
WO2008002134
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
02.01.2008
Lithographischer Apparat
EP1494079
Optik & Fototechnik
02.01.2008
Lithografisches Projektionsgerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1693708
Optik & Fototechnik
02.01.2008
Flüssigkeitsimmersions-Lithographiesystem mit einem Geneigten Duschkopf
EP1872175
Optik & Fototechnik
02.01.2008
Kompensation der Doppelbrechung in kubisch kristallinen Projektionslinsen und optischen Systemen
EP1780570
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

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Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Elektrische Energietechnik
171
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92
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67
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60
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55
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39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35

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