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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
11.12.2008
Reflective optical element and method for operating an euv lithography device
WO2008148516
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
11.12.2008
Extreme ultra-violet lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008150167
Optik & Fototechnik
10.12.2008
Ausrichtgerät, lithographisches Gerät, Ausrichtungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1396761
Optik & Fototechnik
10.12.2008
Vorrichtung zur Kompensation transienter thermischer Belastung eines Photolithographiespiegels
EP1679537
Optik & Fototechnik
04.12.2008
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008147175
Optik & Fototechnik
03.12.2008
Photolithographisches System mit montier- und abnehmbarem Sensor
EP1250630
Optik & Fototechnik
27.11.2008
A laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control
WO2008141776
Optik & Fototechnik
26.11.2008
Verfahren zur Parameterbestimmung für lithographische Projektion
EP1429191
Optik & Fototechnik
26.11.2008
System zur Laserstrahlausdehnung ohne Ausdehnung der räumlichen Kohärenz
EP1992991
Optik & Fototechnik
20.11.2008
Radiation generating device, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
WO2008140305
Elektronik & Schaltungstechnik
19.11.2008
Kompensation der Doppelbrechung in Kubisch Kristallinen Projektionslinsen und Optischen Systemen
EP1393114
Optik & Fototechnik
06.11.2008
Extreme Ultraviolet Microscope
WO2008133506
Elektrische Energietechnik
05.11.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1231515
Optik & Fototechnik
30.10.2008
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008130231
Optik & Fototechnik
29.10.2008
Kontrolle einer Position einer Masse, besonders in einem lithographischen Apparat
EP1455231
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
29.10.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1475670
Optik & Fototechnik
29.10.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1530092
Optik & Fototechnik
29.10.2008
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
EP1677154
Optik & Fototechnik
29.10.2008
Optisches Projektionssystem für maskenlose Lithographie
EP1491958
Optik & Fototechnik
22.10.2008
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und damit erzeugte Vorrichtung
EP1517187
Optik & Fototechnik
15.10.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Reflektoranordnung für die Verwendung in diesem Apparat
EP1389747
Optik & Fototechnik
09.10.2008
Radiation source and method for generating electromagnetic radiation
WO2008119478
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
08.10.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Reflektoranordnung für die Verwendung in diesem Apparat
EP1394612
Optik & Fototechnik
08.10.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1429189
Optik & Fototechnik
02.10.2008
Contamination prevention system, lithographic apparatus, radiation source and device manufacturing method
WO2008118009
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
01.10.2008
Verfahren zur Positionierung eines Substrats in einem lithographischen Apparat
EP1124162
Optik & Fototechnik
01.10.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1626310
Optik & Fototechnik
01.10.2008
Verfahren zur Chemischen Reduktion eines Oxidierten Verunreinigungsmaterials oder Reduzierende Oxidation eines Verunreinigungsmaterials und Aufbereitungssystem hierfür
EP1974242
Optik & Fototechnik
01.10.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1975721
Optik & Fototechnik
01.10.2008
Lithographische Projektionsvorrichtung und Geräteherstellungsverfahren damit
EP1975723
Optik & Fototechnik
01.10.2008
Vorrichtung und Verfahren zur In-Situ-Metrologie einer Projektionsoptik
EP1063570
Optik & Fototechnik
01.10.2008
System und Verfahren zur verbesserten Kontrolle der Linienbreite in einem lithographischem Gerät unter Verwendung eines Beleuchtungssystems mit Vorkontrolle der numerischen Apertur
EP1357431
Optik & Fototechnik
18.09.2008
Optimal rasterization for maskless lithography
WO2008110358
Optik & Fototechnik
18.09.2008
Device manufacturing method, lithographic apparatus and a computer program
WO2008111839
Optik & Fototechnik
17.09.2008
Lithographischer Projektionsapparat
EP1411392
Optik & Fototechnik
17.09.2008
Lithographische Vorrichtung mit einer Reinigungseinrichtung und Verfahren zum Reinigen eines Optischen Elements
EP1969427
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
17.09.2008
Kühlvorrichtung
EP1969424
Optik & Fototechnik
12.09.2008
Verfahren zur Messung der Ausgasung sowie Euv-Lithographievorrichtung und Messaufbau
WO2008107136
Optik & Fototechnik
12.09.2008
Removal of deposition on an element of a lithographic apparatus
WO2008108643
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
10.09.2008
Photoreinigung
EP1312983
Optik & Fototechnik

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Elektrische Energietechnik
171
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92
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67
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60
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55
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39
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35

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