ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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29.06.2022
Verfahren und Vorrichtung für Akustische Metrologie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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29.06.2022
Maschinenlernen Basierte Erzeugung von Bildern nach der Entwicklung oder nach dem Ätzen
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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29.06.2022
Elektronenoptische Vorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.06.2022
Detektorsubstrat, Inspektionsvorrichtung und Verfahren zur Probenbeurteilung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.06.2022
Metrologievorrichtung und Metrologieverfahren
Optik & Fototechnik
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29.06.2022
Mikrospiegelanordnungen
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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29.06.2022
Verfahren zur Herstellung einer Kapillare für eine Photonische Hohlkernkristallfaser
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a method for manufacturing a capillary usable as part of a hollow-core photonic crystal fiber. The method comprises obtaining a capillary having capillary wall comprising a first wall thickness; and chemically etching the capillary walls to reduce the wall thickness of the capillary wall. During performance of said etching step a control parameter is locally varied along the length of the capillary, the control parameter relating to reactivity of an etchant used in the etching step, so as to control the etched wall thickness of the capillary wall along the capillary length. Also disclosed is a capillary manufactured to such a method and various devices comprising such a capillary. |
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29.06.2022
Maskenanordnung und Zugehörige Verfahren
Optik & Fototechnik
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29.06.2022
Mikrospiegel-Arrays
Optik & Fototechnik
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22.06.2022
Freie-Elektronen-Laser und Verfahren zum Erzeugen eines Euv Strahlungsbündels unter Verwendung Desselben
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.06.2014
Erteilt am 22.06.2022
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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22.06.2022
Lithographiegerätekomponente und Verfahren
Optik & Fototechnik
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22.06.2022
Metrologieverfahren zur Messung eines Geätzten Grabens und Zugehörige Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
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22.06.2022
Metrologiezielsimulation
Optik & Fototechnik
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22.06.2022
Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung von Elektronendichteverteilungen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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15.06.2022
Breitbandstrahlungsgenerator mit Hohlkern auf der Basis von Photonischen Kristallfasern
Optik & Fototechnik
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15.06.2022
Breitbandstrahlungsgenerator mit Hohlkern auf der Basis von Photonischen Kristallfasern
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
A broadband light source device, being configured for generating a broadband output radiation upon receiving pump radiation, comprising: a hollow-core photonic crystal fiber (HC-PCF) comprising at least one structurally varied portion having at least one structural parameter of the HC-PCF varied with respect to one or more main portions of the HC-PCF, wherein said at least one structurally varied portion comprises at least a first structurally varied portion located downstream of a position along the length of the HC-PCF where the pump radiation will be spectrally expanded by a modulation instability dominated nonlinear optical process, and wherein said at least one structurally varied portion is configured and located such that said broadband output radiation comprises wavelengths in the ultraviolet region. |
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08.06.2022
Vorrichtung und Verfahren zur Inspektion mit Ladungsträgerteilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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08.06.2022
Verfahren und Vorrichtung zur Abbildung eines Nichtstationären Objekts
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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08.06.2022
Vorrrichtung für Geladene Teilchen, Kalibrierverfahren, Prüfverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.06.2022
Metrologische Vorrichtung und Metrologische Verfahren basierend auf der Erzeugung Hoher Oberschwingungen aus einer Diffraktiven Struktur
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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01.06.2022
Messvorrichtung basierend auf der Erzeugung von Hohen Oberschwingungen und Zugehöriges Verfahren
Optik & Fototechnik
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01.06.2022
Rasterelektronenmikroskopiesysteme und -Verfahren für Mehrere Landeenergien
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.06.2022
Pellikelmembran
Optik & Fototechnik
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01.06.2022
Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung eines Lithographischen Herstellungsverfahrens
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.01.2018
Erteilt am 01.06.2022
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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01.06.2022
Verfahren zur Steuerung eines Herstellungsverfahrens und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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25.05.2022
Verfahren und Vorrichtung zur Thermischen Verformung einer Optischen Oberfläche eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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25.05.2022
Objektivlinsengruppenanordnung, Elektronenoptisches System, Elektronenoptisches Systemarray, Verfahren zur Fokussierung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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25.05.2022
Hohlkernfaserlichtquelle und Verfahren zur Herstellung einer Hohlkernfaser
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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25.05.2022
Digitales Holographisches Dunkelfeldmikroskop und Zugehöriges Messverfahren
Optik & Fototechnik
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25.05.2022
Elektrostatische Klemme
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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25.05.2022
Verfahren zur Herstellung einer Gemusterten Materialschicht
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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25.05.2022
Inspektionsverfahren und Inspektionswerkzeug
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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18.05.2022
Substratformmessvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.06.2020
Anhängig
Vertretung
Nouwens, Johannes Wilhelmus Henricus · Veldhoven
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18.05.2022
Messsystem zur Verwendung mit einem Hohlraum zur Lichtverstärkung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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11.05.2022
Konditioniervorrichtung und -Verfahren
Optik & Fototechnik
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11.05.2022
Verfahren zum Aufbringen eines Abscheidungsmodells in einem Halbleiterherstellungsprozess
Optik & Fototechnik
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11.05.2022
Metrologieverfahren und Zugehörige Metrologie- und Lithografievorrichtungen
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.05.2022
Spiegelkalibrierungsverfahren, Positionsmessverfahren, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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11.05.2022
Verfahren zum Konfigurieren eines Produktionsprozesses zur Herstellung eines Halbleiterartikels, Lithographisches Gerät und Computerprogrammprodukt dafür
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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04.05.2022
Verfahren zum Kennzeichnen von Substraten basierend auf Prozessparametern
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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