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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
16.05.2019
Lithographic apparatus and method
WO2019091662
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.05.2019
Electron beam inspection tool and method for positioning an object table
WO2019091903
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.05.2019
Metrology apparatus and a method of determining a characteristic of interest
WO2019091678
Optik & Fototechnik
15.05.2019
Apparat und Verfahren zur optischen Positionsbewertung
EP1653288
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.05.2019
Undulator, Freie-Elektronen-Laser und Lithographisches System
EP3126910
Maschinenelemente & Fluidtechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
15.05.2019
Strahlenverteilungsvorrichtung Lithographisches System und Verfahren
EP3049870
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
15.05.2019
Strahlenteilungsvorrichtung
EP3345023
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.05.2019
Estimation Of Data in Metrology
WO2019086167
Optik & Fototechnik
09.05.2019
Cleaning A Surface Of an Optic Within A Chamber Of an Extreme Ultraviolet Light Source
WO2019086397
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
09.05.2019
Metrology apparatus, method of measuring a structure, device manufacturing method
WO2019086221
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
08.05.2019
Stufensystem, Lithografische Vorrichtung, Verfahren zur Positionierung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3479173
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2019
Messvorrichtung und -Verfahren
EP3292440
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
08.05.2019
Metrologievorrichtung und Verfahren zum Bestimmen einer Eigenschaft einer oder mehrerer Strukturen auf einem Substrat
EP3480554
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
08.05.2019
Schätzung von Daten in der Metrologie
EP3480659
Optik & Fototechnik
02.05.2019
Inspection tool, lithographic apparatus, electron beam source and an inspection method
WO2019081162
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.05.2019
Projection system calibration method
WO2019081167
Optik & Fototechnik
02.05.2019
Apparatus for receiving a conductive fuel
WO2019081105
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
02.05.2019
Mark, overlay target, and methods of alignment and overlay
WO2019081091
Optik & Fototechnik
02.05.2019
System for monitoring a plasma
WO2019081364
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
02.05.2019
Method of determining a value of a parameter of interest, method of cleaning a signal containing information about a parameter of interest
WO2019081211
Optik & Fototechnik
02.05.2019
Metrology method
WO2019081200
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.05.2019
Metrologievorrichtung, Verfahren zur Messung einer Struktur, Vorrichtungherstellungsverfahren
EP3477392
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.05.2019
Verfahren zur Bestimmung eines Wertes eines Interessierenden Parameters, Verfahren zur Reinigung eines Signals mit Informationen über einen Interessierenden Parameter
EP3477391
Optik & Fototechnik
01.05.2019
Inspektionswerkzeug, Lithographische Vorrichtung, Elektronenstrahlquelle und Inspektionsverfahren
EP3477390
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.05.2019
Marke, Überlagerungsmarke und Verfahren zur Ausrichtung und Überlagerung
EP3477389
Optik & Fototechnik
25.04.2019
Motor, dual stroke stage and lithographic apparatus
WO2019076525
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
25.04.2019
Metrology apparatus, lithographic system, and method of measuring a structure
WO2019076690
Optik & Fototechnik
25.04.2019
Scatterometer and method of scatterometry using acoustic radiation
WO2019076697
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
24.04.2019
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Lithografischen Vorrichtung
EP3155481
Optik & Fototechnik
24.04.2019
Scatterometer und Verfahren zur Scatterometrie mittels Akustischer Strahlung
EP3474074
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.04.2019
Method of optimizing the position and/or size of a measurement illumination spot relative to a target on a substrate, and associated apparatus
WO2019072510
Optik & Fototechnik
18.04.2019
Flows of optimization for patterning processes
WO2019072703
Optik & Fototechnik
18.04.2019
Positioning device, magnetic support system and lithographic apparatus
WO2019072529
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
18.04.2019
Low dose charged particle metrology system
WO2019072704
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.04.2019
Positionierungsvorrichtung, Magnetisches Trägersystem und Lithographische Vorrichtung
EP3470925
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
17.04.2019
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP3084525
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Metrologiesystem, Lithographiesystem und Verfahren zur Messung einer Struktur
EP3470926
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Verfahren zur Optimierung der Position Und/oder Grösse eines Messbeleuchtungspunkts in Bezug auf ein Ziel auf einem Substrat sowie Zugehörige Vorrichtung
EP3470924
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Lithografisches Immersionsgerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1498781
Optik & Fototechnik
17.04.2019
Messverfahren
EP3470923
Optik & Fototechnik

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34
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33
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33
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20

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