ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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21.08.2019
Metrologische Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Interessierenden Charakteristik einer Struktur auf einem Substrat
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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21.08.2019
Verfahren und Vorrichtung zum Messen eines Interessierenden Parameters mit Bildebenenerfassungstechniken
Optik & Fototechnik
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14.08.2019
Verfahren zur Bestimmung des Beitrags zu einem Fingerabdruck
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 23.05.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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07.08.2019
Trägervorrichtung, Lithografievorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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07.08.2019
Verfahren zur Optimierung eines Metrologieverfahrens
Optik & Fototechnik
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07.08.2019
Verfahren zur Bestimmung einer Optimalen Fokushöhe für eine Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
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07.08.2019
Elektrostatische Klemme, Lithografievorrichtung und -Verfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.06.2013
Erteilt am 07.08.2019
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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07.08.2019
Positionskodierer, Positionsmesssystem und Lithografische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.10.2015
Erteilt am 07.08.2019
Vertretung
Nouwens, Johannes Wilhelmus Henricus · Veldhoven
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
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31.07.2019
Inspektionsvorrichtung und Inspektionsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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31.07.2019
Messvorrichtung und Verfahren zur Bestimmung eines Substratgitters
Optik & Fototechnik
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31.07.2019
Flüssigkeitshandhabungsstruktur, lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.04.2009
Erteilt am 31.07.2019
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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24.07.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Parametrisierten Geometrischen Modells einer Struktur und Zugehörige Inspektionsvorrichtung sowie Verfahren
Optik & Fototechnik
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24.07.2019
Verfahren zur Messung eines Ziels und Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
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03.07.2019
System zur Überlagerungsmessung, Lithografisches Gerät, und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen unter Verwendung eines Solchen Systems zur Überlagerungsmessung
Optik & Fototechnik
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03.07.2019
Vorrichtung und Verfahren zum Entfernen von Kontaminierenden Teilchen aus einer Komponente einer Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
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26.06.2019
Inspektionswerkzeug und Verfahren zur Bestimmung einer Verzerrung eines Inspektionswerkzeugs
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.06.2019
Laserproduzierte Plasma-Euv-Lichtquelle
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2008
Erteilt am 19.06.2019
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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19.06.2019
Verfahren zur Steuerung einer Fertigungsvorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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19.06.2019
Metrologievorrichtung und Verfahren zur Bestimmung eines Interessierenden Merkmals
Optik & Fototechnik
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13.06.2019
Method for controlling a manufacturing apparatus and associated apparatuses
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.11.2018
Anhängig
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13.06.2019
Method of determining information about a patterning process, method of reducing error in measurement data, method of calibrating a metrology process, method of selecting metrology targets
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2018
Anhängig
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13.06.2019
Measurement method, patterning device and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.11.2018
Anhängig
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13.06.2019
Method for controlling a lithographic apparatus and associated apparatuses
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2018
Anhängig
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13.06.2019
Systems and methods for predicting layer deformation
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.11.2018
Anhängig
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13.06.2019
Systems and methods for tuning and calibrating charged particle beam apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.12.2018
Anhängig
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12.06.2019
Verfahren zur Steuerung einer Lithographischen Vorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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12.06.2019
Verfahren zur Steuerung einer Fertigungsvorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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06.06.2019
Laser beam monitoring system
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 26.10.2018
Anhängig
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06.06.2019
Systems and methods for charged particle beam modulation
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.11.2018
Anhängig
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05.06.2019
Messverfahren, Inspektionsvorrichtung, Strukturierungsvorrichtung, Lithographisches System und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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05.06.2019
Verfahren und Apparat zur Erzeugung überlagerter Strukturen auf einem Substrat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.12.2007
Erteilt am 05.06.2019
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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05.06.2019
Systeme und Verfahren zur Vorhersage von Schichtverformung
Optik & Fototechnik
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05.06.2019
Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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05.06.2019
Verfahren zum Ermitteln von Informationen über ein Musterungsverfahren, Verfahren zur Verringerung von Fehlern bei Messdaten, Verfahren zur Kalibrierung eines Metrologieverfahrens, Verfahren zur Auswahl von Metrologiezielen
Optik & Fototechnik
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31.05.2019
Method and apparatus to determine a patterning process parameter
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.10.2018
Anhängig
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29.05.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Strukturierungsverfahrensparameters
Optik & Fototechnik
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29.05.2019
Lithographische Vorrichtung, Vorrichtung zur Lithographischen Projektion und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.06.2017
Anhängig
Vertretung
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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23.05.2019
Positioning system and method for positioning a stage with respect to a frame
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 18.10.2018
Anhängig
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23.05.2019
Object stage bearing for lithographic apparatus
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.11.2018
Anhängig
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23.05.2019
Beleuchtungsintensitäts-Korrekturvorrichtung zur Vorgabe einer Beleuchtungsintensität über ein Beleuchtungsfeld einer Lithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20