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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
11.04.2019
Method and apparatus for determining alignment properties of a beam of radiation
WO2019068386
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
11.04.2019
Interferometric stage positioning apparatus
WO2019068601
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.04.2019
Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate
WO2019068459
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
10.04.2019
Stufensystem, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3465347
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
10.04.2019
Überwachungsvorrichtung, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Veränderung einer Eigenschaft
EP3304205
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
10.04.2019
Bestimmung von Kantenrauheitsparametern
EP3467589
Optik & Fototechnik
10.04.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung von Ausrichtungseigenschaften eines Strahlungsstrahls
EP3467588
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.04.2019
Dynamic determination of a sample inspection recipe of charged particle beam inspection
WO2019063559
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Methods of inspecting samples with multiple beams of charged particles
WO2019063532
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Calibration method of an inspection tool, and lithographic apparatus
WO2019063180
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.04.2019
Sample pre-charging methods and apparatuses for charged particle beam inspection
WO2019063561
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Image Contrast Enhancement in Sample Inspection
WO2019063558
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Optical system with compensation lens
WO2019063529
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Detection of buried features by backscattered particles
WO2019063432
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Method and apparatus for an advanced charged controller for wafer inspection
WO2019063531
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Optical height detection system
WO2019063433
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Methods and apparatuses for adjusting beam condition of charged particles
WO2019063530
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Metrology method and device
WO2019063313
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2019
Optical Objective Lens
WO2019063528
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.04.2019
Verfahren zur Bestimmung von Kontrollparametern eines Herstellungsverfahrens für Bauelemente
EP3462240
Optik & Fototechnik
03.04.2019
Metrologie in Lithographischen Verfahren
EP3462239
Optik & Fototechnik
28.03.2019
Control system for a lithographic apparatus
WO2019057583
Optik & Fototechnik
28.03.2019
Radiation Source
WO2019057584
Elektronik & Schaltungstechnik
28.03.2019
Method to determine a patterning process parameter
WO2019057578
Optik & Fototechnik
28.03.2019
Methods and apparatuses for protecting a seal in a pressure vessel of a photolithography system
WO2019057514
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
28.03.2019
Radiation Source
WO2019057409
Elektronik & Schaltungstechnik
27.03.2019
Verfahren zur Bestimmung eines Strukturierungsverfahrensparameters
EP3460574
Optik & Fototechnik
27.03.2019
Strukturierungsvorrichtung, Verfahren zur Herstellung einer Strukturierungsvorrichtung, System zur Strukturierung eines Retikels und Lithographische Vorrichtung
EP3460572
Optik & Fototechnik
21.03.2019
A method of aligning a pair of complementary diffraction patterns and associated metrology method and apparatus
WO2019052741
Optik & Fototechnik
21.03.2019
Methods and apparatus for use in a device manufacturing method
WO2019052746
Optik & Fototechnik
21.03.2019
Method of controlling a patterning process, device manufacturing method
WO2019052747
Optik & Fototechnik
20.03.2019
Extraktionskörper für Lithographievorrichtung
EP3455677
Optik & Fototechnik
20.03.2019
Verfahren zum Ausrichten eines Paares Komplementärer Diffraktionsmuster und Zugehörige Metrologievorrichtung und Verfahren
EP3457211
Optik & Fototechnik
20.03.2019
Verfahren zur Steuerung eines Strukturierungsverfahrens, Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3457212
Optik & Fototechnik
20.03.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Verwendung in einem Vorrichtungsherstellungsverfahrens
EP3457213
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Methods and systems for clamping a substrate
WO2019049588
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Method for estimating overlay
WO2019048225
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Metrology in Lithographic Processes
WO2019048145
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Method for determining a control parameter for an apparatus utilized in a semiconductor manufacturing process
WO2019048137
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.03.2019
Lithographic method and apparatus
WO2019048295
Optik & Fototechnik

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