ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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23.11.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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23.11.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1598705
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.05.2005
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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26.10.2005
Appareil lithographique et méthode de fabrication d'un dispositif
EP1566697
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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19.10.2005
Lithographischer Apparat, Kontrollsystem und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1586947
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.04.2005
Anhängig
Vertretung
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05.10.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1582927
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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05.10.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1582930
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.03.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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28.09.2005
Streulichtbestimmung in einem lithographischen Projektionsapparat
EP1411393
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.10.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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28.09.2005
Lithographischer Apparat, Lorentz-Aktuator und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 09.03.2005
Anhängig
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07.09.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1571494
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.02.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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31.08.2005
Verfahren zur Messung der Ausrichtung eines Substrats bezüglich einer Referenz-Ausrichtmarke
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Status
Angemeldet am 10.12.2001
Erteilt am 31.08.2005
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
van Hoef, Antonius Joseph Marie · Veldhoven
Duijvestijn, Adrianus Johannes · Eindhoven
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31.08.2005
Lithographisches Herstellungsverfahren mit einem Überdeckungsmessverfahren
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Status
Angemeldet am 12.12.2001
Erteilt am 31.08.2005
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
van Hoef, Antonius Joseph Marie · Veldhoven
Duijvestijn, Adrianus Johannes · Eindhoven
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31.08.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1569034
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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31.08.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1569035
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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24.08.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1566698
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.08.2005
Lasererzeugtes Plasma-Strahlungssystem mit Kontaminationsschutz
EP1491963
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.06.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.08.2005
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und Drehwinkelkodierer
EP1473597
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.04.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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04.08.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005071486
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.01.2005
Anhängig
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03.08.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1542076
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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03.08.2005
T-Gate Herstellung
EP1560260
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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27.07.2005
Optisches Element, dasselbe verwendender lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1557722
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.01.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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21.07.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005066716
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.01.2005
Anhängig
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20.07.2005
Lithographischer Apparat mit einer temperierten Schleuseneinrichtung
EP1457830
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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14.07.2005
Lithographic apparatus having a debris-mitigation system, a source for producing euv radiation having a debris mitigation system and a method for mitigating debris
WO2005064401
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.12.2004
Anhängig
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14.07.2005
Lithographic apparatus with a debris-mitigation system
WO2005064411
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.12.2004
Anhängig
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06.07.2005
System und Verfahren zur Ansteuerung eines Körpers mittels eines Piezoaktors
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Status
Angemeldet am 09.12.2004
Anhängig
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29.06.2005
Thermische Verformung eines Wafers in einem lithographischen Verfahren
EP1548504
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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23.06.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005057280
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.11.2004
Anhängig
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16.06.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005054955
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.11.2004
Anhängig
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08.06.2005
Lithographischer Projektionsapparat
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08.06.2005
Lithographischer Projektionsapparat
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08.06.2005
EUV-Beleuchtungssystem und Lithographischer Apparat
EP1538484
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2004
Anhängig
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
Winckels, J.H.F., Mr. Ir · Den Haag
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02.06.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005050326
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2004
Anhängig
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18.05.2005
Retikelhalter
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Status
Angemeldet am 27.10.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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18.05.2005
Lithographischer Apparat mit Unterdrückung von Kontamination
EP1531365
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.11.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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11.05.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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11.05.2005
Strahlungsdetektor
EP1530091
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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04.05.2005
Lithographisches Gerät sowie Methode zur Herstellung eines Elements
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Status
Angemeldet am 30.10.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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04.05.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1517188
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.09.2004
Anhängig
Vertretung
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27.04.2005
Spiegel für ein Lithographiegerät, Lithographiegerät mit einem solchen und Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
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27.04.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und eine Messeinrichtung
EP1526408
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.10.2004
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Barendregt, Frank, Drs · Rijswijk
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20