ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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23.08.2006
Lithographischer Projektionsapparat
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09.08.2006
Lithographischer Apparat und Methode zur Bestimmung der Strahlgrösse und -divergenz
EP1420297
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.11.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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02.08.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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Status
Angemeldet am 10.06.2003
Anhängig
Vertretung
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02.08.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
EP1396759
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.08.2003
Anhängig
Vertretung
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26.07.2006
Verfahrung zur Messung von Substratinformationen und Substrat für Gebrauch in einem lithografischen Apparat
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Status
Angemeldet am 22.12.2005
Anhängig
Vertretung
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12.07.2006
Optische Vorrichtung für die Photolithographie
EP1678559
Optik & Fototechnik
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12.07.2006
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
EP1679551
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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12.07.2006
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
EP1679550
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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05.07.2006
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Geräts, Ausrichtverfahren, Computerprogramm, lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1477862
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2004
Anhängig
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05.07.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1677151
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.12.2005
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Vermeulen, Martijn · Rijswijk
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21.06.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, sowie durch dieses Verfahren hergestellte Vorrichtung
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21.06.2006
Verfahren zur Herstellung eines Artikels, dabei hergestellter Artikel, Computerprogramm zur Durchführung des Verfahrens und Robotiksystem
EP1452920
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.02.2004
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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14.06.2006
Lithographischer Projektionsapparat mit mehreren Unterdrückungsnetzen
EP1422570
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2003
Anhängig
Vertretung
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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07.06.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
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07.06.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1612607
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Roberts, Peter David · Manchester
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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31.05.2006
Lithographischer Apparat mit System zur Bestimmung des Abbe-Abstandes
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24.05.2006
Beleuchtungsvorrichtung
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24.05.2006
Latente Überlagerungsmetrologie
EP1659452
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2005
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.05.2006
A lithographic apparatus having a contaminant trapping system, a contaminant trapping system, a device manufacturing method, and a method for trapping of contaminants in a lithographic apparatus
WO2006049489
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2005
Anhängig
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10.05.2006
Lithographisches Gerät und Maskenträger
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26.04.2006
Beleuchtungsoptimierung für spezifische Maskenmuster
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12.04.2006
Lithographischer Projektionsapparat
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15.03.2006
Steuerung eines lithographischen Apparates
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09.03.2006
Imprint lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
WO2006024908
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.06.2005
Anhängig
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08.03.2006
Lithographischer Projektionsapparat
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08.03.2006
Verfahren zur Messung der Aberration eines lithographischen Projektionssystems
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08.03.2006
Kontaminationsschutz mit ausdehnbaren Lamellen
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Status
Angemeldet am 23.12.2003
Erteilt am 08.03.2006
Vertretung
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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08.03.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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01.03.2006
Verwendung einer obersten Schicht auf einem Spiegel für ein Lithographiegerät, Spiegel und Lithographiegerät mit diesem sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
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Status
Angemeldet am 13.10.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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22.02.2006
Belichtungsapparat, Methode und Computer-Programmprodukt zur Erzeugung von Mustern auf adressierbaren Lithographiemasken und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen unter seiner Verwendung
EP1628157
Optik & Fototechnik
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15.02.2006
Optimierung einer kritischen Dimension in der Lithographie
EP1517189
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.09.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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08.02.2006
Lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikel, dabei erzeugter Artikel und Gaszusammensetzung
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01.02.2006
Lithographischer Apparat
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25.01.2006
Verfahren und Apparat zur Ausrichtung, lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und Ausrichtgeräts
EP1615077
Optik & Fototechnik
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18.01.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1403715
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.09.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.01.2006
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Masken zur Benutzung mit Dipolbelichtung
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04.01.2006
Lithographischer Projektionsapparat
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21.12.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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30.11.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1600818
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2005
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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23.11.2005
Lithographischer Projektionsapparat mit kollisionsvermeidender Vorrichtung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20