ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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01.01.2020
Substrattisch, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Lithografischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.11.2016
Erteilt am 01.01.2020
Vertretung
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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01.01.2020
Substrathalter, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.11.2016
Erteilt am 01.01.2020
Vertretung
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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01.01.2020
Verfahren zur Durchführung eines Herstellungsprozesses und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.06.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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01.01.2020
Abstimmungsstrukturierungsvorrichtung basierend auf einer Optischen Eigenschaft
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.06.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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26.12.2019
Method for controlling a manufacturing apparatus and associated apparatuses
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.05.2019
Anhängig
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26.12.2019
Sensor apparatus for lithographic measurements
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2019
Anhängig
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25.12.2019
Verfahren zur Steuerung einer Fertigungsvorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.06.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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19.12.2019
Metrology apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.05.2019
Anhängig
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19.12.2019
Determining significant relationships between parameters describing operation of an apparatus
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.05.2019
Anhängig
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19.12.2019
Wafer inspection based on electron beam induced current
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.05.2019
Anhängig
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19.12.2019
Machine learning based inverse optical proximity correction and process model calibration
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.05.2019
Anhängig
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19.12.2019
System and method for scanning a sample using multi-beam inspection apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 07.06.2019
Anhängig
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19.12.2019
Apparatus for imaging an object at multiple positions
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2019
Anhängig
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18.12.2019
Bestimmung von Signifikanten Beziehungen zwischen Parametern, die den Betrieb einer Vorrichtung Beschreiben
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2018
Anhängig
Vertretung
Willekens, Jeroen Pieter Frank · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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18.12.2019
Reflektor und Verfahren zur Herstellung eines Reflektors
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2018
Anhängig
Vertretung
Willekens, Jeroen Pieter Frank · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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12.12.2019
Methods using fingerprint and evolution analysis
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2019
Anhängig
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12.12.2019
Metrology apparatus and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2019
Anhängig
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12.12.2019
Method for improving a process model for a patterning process
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2019
Anhängig
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12.12.2019
Assembly comprising a cryostat and layer of superconducting coils and motor system provided with such an assembly
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 09.05.2019
Anhängig
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11.12.2019
Erstellung eines Stichprobenplans
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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11.12.2019
Metrologievorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Eigenschaft einer oder mehrerer Strukturen auf einem Substrat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.06.2018
Anhängig
Vertretung
Willekens, Jeroen Pieter Frank · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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11.12.2019
Belichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.01.2018
Anhängig
Vertretung
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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11.12.2019
Lithografisches Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.09.2018
Erteilt am 11.12.2019
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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05.12.2019
Lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.04.2019
Anhängig
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05.12.2019
Measurement apparatus and method of measuring a target
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.05.2019
Anhängig
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05.12.2019
Metrology method, apparatus and computer program
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.05.2019
Anhängig
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05.12.2019
Lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.05.2019
Anhängig
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05.12.2019
Particle beam apparatus
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.05.2019
Anhängig
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05.12.2019
Electron beam apparatus, inspection tool and inspection method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.05.2019
Anhängig
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04.12.2019
Teilchenstrahlvorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.05.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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04.12.2019
Elektronenstrahlvorrichtung, Prüfwerkzeug und Prüfverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.05.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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04.12.2019
Metrologieverfahren, Vorrichtung und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2018
Anhängig
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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04.12.2019
Messvorrichtung und Verfahren zur Messung eines Ziels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.05.2018
Anhängig
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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28.11.2019
Bandwidth calculation system and method for determining a desired wavelength bandwidth for a measurement beam in a mark detection system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.05.2019
Anhängig
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28.11.2019
Method for determining stack configuration of substrate
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.05.2019
Anhängig
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28.11.2019
Apparatus for and method of in situ clamp surface roughening
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2019
Anhängig
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27.11.2019
Positioniersystem für eine Trägerplatte und Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.01.2015
Erteilt am 27.11.2019
Vertretung
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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27.11.2019
Bandbreitenberechnungssystem und Verfahren zum Bestimmen einer Gewünschten Wellenlängenbandbreite für einen Messstrahl in einem Markierungserfassungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.05.2018
Anhängig
Vertretung
Ketting, Alfred · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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21.11.2019
Estimating a parameter of a substrate
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.04.2019
Anhängig
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21.11.2019
Methods and apparatus for calculating electromagnetic scattering properties of a structure
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.04.2019
Anhängig
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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